专利名称：用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及陶瓷构件，特别是涉及一种用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件。
技术背景 目前，在电力、冶金、矿山等诸多行业的输料系统中，大多采用钢材加工制成的金属圆筒里面内嵌耐磨陶瓷构件作为输送载体。在实际使用中，由于加工精度较低或不一致的原因，在工程应用中，工作介质粉尘和流体容易渗透到陶瓷构件的接缝里，对金属管道内壁造成磨损，尤其是现有的陶瓷构件其端面为平面，这样形成的接缝对防止流体从接缝处流出不能起到双层防护作用，且当相邻两陶瓷构件的端面错开时，会使得相邻端面的接触面积减小，更会影响陶瓷构件的密封效果和耐磨效果，为了克服这种结构上的不足，势必要在工艺上提高加工精度，从而导致加工成本过高。
实用新型内容本实用新型的目的是为解决上述技术的不足，提供一种用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，本实用新型提供的陶瓷构件的端面为凹面和凸面，能够有效解决接缝处、尤其是错开时的密封效果不佳的问题，进而提高了耐磨效果。为了达到上述目的，本实用新型的技术方案是一种用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，所述的陶瓷构件为管状，其两端面设置为相互配合的凸面和凹面，所述凸面径向自内而外依次设置的斜面一和平面一构成；所述凹面径向自内而外依次设置的斜面二和平面二构成。进一步的，所述斜面一和斜面二平行设置。进一步的，所述斜面一与轴向呈40 ° — 60 °，所述斜面二与轴向呈40 ° —60 ° 。采用上述技术方案，本实用新型的技术效果有I、本实用新型陶瓷构件端面的斜面倾斜方向和流体的流动方向一致，使流体不容易渗透到陶瓷构件的接缝里。2、本实用新型陶瓷构件端面的凹面和凸面结构，其独特的斜面和平面设计，使其密封效果更好，即使流体渗透到接缝斜面里，平面会起到第二层防护效果，有效防止流体渗入陶瓷构件的接缝处，进而避免流体接触到设备的内腔面，防止内腔面受到磨损。3、本实用新型的两端面，即使接缝处出现一定程度的错开，由于其双层防护的作用，也不会影响陶瓷构件的密封效果和耐磨效果，进而降低了对于陶瓷构件端面的加工精度要求，降低了加工成本。
图I是本实用新型结构示意图；图2是本实用新型实施例的结构示意图；[0013]图3是现有的陶瓷构件结构示意图；图4是本实用新型陶瓷构件错开示意图；其中1、陶瓷构件,2、凸面，3、凹面，4、管体，21、斜面一，31、斜面二，22、平面一，
32、平面二，5、第一错开部，6、第二错开部。
具体实施方式
如图I所示，一种用于设备内腔面的耐 磨陶瓷构件，陶瓷构件I为管状，其两端面设置为相互配合的凸面2和凹面3，以实现相邻的陶瓷构件I能够首尾插接，进而保证相邻陶瓷构件相接端面之间的密封性能；其中的凸面2径向自内而外依次设置的斜面一 21和平面一 22构成，斜面一 21与轴向呈40° — 60 ° ;其中的凹面3径向自内而外依次设置的斜面二 31和平面二 32构成，斜面二 31与轴向呈40。一 60°。且斜面一 21和斜面二 31平行设置。如图2所示，为本实用新型陶瓷构件的具体应用，即将其嵌装在管体4的管腔内。具体的，陶瓷构件I为多个陶瓷片沿轴向拼接在一起，斜面一 21与斜面二 31平行设置，且斜面一 21与斜面二 31的倾斜方向设置为与流体的流动方向相同，陶瓷构件I的斜面一 21与斜面二 31的方向平行设置，使流体不容易渗透到耐磨陶瓷构件的接缝内，斜面和平面的结构设计，即使少量流体渗透到斜面里，也可以通过相邻平面的对接处对流体的渗透起到第二层防护。本实用新型中相邻的陶瓷构件I的斜面和平面的设计使得防止流体从接缝处流出起到双层防护作用，端面凹凸设置，即一端面沿轴向向外凸出，另一端面沿轴向向内凹陷，且凹凸对应能够使得相邻的陶瓷构件紧密配合，双层防护，密封效果好，能够很有效的防止粉尘由接缝处渗入，进而避免流体接触到管体4的内腔面，有效达到耐磨效果。而当相邻陶瓷构件I相错开时，如果错开方式为沿流体流动方向由高面到低面(如图4所示的第一错开部5)，则会在错开处形成涡流，进而可能导致流体渗入斜面的接缝内，但是由于平面交接处的防护，能够有效防止渗入的流体进一步渗入，避免其接触到管体4的内腔面；如果错开方式为沿流体流动方向由低面到高面(如图4所示的第二错开部6)，则流体不断的冲刷高出的部分，使其相对较快的磨损至平整，此时仍有部分斜面和平面相接触，仍然能够有效防止流体渗入接缝内。因此，本实用新型的陶瓷构件在具体应用时，拼接时一定程度的错开不会影响耐磨效果，进而降低了对于陶瓷构件的加工精度，减少了工作时间，降低了加工成本，提高了加工质量。最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
权利要求1.一种用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，其特征在于所述的陶瓷构件(I)为管状，其两端面设置为相互配合的凸面(2)和凹面(3)，所述凸面(2)径向自内而外依次设置有斜面一(21)和平面一(22);所述凹面(3)径向自内而外依次设置有斜面二(31)和平面二(32)。
2.根据权利要求I所述的用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，其特征在于所述斜面一(21)和斜面二(31)平行设置。
3.根据权利要求2所述的用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，其特征在于所述斜面一(21)与轴向呈40 ° — 60°，所述斜面二(31)与轴向呈40 ° — 60 °。
专利摘要本实用新型提供了一种用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，所述的陶瓷构件为管状，其两端面设置为相互配合的凸面和凹面，所述凸面径向自内而外依次设置的斜面一和平面一构成；所述凹面径向自内而外依次设置的斜面二和平面二构成；本实用新型提供的用于设备内腔面的耐磨陶瓷构件，斜面的倾斜方向和流体的流动方向一致，使流体不容易渗透到陶瓷构件的接缝里，凹面和凸面结构对加工精度的要求不是很高，节省加工成本。
文档编号F16L57/06GK202580484SQ20122023978
公开日2012年12月5日 申请日期2012年5月25日 优先权日2012年5月25日
发明者冯万春 申请人:北京中电联众电力技术有限公司