专利名称：一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种密封结构的检漏方法及系统，具体涉及一种可应用在放射性场合的通过非接触的方式实时检测动密封的密封有效性的方法及系统。
背景技术：
双层填料密封结构一般用于轴密封装置中，包括设置在主轴与填料函之间的上层填料和下层填料，填料密封组件与机械密封组件相配合实现机械设备轴部的密封功能。常用的密封检漏技术如压力变化检漏方法、气泡检漏方法及氦质谱检漏法等都是应用于静态密封设备，而对于需要实时监测的动态密封装置(如双层填料密封结构)无法应用，特别是在放射性环境下，采用具有非金属材料的一般检测元件直接测量被密封流体的泄漏量是行不通的。对放射性物质密封要求的严格性使得必须实时监测密封装置的密封效果。
发明内容
针对现有技术中所存在的不足，为解决放射性环境下的动密封检漏难题，实现动密封效果的实时监测，本发明的目的在于提供一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统，用于实时监测动密封装置的密封效果。本发明解决上述技术问题所采用的技术方案如下所描述一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，包括以下步骤(I)在双层填料间设置填料支架，填料支架将双层填料分隔开并形成一个密闭腔室;(2)在密闭腔室上分别开设进气管及出气管，由气源通过进气管对密闭腔室供气， 使密闭腔室成为具有一定压力的密闭气腔室；(3)由设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力，若压力变送器测量的压力数值与气源压力相等，则判定填料密封效果良好；若压力变送器测量的压力数值与气源压力不相等，则判定有气体从密闭气腔室内泄漏。进一步，所述的压力变送器通过出气管测量密闭气腔室的压力。进一步，所述的气源始终保持供气状态。进一步，所述气源经过气路阀门及过滤器对双层填料密封结构的密闭腔室供气。进一步，在所述进气管的前方设置调压阀，通过所述调压阀来调节进入密闭腔室的气压。一种双层填料密封结构的非接触式检漏系统，包括设置在旋转轴与填料函之间的上层填料和下层填料，其特征在于在上层填料和下层填料之间设置填料支架，所述填料支架外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函的内壁之间形成一个密闭腔室，所述密闭腔室上分别开设进气管及出气管，在密闭腔室之外设置气源及压力变送器，所述气源与进气管相连接，所述压力变送器与出气管相连。
进一步，所述气源经过气路阀门及过滤器与进气管相连接。进一步，所述进气管的前方设置调压阀，所述调压阀与过滤器相连接。本发明的有益效果如下通过在双层填料密封结构之间设置填料支架，将双层填料分隔开并形成一个密闭腔室，在密闭腔室上分别开设进气管及出气管，由气源通过进气管对密闭腔室供气，由与出气管相连的设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力。本发明根据气体流量与密封间隙的关联性，利用压力变送器检测到的气体压力变化来判定密封结构的泄漏量，从而能够实现实时监测放射性场合动密封装置的密封效果。
图I为本发明双层填料密封结构的主体剖视图；图2为本发明双层填料密封结构的非接触式检漏系统的结构图。
具体实施例方式下面结合附图和具体实施例来对本发明进行描述。 本发明公开的双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统，其中，双层填料密封结构如图I所示，上层填料I和下层填料4位于旋转轴2与填料函7之间，被密封液体处于上层填料I的上端，在上层填料I和下层填料4之间设置填料支架6，填料支架6外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函7的内壁之间形成一个密闭腔室，在腔室上分别开设进气管3及出气管5，气源8经过气路阀门及过滤器进入到双层填料密封结构的密闭腔室内， 形成具有一定压力的密封气腔室13。气源是指空气压缩站，由空气压缩站进行供气。压力变送器9设置在热室之外，气腔室13的压力经过出气管5传输至压力变送器9，在填料密封装置正常工作时，气腔13内的压力稳定，压力变送器9的测量数值与气源压力相等；当旋转轴2与填料层1、4间由于磨损使间隙过大后，气体会从气腔内泄漏，此时压力变送器9测得的压力数值将出现变化。在实施过程中，气源8要始终保持供气状态.因此，本发明能够通过密封腔室内气体的压力变化来得到密封间隙量的改变，根据气体流量与密封间隙的关联性，通过压力变送器测量气腔内压力的变化，判定填料密封装置的泄漏量，从而测定动密封的密封效果。具体来说，本发明的双层填料密封结构的非接触式检漏方法，包括以下步骤(I)在双层填料1、4间设置填料支架6，填料支架6将双层填料14分隔开并形成一个密闭腔室；(2)在密闭腔室上分别开设进气管3及出气管5，由气源通过进气管3对密闭腔室供气，使密闭腔室成为具有一定压力的密闭气腔室；(3)由设置在热室之外的压力变送器通过出气管(5)测量密闭气腔室的压力，若压力变送器测量的压力数值与气源压力相等，则判定填料密封效果良好；若压力变送器测量的压力数值与气源压力不相等，则判定有气体从密闭气腔室内泄漏。气源8经过气路阀门10及过滤器11对双层填料密封结构的密闭腔室持续保持供气，以保证气腔内气体压力的持续性。本实施例中，可以在进气管3的前方设置调压阀12，通过调压阀12来调节进入密闭腔室的气压。
