一种用于影像测量仪工作平台的玻璃基板的制作方法

本实用新型涉及测量领域，具体涉及一种用于影像测量仪工作平台的玻璃基板。

背景技术：

尺寸测量在生产中经常遇见，随着技术的进步，非接触式的影像测量方法逐渐被使用，如图1所示，一些影像测量仪具有图像采集单元23、上光源24、下光源25和工作平台，工作平台具有台阶部22，玻璃基板21放置在台阶部上，被测零件放置在玻璃基板上，通过采集图像，检测被测零件的边缘，从而测出被测零件的尺寸。这种结构存在如下缺陷，不同型号的影像测量仪的台阶部的大小不一样，因此只能装特定大小的玻璃基板，因此现有的玻璃基板对不同型号的影像测量仪的适应性差。

技术实现要素：

实用新型目的：本实用新型旨在克服现有技术的缺陷，提供一种适应性好的用于影像测量仪工作平台的玻璃基板。

技术方案：一种玻璃基板，包括透明的矩形基板本体、透明的L型第一侧板和透明的L型第二侧板，所述第一侧板包括第一臂和与所述第一臂垂直的第二臂，所述第二侧板包括第三臂和与所述第三臂垂直的第四臂，所述第一臂上具有第一定位柱，所述第二臂上具有第二定位柱，所述第三臂上具有第三定位柱，所述第四臂上具有第四定位柱；所述基板本体包括第一边、第二边、第三边和第四边，第一边和第三边相对，第二边和第四边相对，所述第一边处具有与所述第一定位柱配合的第一盲孔，所述第二边处具有与所述第二定位柱配合的第二盲孔，所述第三边处具有与所述第三定位柱配合的第三盲孔，所述第四边处具有与所述第四定位柱配合的第四盲孔。

进一步地，所述基板本体上还设有多个与被测零件配合的定位通孔。

进一步地，所述第一定位柱、第二定位柱、第三定位柱、第四定位柱、第一盲孔、第二盲孔、第三盲孔和第四盲孔的个数均为两个。

进一步地，当仅第一侧板和所述基板本体配合时，形成的结构呈矩形形状；当第一侧板、第二侧板和所述基板本体配合时，形成的结构也呈矩形形状。

进一步地，所述第一定位柱、第二定位柱、第三定位柱、第四定位柱、第一盲孔、第二盲孔、第三盲孔和第四盲孔的截面均为圆形。

有益效果：本实用新型的玻璃基板，可以仅使用基板本体，也可以基板本体和第一侧板配合使用，也可以第一侧板、第二侧板和基板本体配合使用，从而玻璃基板的适应性好，可以满足三种规格的影像测量仪的台阶部。

附图说明

图1为现有的影像测量仪的测量原理图；

图2为第一、二侧板和基板本体配合示意图；

图3为第一侧板和基板本体配合示意图；

图4为第一侧板示意图；

图5为第二侧板示意图；

图6为基板本体示意图。

具体实施方式

附图标记：1第一侧板；2第二侧板；3基板本体；1.1第一臂；1.2第二臂；2.1第三臂；2.2第四臂；1.1.1第一定位柱；1.2.1第二定位柱；2.1.1第三定位柱；2.2.1第四定位柱；3.1第一边；3.2第二边；3.3第三边；3.4第四边；3.1.1第一盲孔；3.2.1第二盲孔；3.3.1第三盲孔；3.4.1第四盲孔；3.5定位通孔。

一种玻璃基板，包括透明的矩形基板本体3、透明的L型第一侧板1和透明的L型第二侧板2，所述第一侧板1包括第一臂1.1和与所述第一臂1.1垂直的第二臂1.2，所述第二侧板2包括第三臂2.1和与所述第三臂2.1垂直的第四臂2.2，所述第一臂1.1上具有第一定位柱1.1.1，所述第二臂1.2上具有第二定位柱1.2.1，所述第三臂2.1上具有第三定位柱2.1.1，所述第四臂2.2上具有第四定位柱2.2.1；所述基板本体3包括第一边3.1、第二边3.2、第三边3.3和第四边3.4，第一边3.1和第三边3.3相对，第二边3.2和第四边3.4相对，所述第一边3.1处具有与所述第一定位柱1.1.1配合的第一盲孔3.1.1，所述第二边3.2处具有与所述第二定位柱1.2.1配合的第二盲孔3.2.1，所述第三边3.3处具有与所述第三定位柱2.1.1配合的第三盲孔3.3.1，所述第四边3.4处具有与所述第四定位柱2.2.1配合的第四盲孔3.4.1。所述基板本体上还设有多个与被测零件配合的定位通孔3.5。所述第一定位柱、第二定位柱、第三定位柱、第四定位柱、第一盲孔、第二盲孔、第三盲孔和第四盲孔的个数均为两个。当仅第一侧板和所述基板本体配合时，形成的结构呈矩形形状；当第一侧板、第二侧板和所述基板本体配合时，形成的结构也呈矩形形状。所述第一定位柱、第二定位柱、第三定位柱、第四定位柱、第一盲孔、第二盲孔、第三盲孔和第四盲孔的截面均为圆形。

如图2、3、6所示，本实用新型的玻璃基板，可以基板本体单独使用，也可以第一侧板配合基板本体使用，也可以第一、二侧板配合基板本体使用，从而能够形成三种尺寸的矩形结构，从而可以适用于三种尺寸的台阶部，从而可以适用于不同型号的影像测量仪。基板本体上的定位通孔可以定位被测零件，从而方便定位零件实现快速测量。

尽管本实用新型就优选实施方式进行了示意和描述，但本领域的技术人员应当理解，只要不超出本实用新型的权利要求所限定的范围，可以对本实用新型进行各种变化和修改。