专利名称：滚筒用镀敷装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于对长条状的滚筒、例如凹版印刷中使用的中空圆筒状的凹印滚筒(也称为制版辊)的外周表面实施采用不溶性电极作为版面形成用的版材的镀敷、例如镀铜或镀铬的滚筒用镀敷装置，尤其涉及一种如下的滚筒用镀敷装置，在把持该滚筒的夹盘机构设置热冷却机构，在镀敷处理中冷却滚筒、尤其滚筒端部及夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部中的热的蓄积，从而实现对该滚筒的外周表面的镀敷处理的均匀化。
背景技术：
在凹版印刷中，对凹印滚筒形成与制版信息对应的微小的凹部(单元)而制作版面，在该单元填充墨液并转印在被印刷物上。一般的凹印滚筒以圆筒状的铁芯或铝芯(中空辊)为基材，在该基材的外周表面上形成衬底层、剥离层等多个层，在其上形成版面形成 用的镀铜层(版材)。而且在该镀铜层上通过激光曝光装置形成与制版信息对应的单元，之后实施用于增加凹印滚筒的耐刷力的镀铬等，完成制版(版面的制作)。目前，作为用于对凹印滚筒的外周表面实施镀铜的方法及装置，广泛公知的是使用含磷铜球作为可溶性阳极，其是用一对辊夹盘将凹印滚筒的长边方向两端把持成可旋转且可通电，并收容在贮存有镀敷液的镀敷槽中，在使凹印滚筒旋转的同时，在镀敷液中的含磷铜球(可溶性阳极)和凹印滚筒(阴极)之间流通电流密度10 15A/dm2左右的电流，由此，在作为阴极的凹印滚筒的外周表面析出铜，从而进行镀铜(例如，参照专利文献I及2)。但是，一般在凹印滚筒用镀铜方法及装置中使用的含磷铜球含有磷350 700ppm、氧2 5ppm，其余为铜及杂质，由于不可避免地含有杂质，所以在镀敷处理中产生阳极淤渣，这是在凹印滚筒的外周表面产生疹块(微小突起)或坑(小孔)等缺陷的原因。在半导体制造用等中虽然也有高纯度的含磷铜球，但由于价格高，所以作为凹印滚筒用时因成本方面而不被采用。另外，为了防止镀铜液中的含磷铜球的溶解量变得过多而使得铜离子浓度变高，从而无法进行适当的镀敷处理的情况发生，还需要定期地抽出镀敷液并稀释，调整为适当的铜离子浓度、或处理废液。进而，由于电流在凹印滚筒的两端部附近集中，所以与直体部相比，两端部附近的周面被更厚地镀敷，另外还需要通过事后抛光等来对镀敷厚度实施均匀化的处理。另一方面，除了采用含磷铜球作为可溶性阳极的方法以外，还公知采用不溶性阳极的镀铜方法，作为基于此的凹印滚筒用镀铜方法及装置，有如下技术使用例如在钛板的表面涂敷有氧化铱等的构件作为不溶性阳极，准备镀敷槽和铜的溶解槽，在溶解槽溶解镀铜材料(例如氧化铜或碳酸铜等)，并将其供给向镀敷槽中的镀敷液，在不溶性阳极与形成阴极的凹印滚筒之间通电，实施镀铜(例如，参照专利文献3)。根据上述方法及装置，由于不产生阳极淤渣，因此不会产生疹块或坑等缺陷，但是，凹印滚筒两端部附近的周面被较厚地镀敷这一缺点依然存在。因此，为了消除该缺点，本申请人提出如下的凹印滚筒用镀铜方法及装置在镀敷槽内，将位于凹印滚筒下方的不溶性阳极构成为升降自如，对应于各种大小的凹印滚筒，使不溶性阳极以成为5mm 30mm的间隙的方式接近凹印滚筒的下表面，由此，在凹印滚筒的两端部附近不产生电流集中，可以遍及凹印滚筒的全长实施大致均匀的厚度的镀敷，且还可以自动调节镀敷液的铜浓度及硫酸浓度(参照专利文献4)。另外，进而在上述提案中，鉴于如下情况其一，由于将不溶性阳极直接设置在镀敷液中，所以光泽剂或防焦剂等添加剂的消耗量显著增多；其二，为了防焦，由于电流密度为15 20A/dm2左右，电压为10 15V左右，所以镀敷处理需要长时间，花费电力供给成本；其三，镀敷厚度的均匀化不充分；其四，由于不溶性阳极位于凹印滚筒下方，所以视认性差，操作性也差等，本申请人已经提出如下的凹印滚筒用镀铜方法及装置，将中空圆筒状的凹印滚筒在其长边方向两端把持，并收容在充满镀铜液的镀敷槽中，在以规定速度旋转的同时通电使其成为阴极，并且使在该镀敷槽内内设滑动自如地垂设在凹印滚筒的两侧方且被通电而成为阳极的不溶性阳极而成的一对长条箱状的阳极室隔开规定间隔接近于该凹印滚筒的两侧面，从而在凹印滚筒的外周表面实施镀铜(专利文献5)。
