技术领域本发明涉及用于检测在光学膜的工序过程中产生的不良的技术。
背景技术：
通常，在光学膜卷(roll)的工序过程中具有同一间隔的不良连续地以一定值以上产生的情况下，将该区域指定为特別管理区域，由产品检查员进一步进行检查。此时，产品检查员观察不良检测图(二维坐标图)来判断是否为周期性不良。但是，由于产品检查员间的熟练度的差别，而且难以感知不良检测图的X/Y轴的刻度(scale)的变化带来的不良间的间隔基准的差异，所以对于大量的卷的正确且具有一贯性的周期性不良的确认及管理困难。而且在由产品检查员进行检查的情况下，存在检查作业需要大量的费用及时间的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：韩国特开2003-0046267号公报
技术实现要素：
发明所要解决的课题本发明的目的在于提供用于检测在光学膜的工序过程中产生的周期性不良的不良检测装置及方法。用于解决课题的手段1、光学膜的不良检测装置，其包含：接收部，其从至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息；不良位置决定部，其基于所述不良信息来决定与所述光学膜卷对应的二维平面上的不良的位置；探索部，其基于所述不良的位置来探索所述二维平面上的已被设定的数以上的不良存在的区域；和不良检测部，其基于所述被探索的区域中所含的不良的数及不良间的间隔来检测周期性不良。2、根据上述项目1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部对于各个不良的位置设定包含所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。3、根据上述项目1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。4、根据上述项目1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部将所述二维平面分割为一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。5、根据上述项目1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部在所述二维平面中设定一定大小的探索区域，将所述探索区域的位置依次仅变更一定距离，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。6、根据上述项目1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述不良检测部包含：存储部，其存储所述被探索的区域的位置；候补区域决定部，其基于所述被探索的区域的位置，将所述被探索的区域决定为不良候补区域，在所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，将所述重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域决定为所述不良候补区域；不良判断部，其基于所述不良候补区域中所含的不良的数及不良间的间隔来判断所述周期性不良有无存在，在所述不良候补区域中以所述卷的长度方向为基准，在同一列中所含的不良的数为已被设定的值以上，且该列中所含的不良间的间隔中的同一间隔的数为已被设定的值以上的情况下，判断为所述周期性不良；和不良检测信息生成部，其在检测到所述周期性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述周期性不良的发生位置有关的信息的不良检测信息。7、根据上述项目6所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述候补区域决定部对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自将全部包含各区域中所含的不良的最小尺寸的区域决定为所述不良候补区域。8、光学膜的不良检测方法，其包含：由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息的阶段；基于所述不良信息来决定与所述光学膜卷对应的二维平面上的不良的位置的阶段；基于所述不良的位置来探索所述平面上已被设定的数以上的不良存在的区域的阶段；和基于所述被探索的区域中所含的不良的数及不良间的间隔来检测周期性不良的阶段。9、根据上述项目8所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段对于所述二维平面中的各个不良的位置设定包含所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。10、根据上述项目8所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。11、根据上述项目8所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段将所述二维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。