一种大体积间歇式半自动气体发生装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种具有进行氢化物/汞蒸汽的发生的功能的大体积间歇式半自动气体发生装置，包括反应腔、位于反应腔上端的腔盖以及位于反应腔下端的排液机构，该装置的全部零件由机械加工件装配而成，样品溶液加注口在腔盖中心位置，清洗水斜射向内壁，氩气气嘴设在反应腔底部位置，利用永磁铁、铁芯和线圈实现排液自动化。本实用新型涉及一种具有进行氢化物/汞蒸汽发生的大体积间歇式半自动气体发生装置，包括反应腔、位于反应腔上端的腔盖以及位于反应腔下端的排液机构，该装置的全部零件采用有机玻璃由机械加工件装配而成，样品溶液加注口在腔盖中心位置，清洗水斜射向内壁，氩气气嘴设在反应腔底部位置，利用永磁铁、铁芯和线圈实现排液自动化。
【专利说明】一种大体积间歇式半自动气体发生装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及原子荧光光谱法分析测试领域，尤其涉及一种用于气体发生-原子荧光光谱仪的大体积间歇式半自动气体发生装置。
【背景技术】
[0002]气体发生-原子荧光光谱法是一种联用分析技术，它是上世纪八十年代以来在我国发展较快的痕量分析技术，目前地质、冶金、卫生、环保等部门和行业较常用的一种仪器分析方法。气体发生-原子荧光光谱法集中了氢化物/汞发生技术和结构简单的无色散原子荧光光谱仪的特点，利用气体发生技术使得待测元素与绝大多数基体元素分离，所生成的氢化物可以在氢火焰中高效原子化，氢火焰本身具有很高的荧光效率和较低的背景，所有形成氢化物的元素和汞的荧光波长位于紫外区，采用日盲光电倍器实现无色散原子荧光光谱法的高灵敏度测量。以上特点使得气体发生-原子荧光光谱法测定As、Sb、B1、Se、Te、Pb、Sn、Ge和Hg等元素具有极低的检出限，是测定各类样品中痕量和超痕量此类元素的最佳方法，具有灵敏度高、测量范围宽、分析速度快等优点。
[0003]流动注射氢化物发生法是当前原子荧光光谱分析领域普遍采用的方法。根据反应原理的不同分为连续流动注射法和断续流动注射法两种。
[0004]连续流动注射法是将样品和还原剂溶液以一定的速度在聚四氟乙烯管道中流动并混合，然后通过气液分离将生成的气体产物导入原子化器，同时排出废液，此法可获得连续信号，方法装置简单易实现自动化；
[0005]断续流动注射法利用计算机控制蠕动泵定时定量采样，优点是定量采样节省试剂量。使用中发现主要缺点是样品和还原剂消耗量巨大，清洗时间长。两种气体发生技术都是泵管式反应方式，主要缺点是反应时干扰大，记忆效应严重，泵管易老化，管路易漏液，测定的长期稳定性差等，会影响仪器的性能指标。
实用新型内容
[0006]针对现有技术的不足，本实用新型在于提供一种可避免样品溶液注射到内壁、实现排液自动化，能够自动清洗发生器内壁以及克服记忆效应的用于气体发生-原子荧光光谱仪的大体积间歇式半自动气体发生装置。
[0007]为了解决上述问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0008]本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置，包括反应腔、位于反应腔上端的腔盖以及位于反应腔下端的排液机构；腔盖中心位置设有加注口且加注口配置有柱塞，腔盖上还设置有还原剂嘴、混合气出嘴和清洗水嘴，且腔盖上开设有8个等分圆周的供清洗水嘴穿入的斜孔，且斜孔的直径为0.6-0.8cm、倾斜角α =16° -18°、β =35° -40° ;反应腔底部设置有氩气气嘴；排液机构包括通过连接件连接在反应腔下端的排液腔、连接在排液腔下端口处的废液腔体和阀芯，废液腔体下部开设有排液嘴，连接件上开设有连通反应腔和排液腔的通孔，阀芯包括置于排液腔内的柱芯、固定与柱芯上端并向通孔延伸的的圆锥型密封体和柱芯下端固定的永磁铁，排液腔外侧依次套设有铁芯、线圈和外保护套，圆锥型密封体的底面直径大于通孔的直径以实现线圈通电或断电时圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合。
[0009]进一步,永磁铁位于废液腔体内且永磁铁的直径大于排液腔直径。
[0010]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:本实用新型的大体积间歇式半自动气体发生装置具有以下优点:(I)采用间歇式反应方式，液相干扰小(2)可采用0.5mL至5.0mL进样体积，实现大体积进样；(3)加注口置于腔盖中心位置以避免加注样品溶液时注射在内壁上；(4)清洗水嘴可连通自动供水装置以使清洗水通过8个斜孔斜射向反应腔内壁且形成螺旋线的水流带以充分清洗内壁，从而实现完成反应后自动清洗反应腔内壁以克服记忆效应；(5)反应腔底部的氩气嘴可通入使氩气对反应物进行搅拌以加速反应；(6)排液机构采用线圈通电或断电时驱动永磁铁对铁芯的排斥或吸引以带动圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合，从而实现了排液自动化。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的大体积间歇式半自动气体发生装置的结构示意图；