根据上述提案，能够提供一种不管凹印滚筒大小如何，不会产生疹块或坑等缺陷，能够遍及凹印滚筒的全长实施比现有技术更均匀的厚度的镀铜，且能够实现镀铜液的自动的浓度管理，并且可以减少添加剂的消耗量，能够在短时间实施镀敷处理，可以降低电力供给成本，视认性好、处理容易的凹印滚筒用镀铜方法及装置，但是，从遍及凹印滚筒300的全长的镀铜的厚度的均匀性这一观点出发，不一定很充分，在凹印滚筒300的两端部附近(尤其离端部50mm 200mm左右的部分)，由于电流集中，所以与直体部相比，两端部附近的周面被较厚地镀敷，形成150 μ m左右厚的镀敷层这一现象依然未充分解决。本申请人进一步继续锐意研究，提出一种滚筒用镀敷方法及装置，通过分割不溶性电极，调节各分割电极的电位，从而得到可以有效防止滚筒端部的电流集中这一划时代的新见解，不管滚筒大小如何不会产生疹块或坑等缺陷，能够遍及滚筒全长实施更均匀的厚度的镀铜，且能够实现镀铜液的自动的浓度管理，并且减少添加剂的消耗量，可以在短时间实施镀敷处理，降低电力供给成本，视认性好，处理容易，另外还提供一种滚筒用镀敷方法及装置，其能够大幅度地抑制滚筒的两端部附近与直体部相比被更厚镀敷的情况，不需要或简化事后使镀敷厚度均匀化的抛光等处理(专利文献6)。上述的滚筒用镀敷方法，将长条状的滚筒在其长边方向两端把持，并收容于充满镀敷液的镀敷槽中，在以规定速度旋转的同时通电以成为阴极，并且使在该镀敷槽内内设滑动自如地垂设在滚筒的两侧方且可进行规定的通电的不溶性电极而成的一对长条箱状的电极室隔开规定间隔接近该滚筒的两侧面，对该滚筒的外周表面实施镀敷，其中，将所述不溶性电极分割为许多分割电极，并且将与所述滚筒的长边方向的至少两端部附近对应的所述不溶性电极部分分别分割为至少三个分割电极群，各分割电极群具有一个以上的分割电极，控制该分割电极群的电位，调整该滚筒的两端部外周表面的镀敷层的厚度(专利文献6、权利要求I)。另外，上述的滚筒用镀敷装置具备充满镀敷液的镀敷槽；将长条状的滚筒以可旋转且可通电的方式把持长边方向两端并收容在该镀敷槽中的夹盘机构；在该镀敷槽内内设滑动自如地垂设在滚筒的两侧方且可进行规定的通电的不溶性电极而成的一对长条箱状的电极室，使该电极室隔开规定间隔与该滚筒的两侧面接近，对该滚筒的外周表面实施镀敷，其中，将所述不溶性电极分割为许多分割电极，并且将与所述滚筒的长边方向的至少两端部附近对应的所述不溶性电极部分分别分割为至少三个分割电极群，各分割电极群具有一个以上的分割电极，控制该分割电极群的电位以调整该滚筒的两端部外周表面的镀敷层的厚度(专利文献6、权利要求10)。在先技术文献专利文献专利文献I :日本特公昭57-36995号公报专利文献2 :日本特开平11-61488号公报专利文献3 :日本特开2005-29876号公报 专利文献4 :日本特开2005-133139号公报专利文献5 W02006-126518号公报专利文献6 :日本特开2007-224321号公报根据上述提案的滚筒用镀敷方法及装置，确实大幅度地抑制滚筒的两端部附近与直体部相比被更厚镀敷的情况，可以不需要或简化事后使镀敷厚度均匀化的抛光等处理，但是，从使镀敷层的厚度均匀化的观点说，仍不能称为完美。本申请人继续追求在滚筒的镀敷技术中能够形成厚度均匀的镀敷层的技术，得到如下见解在镀敷处理中在滚筒蓄积热，成为高温,且把持该高温滚筒的夹盘机构的把持侧端部也成为高温,其把持功能下降,滚筒的旋转的均匀性下降，进而导致引起镀敷层厚度的均匀性的下降这一事态。另外，若滚筒的温度上升，则含有镀铜及镀铬，镀敷层的硬度下降，尤其存在滚筒的两端面的镀敷层的硬度下降的问题。进而，尤其若夹盘机构的前端部的温度上升，则夹盘机构的前端部被氧化而被氧化皮膜覆盖，导致通电不良，由于电流流通变差，所以如果想要流通更大电流，则存在将产生夹盘机构的前端部的温度上升，氧化加剧，氧化皮膜的形成增大这一恶性循环的问题。