12、根据上述项目8所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段在所述平面中设定一定大小的探索区域，依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已被设定的数以上的不良存在的区域。13、根据上述项目8所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述检测的阶段包含：存储所述被探索的区域的位置的阶段；基于所述被探索的区域的位置将所述被探索的区域决定为不良候补区域，在所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，将所述重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域决定为所述不良候补区域的阶段；基于所述不良候补区域中所含的不良的数及不良间的间隔来判断所述周期性不良有无存在，在所述不良候补区域中以所述卷的长度方向为基准，在同一列中所含的不良的数为已被设定的值以上，且在该列中所含的不良间的间隔中的同一间隔的数为已被设定的值以上的情况下，判断为所述周期性不良的阶段；和在检测到所述周期性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述周期性不良的发生位置有关的信息的不良检测信息的阶段。14、根据上述项目13所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述决定不良候补区域的阶段对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自将全部包含各区域中所含的不良的最小尺寸的区域决定为所述不良候补区域。发明的效果根据本发明，通过自动地判断光学膜中所含的周期性不良的有无产生，可以与光学膜的生产量无关地根据一系列的基准管理光学膜的品质，并且通过缩短周期性不良的检测时间而可以提高生产率。另外，根据本发明，由于能够迅速地掌握并通知光学膜中的周期性不良有无产生，可以进行对于周期性不良的产生的迅速的措置，可以降低光学膜的生产损失(Loss)。附图说明图1是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置的构成图。图2是本发明的一实施方式涉及的不良检测部的详细构成图。图3是用于说明探索不良存在的区域的过程的例示图。图4是用于说明探索不良存在的区域的过程的例示图。图5是用于说明探索不良存在的区域的过程的例示图。图6是用于说明探索不良存在的区域的过程的例示图。图7是用于说明不良候补区域的设定的例示图。图8是用于说明不良候补区域的设定的例示图。图9是用于说明不良候补区域的设定的例示图。图10是用于说明不良候补区域的设定的例示图。图11是用于说明不良候补区域的设定的例示图。图12是用于说明周期性不良的判断过程的例示图。图13是用于说明周期性不良的判断过程的例示图。图14是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测方法的流程图。图15是表示本发明的一实施方式涉及的周期性不良的检测过程的流程图。具体实施方式以下，参照附图说明本发明的具体的实施方式。以下的详细的说明为帮助有关本说明书中所述的方法、装置、和/或系统的包括的理解而提供。但是，这些只不过是例示，本发明不受这些限制。在说明本发明的实施方式时，在对于关联的公知技术的具体的说明判断为可能使本发明的要点不明确的情况下，省略其详细的说明。另外，后述的用语是考虑本发明中的功能定义的用语，可根据使用者、运用者的意图或惯例等而不同。因此，该定义应基于本说明书全部的内容进行。详细的说明中使用的用语用于简单地叙述本发明的实施方式，决没有限制。只要没有以明确不同的意思使用，则单数形式的表达包含复数形式的意思。本说明中，“包含”或“具备”这样的表达是指任何的特性、数字、阶段、动作、要素、它们的一部分或者组合，除所叙述的以外，不应排除一个或其以上的其它特性、数字、阶段、动作、要素、它们的一部分或者组合的存在或可能性而解释。图1是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置的构成图。参照图1，本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置100包含接收部110、不良位置决定部120、探索部130及不良检测部140。接收部110从至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息。此时，各检查装置是指配置于光学膜的工序线上的不同的位置、用于检测在光学膜的制造工序中产生的不良、生成与检测出的不良有关的不良信息的装置。例如，检查装置可以包含在光学膜的工序线中配置于光学膜的上面的照相机组件，也可以构成为使用该照相机组件对光学膜进行拍摄，根据所拍摄的图像检测不良。另外，因此，可以以光学膜为基准，在照相机组件所在的面的相反面具备光源，照相机组件也可以构成为对从光源放出并透过了光学膜的光进行拍摄。该情况下，在光学膜中存在不良的情况下，该部分由于光的透过度变低，所以可以容易地检测不良。此外，由检查装置生成的不良信息可以包含检测到的不良的位置、大小、亮度、拍摄了检测到的不良的图像、检查开始时刻及结束时刻等。不良位置决定部120基于由检查装置接收到的不良信息决定与光学膜卷对应的二维平面上的不良的位置。