PVD涂层电化学脱膜装置的制作方法

文档序号:16907842发布日期:2019-02-19 18:27阅读:419来源:国知局
PVD涂层电化学脱膜装置的制作方法

本实用新型涉及电化学脱膜技术领域,尤其涉及一种PVD涂层电化学脱膜装置。



背景技术:

近年来,随着技术的发展,对工具、模具、零部件等工件的表面硬度、耐磨性、抗高温氧化、抗腐蚀性要求越来越高,而PVD涂层由于可以增加工件表面的耐磨性、抗腐蚀性等特点得到广泛使用。并且,高速钢、模具钢等基体材料的工件进行PVD涂层后,使用后还可以进行退涂、重新涂层,工件重复利用率大大提升,从而提高生产效率、降低减少生产成本。

一般,PVD涂层的脱膜可以分为化学脱膜和电化学脱膜,对于一些含有Cr的PVD涂层,如CrN、AlCrN、AlTiCrN等,因与工件基体结合牢固,使用一般化学脱膜方法很难脱膜干净,只能使用电化学脱膜方法脱膜,为此,需要研究开发一种适用于电化学脱膜方法,大大提升含Cr涂层的脱膜效率,缩短交货期,提高市场竞争力,降低生产成本。



技术实现要素:

本实用新型的目的是针对现有技术的缺陷,提供一种操作简单方便、脱膜时间短、脱膜均匀性好、脱模过程可控性好的PVD涂层电化学脱膜装置。

本实用新型是通过如下技术方案实现的:一种PVD涂层电化学脱膜装置,包括电源、阴极、阴极环、阳极、装有脱膜液的脱膜槽及装有待脱膜工件的脱膜框,所述脱膜框浸泡在所述脱膜槽的脱膜液内,所述电源通过阴极与阴极环相连,阴极环环绕包围在脱模框外面,电源通过阳极与脱膜框连接,施加电源,与阳极相连的脱膜框内的工件表面不断失电子,待脱膜工件表面的PVD涂层开始不断剥落退掉,直至PVD涂层完全退涂掉。

为了能够一次性对多个工件进行脱膜,并防止各工件之间出现干涉,本实用新型对脱膜框进行简单设计,所述脱膜框包括主框架、行插板及列插板,所述主框架四周分别开设有若干卡槽,所述行插板及列插板上分别开设有若干卡槽,所述行插板、列插板及主框架的卡槽可相互卡合,主框架与行插板、列插板之间围成多个可以容纳待脱膜工件的矩形容纳槽。

作为优选,所述脱膜液是NaOH和Na2CO3混合水溶液,其中NaOH与Na2CO3含量比为6:7。

本实用新型PVD涂层电化学脱膜装置的有益效果是:该PVD涂层电化学脱膜装置脱膜时间短,脱膜均匀性好,可以完全去除工件表面的PVD涂层,无残留,脱模过程可控性高,对工件的侵蚀最小化,脱膜效率高,缩短交货期,提高市场竞争力,降低生产成本。

附图说明:

图1为本实用新型的PVD涂层电化学脱膜装置的结构示意图;

图2为本实用新型的脱膜框的结构示意图;

图3为本实用新型的主框架的结构示意图;

图4为本实用新型的行插板、列插板的结构示意图;

图中:1.电源,2.脱膜槽,3.脱膜液,4.脱膜框,41.主框架,42.行插板,43.列插板,44.卡槽,5.待脱膜工件,6.阴极环。

具体实施方式:

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易被本领域人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。本实用新型所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本实用新型,而非用以限制本实用新型。

如图1所示,一种PVD涂层电化学脱膜装置,包括电源1、阴极、阴极环6、阳极、装有脱膜液3的脱膜槽2及装有待脱膜工件5的脱膜框4,所述脱膜框4浸泡在所述脱膜槽2的脱膜液3内,所述脱膜液3是NaOH和Na2CO3混合水溶液,其中NaOH与Na2CO3含量比为6:7,所述电源1通过阴极与阴极环6相连,阴极环6环绕包围在脱模框4外面,电源1通过阳极与脱膜框4连接。

如图2-4所示,所述脱膜框4包括主框架41、行插板42及列插板43,所述主框架41包括底板及与底板相垂直的四块安装板,四块安装板上分别开设有若干卡槽44,所述行插板42、列插板43为矩形板,行插板42、列插板43上分别开设有若干同样的卡槽44,所述行插板42、列插板43及主框架41的卡槽44可相互卡合,主框架41与行插板42、列插板43之间围成多个可以容纳待脱膜工件5的矩形容纳槽。

将待脱膜工件5放在脱膜框4中,然后放入脱膜槽2中,加入一定浓度的脱膜液3,将阴极6放入脱膜液3中并围绕在脱模框4四周,阳极连接主框架4,脱膜框4及其中的待脱膜工件5作为阳极,然后施加电源,开始脱膜,与阳极相连的待脱膜工件5不断失电子,工件表面的PVD涂层逐渐剥落,最终完全退掉。该PVD涂层电化学脱膜装置脱膜时间短,脱膜均匀性好,可以完全去除工件表面的PVD涂层,无残留,脱膜效率高,脱膜过程可控性好,使脱膜过程中侵蚀工件基体最小化。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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