发明内容
因此，本申请人为了消除上述现有技术的问题，进一步研究的结果发现，通过在把持滚筒的夹盘机构设置热冷却机构，在镀敷处理中冷却滚筒、尤其冷却滚筒端部及夹盘机构的滚筒把持部，消除该滚筒、尤其滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部中的热的蓄积，使镀敷处理中的滚筒的热的蓄积均匀化，抑制夹盘机构的前端部的氧化，从而到达本发明。本发明的目的在于，提供一种滚筒用镀敷装置，其可以在滚筒的镀敷技术中实现装置整体的寿命的提高，而且可以实现滚筒表面的镀敷层的硬度的均匀化而消除其硬度不均，且可以抑制夹盘机构的前端部的氧化，可以抑制上述的在夹盘机构的前端部形成氧化皮膜的恶性循环，不管滚筒大小如何都不产生疹块或坑等缺陷，能够遍及滚筒全长实施更均匀的厚度的镀敷。本发明的滚筒用镀敷装置具备充满镀敷液的镀敷槽；夹盘机构，其将长条状的滚筒以可旋转且可通电的方式把持长边方向两端，并将该滚筒收容在该镀敷槽中；以及相对的一对不溶性电极，其在该镀敷槽内与滚筒的两侧面相对地垂设且可进行规定的通电，使该一对不溶性电极隔开规定间隔与该滚筒的两侧面接近，对该滚筒的外周表面实施镀敷，其特征在于，在所述夹盘机构设置热冷却机构，该热冷却机构具有冷却介质并通过使该冷却介质循环来冷却该夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积。所述热冷却机构优选包括主管部，其与所述夹盘机构的滚筒把持部相邻设置；冷却介质用流路，其形成在该主管部的内部并用于使冷却介质流通； 外部流路，其与该冷却介质用流路的流入口及流出口连通；冷却介质，其被封入该冷却介质用流路及外部流路；循环泵机构，其设置于该外部流路，且使封入在该冷却介质用流路及外部流路中的冷却介质从该外部流路经该流入口流入该冷却介质用流路，并且从该冷却介质用流路经该流出口向该外部流路流出；以及冷却装置，其设置于该外部流路，且对从该流出口流出的该冷却介质进行冷却。在本发明的滚筒用镀敷装置中，优选作为所述不溶性电极，具有使下部部分向内弯曲的形状，并且以该不溶性电极的上端部为转动中心可使该不溶性电极转动，通过控制相对于该滚筒的接近间隔，调整该滚筒的外周表面的镀敷层的厚度。在本发明的滚筒用镀敷装置中，作为所述不溶性电极的下部部分的弯曲形状，只要是向内弯曲，就有效果的提高，但优选是与滚筒的外周面的曲面对应的弯曲形状。使所述不溶性电极接近于滚筒侧面的间隔是Imm 50mm左右、优选是3mm 40mm左右、最优选是5mm 30mm左右。这是因为虽然从接近的间隔越窄，镀敷的厚度的均匀化的观点出发越是优选的，但是，如果过窄，则在镀敷处理中存在产生不溶性电极与滚筒接触的事故的危险。能够设所述镀敷液为镀铜液，设所述滚筒为凹印滚筒。另外，所述镀铜液含有硫酸铜、硫酸、氯及添加剂，测量该镀铜液的比重及硫酸浓度，在比重过高时补给水，在硫酸浓度过高时补给氧化亚铜粉末是适当的。由此，不需要现有的定期的镀铜液的维护、废液处理。需要说明的是，优选所述镀铜液由过滤器除去杂质。另外，还可以设所述镀敷液为镀铬液，进行镀铬。发明效果本发明通过在把持滚筒的夹盘机构设置热冷却机构，达成如下显著效果在镀敷处理中冷却滚筒、尤其冷却滚筒端部及夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积，在滚筒的镀敷技术中可以实现装置整体的寿命的提高，此外实现滚筒表面的镀敷层的硬度的均匀化，消除其硬度不均，且可以抑制夹盘机构的前端部的氧化，能够抑制上述的在夹盘机构的前端部形成氧化皮膜这一恶性循环，尤其适用于凹印滚筒的镀敷处理。