例如，不良位置决定部120可以构成与光学膜卷的长度及宽度对应的二维平面，将由各检查装置所接收的不良信息统一，决定该二维平面中的不良的位置。此时，二维平面中的不良的位置可以基于由各检查装置所接收的不良信息中所含的不良的位置来决定。另外，光学膜卷的长度及宽度可以使用预先设定的值。探索部130基于由不良位置决定部120决定的不良的位置探索在二维平面上已被设定的数以上的不良存在的区域。例如，探索部130设定一定大小的探索区域，在二维平面上巡视所设定的探索区域，同时对探索区域内所含的不良的数进行计数，由此可探索已被设定的数以上的不良存在的区域。参照图3～6对其具体地说明。图3～6中，虚线所示的区域表示探索区域，圆表示的部分表示不良的位置。此外，图3～6中表示探索区域为四边形的形状，但不限于此。例如，探索区域也可以是圆形，可以根据用户的选择而变形为适当的形状。另外，探索区域的尺寸例如可考虑计算负荷、计算的正确性等由用户设定。根据本发明的一实施方式，探索部130可以对于二维平面中所含的各个不良的位置设定包含各个不良的位置的一定大小的探索区域。而且，探索部130可以以各个不良的位置为中心变更探索区域的位置，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。具体而言，参照图3，探索部130可以设定二维平面300上所含的多个不良中包含特定的不良310的探索区域321。而且，探索部130可以对所设定的探索区域321内的不良的数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。其次，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域321沿X轴方向仅移动一定距离，在移动后的位置对探索区域322内的不良的数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。其次，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域322沿X轴方向进一步仅移动一定距离，在移动后的位置对探索区域323内的不良数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。其次，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域323沿Y轴方向仅移动一定距离，在移动后的位置对探索区域324内的不良的数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。这样，探索部130可以以特定的不良310为中心使探索区域沿X轴及Y轴方向依次仅移动一定距离，在各自的位置对探索区域内的不良的数进行计数，探索包含已被设定的数以上的不良的区域。此外，图示的例子中，探索区域的移动距离可以由用户预先设定。另外，探索部130可以对于二维平面300中所含的各个不良以同样的方式设定探索区域，一边使被设定的探索区域移动，一边判断在各个位置探索区域内所含的不良的数是否为已被设定的数以上。另一方面，根据本发明的其它实施方式，探索部130可以在二维平面中设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的探索区域，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。作为具体的例子，参照图4，探索部130可以对于二维平面400中所含的各个不良设定以各不良为中心坐标的一定大小的探索区域410、420、430、440、450。而且，探索部130可以对于各探索区域410、420、430、440、450对不良的数进行计数，探索包含已被设定的数以上的不良的区域。另一方面，根据本发明的进一步其它的实施方式，探索部130可以将二维平面分割为一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。作为具体的例子，参照图5，探索部130可以将二维平面500分割为一定大小的探索区域510、520、530、540。而且，探索部130可以对各个探索区域510、520、530、540中所含的不良的数进行计数，判断是否包含已被设定的数以上的不良。另一方面，根据本发明的进一步其它的实施方式，探索部130可以在二维平面中设定一定大小的探索区域，在二维平面内依次变更探索区域的位置，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。作为具体的例子，参照图6，探索部130可以在二维平面600上的特定的位置设定一定大小的探索区域610。而且，探索部130可以在所设定的探索区域610内对不良的数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。其次，探索部130可以使探索区域610沿Y轴方向依次仅移动一定距离，在各个位置对探索区域620、630、640、650内的不良的数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。此外，在Y轴方向上不能使探索区域移动其以上的情况下，探索部130可以在使探索区域沿X轴方向仅移动一定距离后，对探索区域660内的不良数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。