一种除铁溜槽的制作方法

本实用新型涉及陶瓷制造领域，特别是泥浆或釉浆除铁领域。

背景技术：

目前卫生陶瓷釉浆生产中，原料会含有微量氧化铁，该物质为有害物质，会在釉浆表面形成黑色的杂欠点，影响烧成合格率，影响釉面白度。因此釉浆生产中会有除铁这一工艺。具体的除铁工艺为釉浆经隔膜泵过振动筛后流入除铁器除铁，除铁后的釉浆存储备用。常用的除铁器为电磁除铁器，电磁圈通电后形成磁场，釉浆通过电磁圈时，其中氧化铁等铁质杂点被吸附在电磁圈上，清洗时断电，电磁圈消磁，将电磁圈上铁质杂物清洗干净，同时需将除铁器内腔清洗干净，然而该方法仍然会有部分铁杂质无法除净。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于解决现有技术中的问题，提供一种除铁溜槽，用以提高除铁效果，且便于更换清洗，提高了生产效率。

为达成上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种除铁溜槽，包括机架、溜槽本体、强磁体和塑料薄膜；所述的溜槽本体设在机架上，由底面和侧面组成；所述的强磁体位于溜槽本体的底面的上表面或下表面；当强磁体位于溜槽本体的底面的上表面时，所述的塑料薄膜包覆溜槽本体内壁与强磁体；当强磁体位于溜槽本体的底面的下表面时，所述的塑料薄膜包覆溜槽本体内壁。

进一步地，所述的溜槽本体底面从入料端到出料端向下倾斜。

进一步地，所述的溜槽本体底面与水平面夹角为1°到5°。

进一步地，所述的溜槽本体出料端开口逐步收窄。

进一步地，所述的溜槽本体材料为PVC塑料。

本实用新型所述的技术方案相对于现有技术，取得的有益效果是：

1、溜槽本体底面设有强磁体，以去除釉浆中的氧化铁，提高釉浆白度。

2、用塑料薄膜包覆浆料与溜槽接触面，便于更换和清洗，提高了生产效率。

3、溜槽本体底面从入料端到出料端向下倾斜，提高了釉浆的流速。

4、溜槽本体底面和水平面夹角设置为1°到5°，使釉浆在溜槽中的流速既能提高，也能充分除铁，保证釉浆质量。

5、溜槽本体出料端开口逐步收窄，便于釉浆筒在出料端收集釉浆。

6、溜槽本体材料设置为PVC，材料性质稳定，不会污染釉浆。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例俯视图；

图2为图1的A-A向剖视图。

具体实施方式

为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚、明白，以下结合附图和实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1、图2所示，在本实施例中，除铁溜槽包含机架、溜槽本体2、强磁体3和塑料薄膜4。

溜槽本体2设在机架上，由PVC塑料制成，其形体由底面和侧面组成，且从入料端到出料端1向下倾斜并与水平面呈5°。溜槽本体的出料端1处开口逐步收窄。

强磁体3位于溜槽本体2的底面的上表面(在其他实施例中，也可以固定于溜槽本体2的下表面)。塑料薄膜4包覆溜槽本体2的内壁与强磁体3(在其他实施例中，由于强磁体3装设于溜槽本体2底面的下表面，因此塑料薄膜4也可以只包覆溜槽本体2的内壁)。

从除铁器流出的釉浆首先到达除铁溜槽本体2的入料端，流到塑料薄膜4上，并沿塑料薄膜4向下流经强磁体3，从而将氧化铁留在塑料薄膜4上。再从出料端1流出到釉浆桶中。

未用该除铁溜槽时，釉面明度值一般在87.6±1，在除铁器出口加上除铁溜槽后，釉浆中的氧化铁进一步减少，烧成后釉面明度值上升到88.6±1。

用塑料薄膜4包覆浆料与溜槽接触面，便于更换和清洗，提高了生产效率。

溜槽本体2底面从入料端到出料端向下倾斜，提高了釉浆的流速。

溜槽本体2底面和水平面夹角设置为1°到5°，使釉浆在溜槽中的流速既能提高，也能充分除铁，保证釉浆质量。

溜槽本体2出料端1开口逐步收窄，便于釉浆筒在出料端收集釉浆。

溜槽本体2材料设置为PVC，材料性质稳定，不会污染釉浆。

上述说明描述了本实用新型的优选实施例，但应当理解本实用新型并非局限于上述实施例，且不应看作对其他实施例的排除。通过本实用新型的启示，本领域技术人员结合公知或现有技术、知识所进行的改动也应视为在本发实用新型的保护范围内。