图I是表示本发明的滚筒用镀敷装置中在滚筒的夹盘机构设置热冷却机构的构成的一例的主视概略说明图。图2是表示本发明的滚筒用镀敷装置中的不溶性电极的设置方式的一例的摘示放大立体说明图。图3是表示本发明的滚筒用镀敷装置的基本构成的一例的侧面的概略说明图。
图4是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的俯视说明图。图5是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的侧面说明图。图6是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的主视说明图。图7是表示本发明的不溶性电极的动作例的主视说明图。图8是表示本发明的滚筒用镀敷装置的不溶性电极的设置的一例的主视概略说明图。
具体实施例方式以下基于
本发明的实施方式，但图示例只不过是例示，不言而喻，只要不脱离本发明技术思想，可以进行各种变形。图3是表示本发明的滚筒用镀敷装置的基本构成的一例的侧面的概略说明图。图中，符号2是本发明的滚筒用镀敷装置，但作为具体的图示例，对凹印滚筒用镀铜装置进行说明。本发明的凹印滚筒用镀铜装置2是用于对长条中空圆筒状的凹印滚筒300的外周表面实施镀铜的装置，具备镀敷槽10 ;支承凹印滚筒300的一对夹盘机构14、14 ;经母线20、20垂设于该镀敷槽10的一对不溶性电极22、22。对于镀敷槽10，具有与现有的装置(参照专利文献I 3、5、6)大致同样的常用的结构，省略重复的说明，镀敷槽10是充满镀铜液304的镀敷处理用的槽，可将凹印滚筒300以全没的方式浸溃在镀铜液304中。在镀敷槽10的周围设有对溢出的镀铜液304进行回收的回收口 12(参照图3 图5)，在镀敷槽10的下方，具备与回收口 12连通并预先积存镀铜液304的积存槽70 (参照图3)。在积存槽70，内设有用于将镀铜液304保持在规定的液温(例如40°C左右)的加热器86及热交换器88，并设有用于进行镀铜液304的杂质的除去的过滤器80、从积存槽70汲取镀铜液304并使其向镀敷槽10循环的泵P I等(参照图3)。夹盘机构14、14是把持凹印滚筒300的长边方向两端，并将其收容在镀敷槽10的辊夹盘装置，并具备由轴承6支承的主轴16，利用在架台4设置的滚筒旋转马达306经链条C及链轮18驱动夹盘机构14、14以规定速度(例如120rpm左右)旋转，另外，夹盘机构14、14可进行通电，使得凹印滚筒300成为阴极(参照图3)。此外，还适当具备在镀敷槽10的上方开闭自如的盖板8、排气管道11等(参照图3)。本发明的特征在于，通过在把持滚筒的夹盘机构设置热冷却机构，从而在镀敷处理中冷却滚筒、尤其冷却滚筒端部及夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积，使镀敷处理中的滚筒的热的蓄积均匀化，在滚筒的镀敷中进一步实现镀敷的层的厚度的均匀化。图I是表示在本发明的滚筒用镀敷装置的滚筒的夹盘机构设置热冷却机构的构成的一例的主视概略说明图。图3是表示本发明的滚筒用镀敷装置的基本构成的一例的侧面的概略说明图。
在图I及图3中，分别在将滚筒300在其两端部把持的一对夹盘机构14设有热冷却机构100(在图I中，仅图示一方的夹盘机构14)。该夹盘机构14、14通过滚筒把持部(一般被称为夹盘圆锥)14a、14a分别把持滚筒300的两端。所述热冷却机构100设有与所述夹盘机构14的滚筒把持部14a相邻的主管部102。在该主管部102的内部形成有用于使冷却介质104流通的冷却介质用流路106。在该夹盘机构14的后端部14b形成有与该冷却介质用流路106连通且进行该冷却介质104的流入及流出用的流入口 108及流出口 110。