其次，探索部130可以使探索区域660再次沿X轴方向依次仅移动一定距离，在各个位置对探索区域内的不良数进行计数，判断不良的数是否为已被设定的数以上。通过这样的方式，探索部130可以使用探索区域巡视二维平面600的全区域，同时在各个位置对探索区域内的不良数进行计数，探索已被设定的数以上的不良存在的区域。此外，图6所图示的例子中，探索区域的移动方向及移动距离可以由用户预先设定。不良检测部140可以基于由探索部130被探索的区域中所含的不良的数及不良间的间隔来检测周期性不良。在此，周期性不良是指隔开一定间隔周期性发生的不良。具体而言，不良检测部140可以基于由探索部130被探索的区域设定一个以上的不良候补区域。另外，不良检测部140可以在所设定的各不良候补区域中以光学膜卷的长度方向为基准对不良的数进行计数。此时，在不良的数为已被设定的值以上的情况下，可以算出不良间的间隔而检测周期性不良。图2是本发明的一实施方式涉及的不良检测部140的详细构成图。参照图2，本发明的一实施方式涉及的不良检测部140包含存储部141、候补区域决定部142、不良判断部143、及不良检测信息生成部144。存储部141可以存储通过探索部130被探索的已被设定的数以上的不良存在的区域的位置。具体而言，存储部141可以存储由探索部130被探索的区域的二维平面上的位置。根据本发明的一实施方式，存储部141可以以由与二维平面对应的二维排列构成的图像缓冲的方式实现，可以使用二维排列存储由探索部120被探索的区域的位置。候补区域决定部142可以基于存储于存储部141的、被探索的区域的位置来决定一个以上的不良候补区域。例如，候补区域决定部142可以将存储于存储部141的各个被探索的区域作为不良候补区域决定。此时，根据本发明的一实施方式，候补区域决定部142在存储于存储部141的被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，可以将重叠或连续的区域统一，将被统一的区域决定为不良候补区域。此时，为了统一重叠或连续的区域，也可以使用BlobLabeling算法这样的标记(Labeling)算法。作为具体的例子，参照图7，在与光学膜卷对应的二维平面710上由探索部120被探索的区域711、712、713可以分别存储于以二维排列构成的存储部141的存储区域720的对应的位置721、722、723。此时，候补区域决定部142可以将由探索部130被探索的区域即721、722及723的区域分别决定为不良候补区域。作为其它例子，图7中，由于721的区域和722的区域是连续的区域，所以候补区域决定部142可以将721的区域和722的区域如图8所示的例子那样统一成一个区域724，将被统一的区域的724和723的区域分别决定为不良候补区域。作为其它例，参照图9，在与光学膜卷对应的二维平面910上由探索部120被探索的区域911、912、913可以分别存储于以二维排列构成的存储部141的存储区域920的对应的位置921、922、923。此时，候补区域决定部142可以将由探索部130被探索的区域即921、922及923的区域分别决定为不良候补区域。作为其它例，由于存储于存储部141的、被探索的区域中的921的区域和922的区域是重叠的区域，所以候补区域决定部142可以将921的区域和922的区域如图10所示的例子那样统一成一个区域924，将被统一的区域的924和923的区域分别决定为不良候补区域。另一方面，根据本发明的一实施方式，候补区域决定部142可以对于由探索部130被探索的区域或被统一的区域的各自将完全包含各区域中所含的不良的最小尺寸的区域决定为不良候补区域。作为具体的例子，参照图10及图11，候补区域决定部142可以对于被统一的区域924和未被统一的区域923的各自设定全部包含各区域中所含的不良的最小区域925、926，将所设定的最小区域925、926分别决定为不良候补区域。此外，在图11所示的例子中，表示了最小区域为四边形的形状，但不限于此，最小区域的形状例如也可以为圆形等各种形状。不良判断部143可以在各个不良候补区域中以光学膜卷的长度方向为基准，基于同一列中所含的不良的数及上述同一列中所含的不良间的间隔来检测周期性不良。作为具体的例子，参照图12，不良判断部143在各个不良候补区域1210、1220中以光学膜卷的长度方向为基准，对同一列中所含的不良的数进行计数，由此可以判定已被设定的数以上的不良是否存在。例如，如果用于判断为周期性不良存在的不良的数为3，则在不良候补区域1210的情况下，不存在含有3个以上的不良的列，但在不良候补区域1220的情况下，存在含有4个不良的列1221。因此，不良判断部143对于含有4个不良的列1221，如图13所示的例子那样算出不良间的间隔1310，对同一间隔的数进行计数。此时，在同一间隔的数为已被设定的数以上的情况下，不良判断部143可以判断为周期性不良。例如，在为了判断周期性不良，假定为已被设定的同一间隔的数为3，且列1221中所含的不良间的间隔相同时，在列1221中，同一间隔的数为4，因此不良判断部143可以最终判断为在光学膜卷中的与列1221相应的位置存在周期性不良。不良检测信息生成部144在检测到周期性不良的情况下，可以生成与检测到的周期性不良有关的不良检测信息。此时，不良检测信息例如可以含有与光学膜的工序线中的周期性不良的发生位置有关的信息，光学膜的工序线中的周期性不良的发生位置可以基于在光学膜上检测到的周期性不良的发生位置算出。