如图2所示，本发明的双层填料密封结构的非接触式检漏系统，包括设置在旋转轴与填料函之间的上层填料和下层填料，在上层填料和下层填料之间设置填料支架，填料支架外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函的内壁之间形成一个密闭腔室，所述密闭腔室上分别开设进气管3及出气管5，在密闭腔室之外设置气源8及压力变送器9，所述气源 8与进气管3相连接，所述压力变送器9与出气管5相连。本实施例中，气源8经过气路阀门10及过滤器11与进气管3相连接。本实施例中，进气管3的前方设置调压阀12，调压阀12与过滤器11相连接。需要注意的是，上述具体实施例仅仅是示例性的，在本发明的上述教导下，本领域技术人员可以在上述实施例的基础上进行各种改进和变形，而这些改进或者变形落在本发明的保护范围内。本领域技术人员应该明白，上面的具体描述只是为了解释本发明的目的， 并非用于限制本发明。本发明的保护范围由权利要求及其等同物限定。
权利要求
1.一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，包括以下步骤(1)在双层填料间设置填料支架，填料支架将双层填料分隔开并形成一个密闭腔室；(2)在密闭腔室上分别开设进气管及出气管，由气源通过进气管对密闭腔室供气，使密闭腔室成为具有一定压力的密闭气腔室；(3)由设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力，若压力变送器测量的压力数值与气源压力相等，则判定填料密封效果良好；若压力变送器测量的压力数值与气源压力不相等，则判定有气体从密闭气腔室内泄漏。
2.如权利要求I所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，其特征在于所述的压力变送器通过出气管测量密闭气腔室的压力。
3.如权利要求I所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，其特征在于所述的气源始终保持供气状态。
4.如权利要求I所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，其特征在于所述气源经过气路阀门及过滤器对双层填料密封结构的密闭腔室供气。
5.如权利要求I所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法，其特征在于在所述进气管的前方设置调压阀，通过所述调压阀来调节进入密闭腔室的气压。
6.一种双层填料密封结构的非接触式检漏系统，包括设置在主轴(2)与填料函(7)之间的上层填料(I)和下层填料(4)，其特征在于在上层填料(I)和下层填料(4)之间设置填料支架￠)，所述填料支架(6)外侧设有环形凹槽，该环形凹槽与填料函(7)的内壁之间形成一个密闭腔室，所述密闭腔室上分别开设进气管(3)及出气管(5)，在密闭腔室之外设置气源(8)及压力变送器(9)，所述气源(8)与进气管(3)相连接，所述压力变送器(9)与出气管(5)相连。
7.如权利要求6所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏系统，其特征在于所述气源(8)经过气路阀门(10)及过滤器(11)与进气管(3)相连接。
8.如权利要求6所述的一种双层填料密封结构的非接触式检漏系统，其特征在于所述进气管(3)的前方设置调压阀(12)，所述调压阀(12)与过滤器(11)相连接。
全文摘要
本发明公开了一种双层填料密封结构的非接触式检漏方法及系统，通过在双层填料(1，4)间设置填料支架(6)，填料支架(6)将双层填料(1，4)分隔开并形成一个密闭腔室，在密闭腔室上分别开设进气管(3)及出气管(5)，由气源通过进气管(3)对密闭腔室供气，使密闭腔室成为具有一定压力的密闭气腔室，再由设置在热室之外的压力变送器测量密闭气腔室的压力，能够实时监测放射性环境下密封装置的动密封效果。
文档编号G01M3/26GK102607781SQ20121007172
公开日2012年7月25日 申请日期2012年3月16日 优先权日2012年3月16日
发明者亢之义, 刘存银, 吴华, 夏国正, 胡锡文 申请人:中国核电工程有限公司