112是外部流路，其设置于该主管部102的外部，且与该流入口 108及流出口 110连通。作为上述冷却介质104，适合使用气液二相的冷却介质，例如蒸馏水，但是不言而喻，也可以使用其他公知的冷却介质。所述冷却介质104被封入所述冷却介质用流路106及外部流路112。114是循环泵机构，其设置于该外部流路112。该循环泵机构114起到如下作用使封入该冷却介质用流路106及外部流路112的冷却介质104从该外部流路112经该流入口 108流入该冷却介 质用流路106，并且从该冷却介质用流路106经该流出口 110向该外部流路112流出。116是冷却装置，其设置于该外部流路112，且起到对从该流出口 110流出的该冷却介质104进行冷却的作用。在图3的构成中，当对各不溶性电极22、22施加必要的电位而对滚筒300进行镀敷处理时,滚筒300发热，由于该发热，滚筒300成为高温，把持该滚筒300两端的夹盘机构14、14的滚筒把持部14a、4a也成为高温。通过冷却滚筒、尤其冷却滚筒端部及夹盘机构的滚筒把持部，来消除在该镀敷处理中产生的夹盘机构14、14的滚筒把持部14a、4a的高温化，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积，因此，避免滚筒300的极端的温度上升，另外还避免滚筒把持部14a的温度上升，因此还防止夹盘机构14的把持功能的下降，可以在滚筒的镀敷处理中实现镀敷层的厚度的进一步的均匀化。图8是表示本发明的滚筒用镀敷装置中的不溶性电极的设置的一例的主视概略说明图。图2是本发明的滚筒用镀敷装置的要部的摘示放大立体说明图。在本发明的凹印滚筒用镀铜装置2中，如图8所示，在支承杆23、23上经辅助部件21安装母线20、20，在该母线20、20上将不溶性电极22、22在镀敷槽10内与被把持于夹盘机构14的凹印滚筒300的两侧方相面对地垂下设置，作为不溶性电极22采用的是在钛板的表面涂敷有氧化铱等的构件。 在本发明中，如图8及图2所示，所述不溶性电极22、22还可以采用具有使其下部部分向内弯曲而成的形状的结构。作为不溶性电极22、22的下部部分的弯曲形状，只要向内弯曲，效果就提高，但形成与凹印滚筒300的外周面的曲面对应那样的弯曲形状是合适的。进而，该不溶性电极22、22构成为以其上端部为转动中心而可使该不溶性电极22、22转动，通过控制相对于该凹印滚筒300的接近间隔，从而可以调整该凹印滚筒的外周表面的镀敷的层的厚度。虽然该不溶性电极22、22的可转动的机构只要采用周知的转动机构即可，但可以采用例如图7所示的机构。图7是表示本发明的不溶性电极的动作例的主视说明图。在图7中，300A假设表示最大径的滚筒，300B假设表示最小径的滚筒。符号64是安装于镀敷槽10的旋转轴。在该旋转轴10上安装母线20，在该母线20的前端部分装配不溶性电极22。通过这样的结构，通过使该旋转轴10转动，从而母线20转动，伴随与此，不溶性电极22转动。因此，如图7所示，可以对应于滚筒300、300A、300B的直径使该不溶性电极22转动，将其下端部分相对于滚筒300、300A、300B的表面的接近距离控制在最佳位置，从而进行镀敷。下面，虽然对于使一对不溶性电极22、22在凹印滚筒300的两侧方滑动自如的机构没有特别限定，但基于图4 图6说明一例。图4是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的俯视说明图。图5是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的侧面说明图。图6是表示本发明的不溶性电极的滑动机构的一例的主视说明图。如图4 图6所示，在镀敷槽10的正面外方立设有架台4，在架台4的内壁面设有线性导轨50、52。与线性导轨50,52平行地设有齿条60、62，齿条60、62通过平齿轮35、38的正反转而往复运动，并通过安装架框58、59连结于与线性导轨50、52可滑动地卡合的引导部件54、55。