例如，不良检测信息生成部144可以以光学膜的工序线中的光学膜的输送方向为基准，基于从光学膜的开始位置至由光学膜中检测到的周期性不良的发生位置的距离，判断光学膜的工序线中的周期性不良的发生位置。另一方面，根据本发明的一实施方式，不良检测信息生成部144通过将生成的不良检测信息传送给例如工序管理系统的管理者的终端、工序线的作业者的终端、或者工序线上的警报装置，由此可以进行针对周期性不良的发生的迅速的措置。图14是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测方法的流程图。参照图14，光学膜的不良检测装置100从至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息(1410)。其后，光学膜的不良检测装置100基于接收到的不良信息来决定与光学膜卷对应的二维平面上的不良的位置(1420)。然后，光学膜的不良检测装置100基于所决定的不良的位置探索在二维平面上已被设定的数以上的不良存在的区域(1430)。例如，光学膜的不良检测装置100可以对于二维平面中的各个不良的位置设定包含各个不良的位置的一定大小的探索区域，以各个不良的位置为中心依次变更探索区域的位置，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。作为其它例，光学膜的不良检测装置100可以设定以二维平面中所含的各不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。作为进一步其它的例子，光学膜的不良检测装置100可以将二维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中上述已被设定的数以上的不良存在的区域。作为进一步其它的例子，光学膜的不良检测装置100可以在二维平面中设定一定大小的探索区域，依次变更上述探索区域的位置，探索各探索区域中已被设定的数以上的不良存在的区域。之后，光学膜的不良检测装置100基于被探索的区域中所含的不良的数及不良间的间隔来检测周期性不良(1440)。之后，光学膜的不良检测装置100生成与检测到的周期性不良有关的不良检测信息(1450)。此时，不良检测信息例如可以含有与光学膜的工序线中的周期性不良的发生位置有关的信息。之后，光学膜的不良检测装置100将所生成的不良检测信息传送给例如工序管理系统的管理者的终端、工序线的作业者的终端、或者工序线上的警报装置(1460)。图15是表示本发明的一实施方式涉及的周期性不良的检测过程的流程图。参照图15，光学膜的不良检测装置100可以存储在图14的探索阶段1430所探索的区域的位置(1510)。此时，光学膜的不良检测装置100可以使用二维排列存储被探索的区域的位置信息。之后，光学膜的不良检测装置100基于被探索的区域的位置来决定不良候补区域(1520)。例如，光学膜的不良检测装置100可以将被探索的各个区域决定为不良候补区域。作为其它例，光学膜的不良检测装置100在被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，可以将重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域决定为不良候补区域。作为进一步其它的例子，光学膜的不良检测装置100可以对于被探索的区域或被统一的区域的各自将全部包含各区域中所含的不良的最小尺寸的区域决定为不良候补区域。之后，光学膜的不良检测装置100基于不良候补区域中所含的不良的数及不良间的间隔判断周期性不良有无存在(1530)。例如，光学膜的不良检测装置100可以以不良候补区域的卷的长度方向为基准，在同一列中所含的不良的数为已被设定的值以上，且该列中所含的不良间的间隔中同一间隔的数为已被设定的值以上的情况下，判断为周期性不良。图15及图16的流程图中，将上述方法分为多个阶段表示，但至少一部分阶段也可以改变顺序执行，或者与其它阶段组合执行，或者省略，或者分为细的阶段执行，或者附加未图示的一个以上的阶段执行。另一方面，本发明的实施方式可以包含含有用于由计算机执行本说明书中叙述的方法的程序的计算机可读取的记录介质。上述计算机可读取的记录介质可以单独或组合含有程序命令、局部数据文件、局部数据结构等。上述介质也可以是为了本发明特别地设计而构成的介质、或者在计算机软件领域中可通常使用的介质。在计算机可读取的记录介质的例子中，包含硬盘、软盘及磁带等磁介质、CD-ROM、DVD等光记录介质、软盘等磁-光介质、ROM、RAM、闪存存储器等以存储并执行程序命令的方式特别地构成的硬件装置。作为程序命令的例子，可以不仅包含由编译器生成的机械语言代码，而且包含使用翻译机等可由计算机执行的高级语言代码。以上，对本发明的几个实施方式进行了说明，但这些实施方式作为例子出示，并不打算限定发明的范围。这些新的实施方式可以以其它各种方式实施，可以在不脱离发明的要点的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式、其变形包含在发明的范围、要点中，同时包含在专利权利要求中所记载的发明和其均等范围中。附图标记的说明100：光学膜的不良检测装置110：接收部120：不良位置决定部130：探索部140：不良检测部141：存储部142：候补区域决定部143：不良判断部144：不良检测信息生成部