310]附加方案37
[0311]根据附加方案36所述的设备，其中所述清洗段包括加压清洗器，所述加压清洗器用于从塔顶气体移除所述有机溶剂的衍生物，所述塔顶气体源于来自所述氧化反应器的排放气体，并且用于冷却所述纯化的有机溶剂流的所述装置包括用于将来自所述纯化的有机溶剂流的热量传送至从所述加压清洗器传送至所述氧化反应器的塔底流的装置。
[0312]附加方案38
[0313]根据附加方案33-37中的任一项所述的设备，其中所述清洗段包括常压清洗器，所述常压清洗器用于将所述有机溶剂的衍生物从由所述冷凝器传送至所述常压清洗器的蒸气流移除。
[0314]附加方案39
[0315]根据附加方案38所述的设备，所述设备还包括:
[0316]溶剂气提装置，
[0317]用于将污染的有机溶剂流从所述贮槽进料至所述溶剂气提装置的装置，以及
[0318]用于将蒸气流从所述溶剂气提装置传送至所述气提装置的装置。
[0319]附加方案40
[0320]根据附加方案31-39中的任一项所述的设备，所述设备还包括基本上垂直的内堰板，所述内堰板将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离。
[0321]附加方案41
[0322]根据附加方案40所述的设备，所述设备还包括:
[0323]用于将源于来自第一结晶器的蒸气流的冷凝的第一冷凝物流进料至所述贮槽的装置，所述贮槽布置为使得源于所述第一冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0324]附加方案42
[0325]根据附加方案41所述的设备，所述设备还包括:
[0326]用于将源于来自第二结晶器的蒸气流的冷凝的第二冷凝物流进料至所述贮槽的装置，所述贮槽布置为使得源于所述第二冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。
[0327]附加方案43
[0328]根据附加方案40-42中的任一项所述的设备，所述设备还包括:
[0329]用于将污染的有机溶剂流从所述污染的有机溶剂的贮器经由外部流体通路进料至所述气提塔的装置。
[0330]附加方案44
[0331]根据附加方案40-43中的任一项所述的设备，所述设备还包括:
[0332]用于将干净的有机溶剂流进料至所述纯化的有机溶剂的贮器的装置。附加方案45
[0333]一种用于芳族二羧酸的制备的方法，所述方法包括烃前体在有机溶剂中的催化氧化，所述方法包括以下步骤:
[0334]I)将所述烃前体在所述有机溶剂中在金属催化剂的存在下氧化以提供芳族二羧酸；
[0335]其中所述方法还包括以下步骤:
[0336]II)将所述用于芳族二羧酸的制备的方法中的第一工艺流进料至气提装置，所述气提装置包括气提塔和贮槽，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物；
[0337]III)将纯化的有机溶剂流从所述贮槽移除；以及
[0338]IV)将塔顶流从所述气提塔传送至冷凝器，
[0339]其中，步骤III)中的从所述贮槽移除的纯化的有机溶剂流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度低于步骤II)中的进料至气提装置的所述第一工艺流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度，并且，任选地，
[0340]其中，步骤IV)中的传送至所述冷凝器的塔顶流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度大于步骤II)中的进料至气提装置的所述第一工艺流中的所述有机溶剂的衍生物的质量浓度。
【主权项】
1.一种用于从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述设备包括: 气提装置，所述气提装置包括: 气提塔； 从所述气提塔接收液体的贮槽； 从所述气提塔接收塔顶流的冷凝器；以及 第一工艺流入口； 其中所述贮槽包括 将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离的基本上垂直的内堰板； 将来自所述气提塔的液体导入所述纯化的有机溶剂的贮器的导流板；以及 将纯化的有机溶剂流从所述纯化的有机溶剂的贮器移除的纯化的有机溶剂流出口。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述气提塔、贮槽和冷凝器形成集成式单元。3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述贮槽还包括移除污染的有机溶剂流的出口。4.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述气提塔还包括接收所述污染的有机溶剂流的一部分的入口。5.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述贮槽还包括第一冷凝物流入口。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述第一冷凝物流入口在所述导流板和所述污染的有机溶剂的贮器之间，源于进入所述第一冷凝物流入口的第一冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。7.根据权利要求5所述的设备，其中所述贮槽还包括第二冷凝物流入口。8.根据权利要求7所述的设备，其中所述第二冷凝物流入口在所述导流板和所述污染的有机溶剂的贮器之间，源于进入所述第二冷凝物流入口的第二冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。9.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述贮槽还包括用于接收干净的有机溶剂流的入口。10.根据权利要求9所述的设备，其中接收所述干净的有机溶剂流的入口使所述干净的有机溶剂流进入所述纯化的有机溶剂的贮器。11.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述第一工艺流入口在所述气提塔中或在所述贮槽中。12.