使齿条60、62往复运动的平齿轮35、38分别以平齿轮35和架台4的外壁面侧的链轮45同轴转动的方式被安装构件40固定装配在架台4上，另一方面，平齿轮38以和架台4的外壁面侧的链轮48同轴转动的方式被安装构件39固定装配在架台4上。在链轮45的正下方，链轮44被设置成与平齿轮34同轴转动，在另一方的链轮48的正下方，将链轮47设置成与链轮46同轴转动。在架台4的外壁面，通过安装角钢31设置齿轮传动马达30，且具备平齿轮32。以与平齿轮32卡合的方式将平齿轮33设置成与链轮43同轴转动，在链轮43、46之间卷挂链条Cl，在链轮44、45之间卷挂链条C2，在链轮47、48之间卷挂链条C3。因此，通过齿轮传动马达30的正反转驱动，平齿轮35、38正反转，使齿条60、62往复运动，与之连动，不溶性电极22、22可沿着线性导轨50、52正确地滑动(参照图4 图5)。作为使不溶性电极22、22接近凹印滚筒300的侧面的间隔，是Imm 50mm左右，优选是3mm 40mm左右,最优选是5mm 30mm左右。这是因为从镀敷厚度的均勻化的观点出发，可以说使不溶性电极22、22越接近越好，但是如果过于接近，则在镀铜处理中存在凹印滚筒300与不溶性电极22、22接触的危险。本发明的凹印滚筒用镀铜装置2还最好具备专利文献5所述那样的镀铜液自动管理机构，但省略详细的说明。镀铜液自动管理机构是用于调整在积存槽积存的镀铜液的铜浓度及硫酸浓度的管理机构。当镀铜液包括例如硫酸铜(CuSO4 · 5H20)浓度200 250g/L、硫酸(H2SO4)浓度50 70g/L、氯(Cl)浓度50 200ppm及光泽剂或防焦剂等添加剂浓度1 IOmL/L的情况下，随着对凹印滚筒的镀铜的进行，镀铜液中的铜离子浓度减少，游离的硫酸增加。因此,减少的铜离子浓度为了通过添加氧化亚铜(CuO)，产生CuCHH2SO4 — CuS04+H20这一反应来调整铜离子浓度，导入镀铜液自动管理机构。由此，不需要现有的定期的镀铜液的维护或废液处理，因此优选。实施例以下例举实施例对本发明进行更具体的说明，但这些实施例只不过是例示，不言而喻不是限定性的解释。在以下的实施例I 实施例3中，采用下述的共通构成。采用图3所示构成的装置作为镀敷装置。作为镀铜液，使用的是硫酸铜浓度220g/L、硫酸浓度60g/L、氯浓度120ppm、添加剂包含“Cosmo RS-MU”(大和特殊(株)制造贩卖)5m L/L、“Cosmo RS-1”(大和特殊(株)制造贩卖)2mL/L的硫酸镀铜液。作为由镀铜液自动管理机构补给的粉末，使用的是氧化亚铜粉末即“易溶性氧化铜(ES-CuO) ” (鹤见曹达(株)制造贩卖)。作为不溶性电极，使用的是在钛板的表面上涂敷有氧化铱的构件。(实施例I)作为凹印滚筒，使用圆周500mm、全长IlOOmm的招芯的圆筒形基材,利用设有图I所示的热冷却机构的夹盘机构夹住凹印滚筒的两端并装配在镀敷槽上，通过由电脑控制的滑动机构使不溶性电极向凹印滚筒侧面接近到30mm，使镀铜液溢出，使凹印滚筒全都没入。设凹印滚筒的旋转速度为120rpm，液温40°C，电流密度16A/dm2 (总电流890A、电压7V)。如图8及图2所示，使用下端部分向内弯曲的形状的电极。在该条件下进行镀铜直到厚度为100 μ m。镀敷处理所需时间约20分钟。通过激光测量器测定被镀敷处理的滚筒的端面形状。镀敷表面未产生疹块或坑，能够遍及凹印滚筒的全长实现厚度均匀的镀敷。尤其，在凹印滚筒的两端部，也保证镀敷厚度的均匀性，可以大幅度地抑制凹印滚筒的两端部附近与直体部相比被更厚地镀敷的情况发生。