[0012]图2是本实用新型的阀芯的结构示意图；
[0013]图3是本实用新型的的斜孔(倾斜角β )示意图；
[0014]图4是本实用新型的的斜孔(倾斜角α )示意图。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
[0016]如图1-4所示，本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置，包括反应腔7、位于反应腔7上端的腔盖2以及位于反应腔7下端的排液机构；腔盖2中心位置设有加注口且加注口配置有柱塞1，腔盖2上还设置有还原剂嘴3、混合气出嘴4和清洗水嘴5，且腔盖2上开设有8个等分圆周的供清洗水嘴5穿入的斜孔，且斜孔的直径为0.6-0.8cm、倾斜角α =16° -18°、β =35° -40° ;反应腔7底部设置有氩气气嘴8 ;排液机构包括通过连接件连接在反应腔7下端的排液腔13、连接在排液腔13下端口处的废液腔体16和阀芯9，废液腔体下部开设有排液嘴15，连接件上开设有连通反应腔7和排液腔13的通孔，阀芯9包括置于排液腔13内的柱芯91、固定与柱芯91上端并向通孔延伸的的圆锥型密封体92和柱芯91下端固定的永磁铁14，排液腔13外侧依次套设有铁芯11、线圈12和外保护套10，圆锥型密封体92的底面直径大于通孔的直径以实现线圈12通电或断电时圆锥型密封体92与通孔的远离或密封配合。本实用新型的大体积间歇式半自动气体发生装置具有以下优点:(I)采用间歇式反应方式，液相干扰小(2)可采用0.5mL至5.0mL进样体积，实现大体积进样；(3)加注口置于腔盖中心位置以避免加注样品溶液时注射在内壁上；(4)清洗水嘴可连通自动供水装置以使清洗水通过8个斜孔斜射向反应腔内壁且形成螺旋线的水流带以充分清洗内壁，从而实现完成反应后自动清洗反应腔内壁以克服记忆效应；(5)反应腔底部的氩气嘴可通入使氩气对反应物进行搅拌以加速反应；(6)排液机构采用线圈通电或断电时驱动永磁铁对铁芯的排斥或吸引以带动圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合，从而实现了排液自动化。
[0017]本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置的永磁铁14位于废液腔体16内且永磁铁14的直径大于排液腔13直径以实现铁芯对永磁铁有垂直方向的力从而使排液机构达到最佳的工作状态。
[0018]本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置还包括设于腔盖2上与清洗水嘴5相配套使用的清洗水环套6，混合气出嘴4与气液分离器18相连接使用，还原剂嘴3与排泡器17相配套使用，且本实用新型除阀芯9、铁芯11和线圈12外的其他零部件均为无色透明有机玻璃制作而成，本实用新型为组装形式，全部零件均采用有机玻璃机加工而成，故能完全保障结构尺寸的一致性和相结合密封性。
[0019]本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置的排液机构的工作原理如下:
[0020]线圈12绕于铁芯11外侧以构成电磁铁与永磁铁14相配套使用，且线圈12的工作电压为:直流24V。当线圈12通直流电时，根据同性相斥的原理，电磁铁排斥永磁铁14以带动阀芯下移，使得圆锥型密封体92与通孔脱离接触，实现顺利排液至废液腔体内，经排液嘴15排出，当线圈12断电时，无电磁铁形，永磁铁14与铁芯11相吸引以带动圆锥型密封体92与通孔密封结合，即阀芯回位，线圈12由电子线路控制，从而实现排液自动化。
[0021]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种大体积间歇式半自动气体发生装置，其特征在于:包括反应腔、位于反应腔上端的腔盖以及位于反应腔下端的排液机构；腔盖中心位置设有加注口且加注口配置有柱塞，腔盖上还设置有还原剂嘴、混合气出嘴和清洗水嘴，且腔盖上开设有8个等分圆周的供清洗水嘴穿入的斜孔，且斜孔的直径为0.6-0.8cm、倾斜角α =16° -18°、β =35° -40° ;反应腔底部设置有氩气气嘴；排液机构包括通过连接件连接在反应腔下端的排液腔、连接在排液腔下端口处的废液腔体和阀芯，废液腔体下部开设有排液嘴，连接件上开设有连通反应腔和排液腔的通孔，阀芯包括置于排液腔内的柱芯、固定与柱芯上端并向通孔延伸的的圆锥型密封体和柱芯下端固定的永磁铁，排液腔外侧依次套设有铁芯、线圈和外保护套，圆锥型密封体的底面直径大于通孔的直径以实现线圈通电或断电时圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合。
2.根据权利要求1所述的大体积间歇式半自动气体发生装置，其特征在于:永磁铁位于废液腔体内且永磁铁的直径大于排液腔直径。
【文档编号】G01N21/64GK204116232SQ201420638220
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年10月20日 优先权日:2014年10月20日
【发明者】魏建山, 赵志华, 王莉坤, 宁校端, 李可, 张勤 申请人:廊坊开元高技术开发公司