专利名称：大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种有机挥发物真空密封取样室，特别涉及一种可以使用在大面积物体表面之有机挥发物真空密封取样室。
背景技术：
根据摩尔定律(Moor’s law)所预测，所有的电子组件的特征尺寸日趋缩小，因此生产过程中任何微小杂质如微粒子、有机物与化学污染等，都可能造成成品率(yield)降低，而且随着进入深亚微米的工艺，杂质相对影响的程度也日益严重，所以对杂质的监控为各家半导体厂的无尘室的重要课题，但有形的污染物如微尘、资料文件上的碳粉等都可以在进入无尘室前通过管制或由洗尘室可去除，或通过机械手臂等较无污染源的机械自动化处理，但是有机挥发物，是一种不易管制的无形污染物，因此有机挥发物污染成为新半导体工艺中对于无尘室的洁净度严格控制的对象。
单就半导体工艺在生产组件时一些必备的物质而言，例如，洁净室建材、工艺用材料、园片储存用盒(pod)和卡匣(cassette)、传输工具等会放出大量的挥发性有机分子，未反应的单体(monomer)、寡聚合体(oligomer)与微量的塑料添加剂，而产生有机分子附着在园片表面，将使工艺参数改变，造成组件的成品率降低。因此，在对有机挥发物的监控过程中，如何有效地从被监控物体中取得有效的样品，是进行有机挥发物监控分析的第一步，在通常的技术中，针对将欲进入无尘室中的物品，进行切割形成一特定体积后，置入具一定体积的样品室中使它释放挥发物，然后收集样品室内的气体进行分析，来判断所述物品进入无尘室后是否会有引入有机挥发物污染的潜在危险性。
但是，这样的分析方式是属于破坏性的分析方式，对如墙体这样大面积的物体，就无法置入所述样品室内，且对不易切割或与地面呈角度的物体表面进行挥发物分析，将造成分析上的困难。因此，本发明在针对上述问题提出一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，来解决上述问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，它能够对大面积的物体表面进行挥发物分析。
本发明的另一目的在于提供一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，它能避免含有挥发性物质的物品进入无尘室，所可能造成的工艺参数改变。
本发明的再一目的在于提供一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，它能避免含有挥发性物质的物品进入无尘室，所可能造成的组件成品率降低。
本发明的又一目的在于提供一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，它能够不使用胶带而在建筑物的天棚或墙壁上安全的使用。
为达上述目的，本发明是这样实现的，一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，它的主要结构包括一上端具有至少一载气进入孔与一载气收集孔，以及下端具有一个在进行有机挥发物测量测量时与一待测物接触的开口的取样室壳体；一由所述开口的外周缘向外延伸所形成凸缘；一真空槽，它设于所述凸缘底面上，且它的一端为一开放端；以及一设于所述凸缘上，且所述真空抽气孔与所述真空槽相连通的真空抽气孔。
本发明的有益效果是避免含有挥发性物质的物品进入无尘室时可能造成的工艺参数改变以及由此带来的成品率下降的问题，并且能在不使用胶带的情况下在建筑物的天棚或墙壁上安全的使用。避免了传统取样室对较大面积物品取样不便利的问题，且能够无使用胶带而吸附在与地面间具有角度的平面上，免除胶带的损耗与可能带来的污染。
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明的实际应用的示意图。
标号说明10取样室壳体12开口14凸缘16载气进入孔18载气收集孔20密封圈22密封圈24真空槽26真空抽气孔
28导流装置30待测物32封闭空间具体实施方式
以下结合附图及实施例进一步说明本发明的结构特征及所达成的有益效果。
本发明为一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，图1为本发明的结构示意图，如图所示本发明大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室构造包括一取样室壳体10，它的下端具有一开口12，所述开口12的外周缘向外延伸形成一凸缘14，而取样室壳体10的上端具有一载气进入孔16与一载气收集孔18；凸缘14与开口12同侧的面上设有两个分别环绕凸缘14的密封圈20、22，其所述两个密封圈20、22构成一具开放端的真空槽24，且所述两个密封圈20、22材质可为具有弹性的橡胶，凸缘14上具有一连通至真空槽24的真空抽气孔26；另一方面，为使气流能够接近与待侧物的界面边缘，在取样室壳体10上端内侧壁更可设置有一导流装置28。
图2为本发明的实际应用的示意图，如图所示，首先，将取样室壳体10置于待侧物30的表面上，并使开口12面向所述待测物的欲进行测量区域表面，此时两密封圈20、22与待侧物30表面接触，使得真空槽24与待侧物30的表面形成封闭空间32，然后由真空抽气孔26抽器，使真空室24成为负压状态，此时，在外界大气压力下，将使取样室壳体10吸附于待侧物30表面，这样，即可避免通常取样室在进行与地面呈角度的物品，如建筑物的天棚或墙壁上的测量测量时，需利用如胶带将取样室粘附于待测物上的技术问题，且如果在无尘室中使用如胶带类的产品，它所含的挥发物质将可能造成的污染，接着，由载气进入孔16通入一洁净空气，使所述洁净空气进入取样室壳体10，并沿着导流装置28贴近待测物30表面，然后，由载气收集孔18将已含带有机挥发物的洁净空气收集，最后使用相应的分析仪器如不锈钢采样筒/气相层析质谱仪法进行分析。
以上所述的实施例仅为了说明本发明的技术思想及特点，其目的在使本领域的普通技术人员能够了解本发明的内容并据以实施，本专利的范围并不仅局限于上述具体实施例，即凡依本发明所揭示的精神所作的同等变化或修饰，仍涵盖在本发明的保护范围内。
权利要求
1.一种大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，其特征在于包括有一取样室壳体，它的上端包含有至少一载气进入孔与一载气收集孔，下端具有一开口，所述开口在进行有机挥发物测量测量时与所述待测物接触；一凸缘，它由所述开口的外周缘向外延伸所形成；一真空槽，它设于所述凸缘底面上，且它的一端为一开放端；以及一真空抽气孔，它设于所述凸缘上，且所述真空抽气孔与所述真空槽相连通。
2.根据权利要求1所述的大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，其特征在于所述真空槽由两个位于所述凸缘底面的密封圈与所述凸缘底面所构成。
3.根据权利要求2所述的大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，其特征在于所述密封圈的材质可为具有弹性的橡胶。
4.根据权利要求1所述的大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，其特征在于所述取样室壳体上方内侧壁设有一导流装置，使由所述载气进入孔进入的气流能更贴近待测物表面。
5.根据权利要求1所述的大面积物体表面有机挥发物真空密封取样室，其特征在于所述载气为一洁净空气。
全文摘要
本发明提供一种利用负压与大气压力之间的作用力而使取样室吸附在具有大面积物体表面上，来进行物体表面有机挥发物检测，它的结构包括有一取样室壳体，其所述取样室壳体上端具有一载气进入孔与一载气收集孔，下端具有一开口，而所述开口的外周缘向外延伸形成一凸缘，所述凸缘上具有一真空槽与一真空抽气孔，其所述真空槽与所述真空抽气孔相连通。
文档编号G01N1/22GK1677074SQ20041001740
公开日2005年10月5日 申请日期2004年4月1日 优先权日2004年4月1日
发明者丁祥金, 晏乃强 申请人:上海宏力半导体制造有限公司