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述冷凝器或所述气提塔的上部区域包括将包含所述有机溶剂的衍生物的液体流从所述气提装置移除的液体流出口。13.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述冷凝器包括将包含所述有机溶剂的衍生物的蒸气流从所述冷凝器移除的蒸气流出口。14.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述气提塔是蒸馏塔，所述蒸馏塔包括至少一个理论分离塔板，所述至少一个理论分离塔板由塔盘、规整填料或提供用于塔内的气相与液相之间的质量传递的表面的其他合适的结构提供。15.根据权利要求14所述的设备，其中所述塔盘是筛板塔盘、浮阀塔盘或泡罩塔盘。16.—种用于从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述设备包括: 接收第一工艺流的气提装置，所述气提装置包括: 气提塔； 从所述气提塔接收液体的贮槽；和 从所述气提塔接收塔顶流的冷凝器，以及 制备芳族二羧酸的氧化反应器， 其中，所述设备还包括: 将包含所述有机溶剂的衍生物的流从所述冷凝器传送至所述氧化反应器的装置。17.根据权利要求16所述的设备，所述设备还包括 将所述有机溶剂的衍生物从气态流移除的清洗段，以及 将纯化的有机溶剂流从所述气提装置传送至所述清洗段以将所述有机溶剂的衍生物从所述气态流移除的装置。18.根据权利要求17所述的设备，其中所述清洗段包括将所述有机溶剂的衍生物从源于来自所述氧化反应器的排放气体的塔顶气体移除的加压清洗器和/或将所述有机溶剂的衍生物从蒸气流移除的常压清洗器。19.根据权利要求17或权利要求18所述的设备，所述设备还包括 将一种或多种塔底流从所述清洗段传送至所述氧化反应器的装置。20.根据权利要求17或权利要求18所述的设备，所述设备还包括冷却所述纯化的有机溶剂流的装置。21.根据权利要求20所述的设备，其中所述清洗段包括从源于来自所述氧化反应器的排放气体的塔顶气体移除所述有机溶剂的衍生物的加压清洗器，并且所述冷却所述纯化的有机溶剂流的装置包括将来自所述纯化的有机溶剂流的热量传送至从所述加压清洗器传送至所述氧化反应器的塔底流的装置。22.根据权利要求17或权利要求18所述的设备，其中所述清洗段包括将所述有机溶剂的衍生物从由所述冷凝器传送至其的蒸气流移除的常压清洗器。23.根据权利要求21所述的设备，所述设备还包括 溶剂气提装置， 将污染的有机溶剂流从所述贮槽进料至所述溶剂气提装置的装置，以及 将蒸气流从所述溶剂气提装置传送至所述气提装置的装置。24.根据权利要求17或权利要求18所述的设备，所述设备还包括将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离的基本上垂直的内堰板。25.根据权利要求24所述的设备，所述设备还包括 将源于来自第一结晶器的蒸气流的冷凝的第一冷凝物流进料至所述贮槽的装置，源于所述第一冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。26.根据权利要求25所述的设备，所述设备还包括 将源于来自第二结晶器的蒸气流的冷凝的第二冷凝物流进料至所述贮槽的装置，源于所述第二冷凝物流的液体进入所述污染的有机溶剂的贮器。27.根据权利要求24所述的设备，所述设备还包括 将污染的有机溶剂流从所述污染的有机溶剂的贮器经由外部流体通路进料至所述气提塔的装置。28.根据权利要求24所述的设备，所述设备还包括 将干净的有机溶剂流进料至所述纯化的有机溶剂的贮器的装置。29.一种用于制备芳族二羧酸的设备，所述设备包括 第一结晶器； 第二结晶器； 从来自第一结晶器或第二结晶器的第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述从来自第一结晶器或第二结晶器的第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备包括气提装置，所述气提装置包括: 气提塔； 从所述气提塔接收液体的贮槽； 从所述气提塔接收塔顶流的冷凝器；以及 第一工艺流入口； 其中所述贮槽包括 将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离的基本上垂直的内堰板； 将来自所述气提塔的液体导入所述纯化的有机溶剂的贮器的导流板；以及 将纯化的有机溶剂流从所述纯化的有机溶剂的贮器移除的纯化的有机溶剂流出口。30.一种用于制备芳族二羧酸的设备，所述设备包括 制备芳族二羧酸的氧化反应器； 第一结晶器； 第二结晶器； 从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备包括: 接收第一工艺流的气提装置，并且所述气提装置包括 气提塔； 从所述气提塔接收液体的贮槽；和 从所述气提塔接收塔顶流的冷凝器， 其中所述从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备还包括: 将包含所述有机溶剂的衍生物的流从所述冷凝器传送至所述氧化反应器的装置。
【专利摘要】本公开提供一种用于从第一工艺流回收有机溶剂的衍生物的设备，所述第一工艺流包含所述有机溶剂、水和所述有机溶剂的衍生物，所述设备包括：气提装置，所述气提装置包括：气提塔；从所述气提塔接收液体的贮槽；从所述气提塔接收塔顶流的冷凝器；以及第一工艺流入口；其中所述贮槽包括将纯化的有机溶剂的贮器与污染的有机溶剂的贮器分离的基本上垂直的内堰板；将来自所述气提塔的液体导入所述纯化的有机溶剂的贮器的导流板；以及将纯化的有机溶剂流从所述纯化的有机溶剂的贮器移除的纯化的有机溶剂流出口。
【IPC分类】B01D3/38, C07C51/42, C07C69/14, C07C63/26, C07C67/54, C07C51/265, C07C63/15
【公开号】CN204637629
【申请号】CN201520107979
【发明人】克里斯托弗·霍华德·杰克逊, 伊恩·詹姆斯·奥尔森·罗伯茨, 安东尼·彼得·约翰·林巴赫, 阿努伊·古普塔
【申请人】因温斯特技术公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年2月13日