(实施例2)作为凹印滚筒，使用圆周430mm、全长IlOOmm的招芯的圆筒形基材，除此以外，与实施例I同样进行镀敷处理，得到与实施例I同样的结果。(实施例3)作为凹印滚筒，使用圆周920mm、全长IlOOmm的招芯的圆筒形基材，除此以外，与实施例I同样进行镀敷处理，得到与实施例I同样的结果。在上述的发明的实施方式中，说明了对凹印滚筒实施镀铜的例子，但本发明不限于该例子，即使在对凹印滚筒实施镀铬的情况下也可以适用，另外在对其他的滚筒状的被镀敷物实施镀铜以外的镀敷的情况下也可以适用，例如，同样可适用于对滚筒筛印刷用的印刷滚筒进行镀镍的情况。另外，在上述的发明的实施方式中，作为热冷却机构100说明了图I所示的构造，但还可以适用例如热管机构等公知的热冷却机构。符号说明2 :凹印滚筒用镀铜装置，4 :架台，6 :轴承，8 :盖板，10 :镀敷槽，11 :排气管道，12 回收口，14 :夹盘机构，14a :夹盘机构的前端部、滚筒把持部，14b :夹盘机构的后端部，16 主轴，18 :链轮，20 :母线，21 :辅助部件，22 :不溶性电极，23 :支承杆，30 :齿轮传动马达，31 :安装角钢，32、33、34、35、38 :平齿轮，39 :安装构件，40 :安装构件，43、44、45、46、47、48 链轮，50、52 :线性导轨，54、55 :引导部件，58、59 :安装架框，60、62 :齿条，70 :积存槽，80 过滤器，86 :加热器，88 :热交换器，100 :热冷却机构，102 :主管部，104 :冷却介质，106 :冷却介质用流路，108 :流入口，110 :流出口，112 :外部流路，114 :循环管，116 :冷却装置，300 凹印滚筒，302 :整流器，304 :镀铜液，306 :滚筒旋转马达，C、C1、C2、C3 :链条，P :循环泵，Pl 栗。
权利要求
1.一种滚筒用镀敷装置，其具备充满镀敷液的镀敷槽；夹盘机构，其将长条状的滚筒以可旋转且可通电的方式把持长边方向两端，并将该滚筒收容在该镀敷槽中；以及相对的一对不溶性电极，其在该镀敷槽内与滚筒的两侧面相对地垂设且可进行规定的通电，使该一对不溶性电极隔开规定间隔与该滚筒的两侧面接近，对该滚筒的外周表面实施镀敷，其特征在于，在所述夹盘机构设置热冷却机构，该热冷却机构具有冷却介质并通过使该冷却介质循环来冷却该夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积。
2.如权利要求I所述的滚筒用镀敷装置，其特征在于，所述热冷却机构包括主管部，其与所述夹盘机构的滚筒把持部相邻设置；冷却介质用流路，其形成在该主管部的内部并用于使冷却介质流通；外部流路，其与该冷却介质用流路的流入口及流出口连通；冷却介质，其被封入该冷却介质用流路及外部流路；循环泵机构，其设置于该外部流路，且使封入在该冷却介质用流路及外部流路中的冷却介质从该外部流路经该流入口流入该冷却介质用流路，并且从该冷却介质用流路经该流出口向该外部流路流出；以及冷却装置，其设置于该外部流路，且对从该流出口流出的该冷却介质进行冷却。
3.如权利要求I或2所述的滚筒用镀敷装置，其特征在于，所述镀敷液是镀铜液或镀铬液，所述滚筒是中空圆筒状的凹印滚筒。
全文摘要
提供一种滚筒用镀敷装置，在滚筒的镀敷技术中可以实现装置整体的寿命的提高，且实现滚筒表面的镀敷层的硬度的均匀化，消除其硬度不均，且可以抑制夹盘机构的前端部的氧化。滚筒用镀敷装置包括充满镀敷液的镀敷槽；将长条状的滚筒以可旋转且可通电的方式把持长边方向两端并收容在该镀敷槽中的夹盘机构；在该镀敷槽内相对于滚筒的两侧面垂设且可进行规定的通电的相对的一对不溶性电极，其中，在所述夹盘机构设置热冷却机构，该热冷却机构具有冷却介质，通过使该冷却介质循环来冷却该夹盘机构的滚筒把持部，消除在该滚筒、尤其在滚筒端部及该夹盘机构的滚筒把持部的热的蓄积。
文档编号C25D7/04GK102933751SQ201180027638
公开日2013年2月13日 申请日期2011年9月27日 优先权日2010年10月1日
发明者重田龙男 申请人:株式会社新克