一种ITO电极三维图案检测光路系统的制作方法

文档序号:12247967阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种ITO电极三维图案检测光路系统,包括一个数字全息光路和一个待检ITO薄膜(7),其特征在于,在所述数字全息光路上设置一个激光器(1),激光器(1)出射激光束面上设有一块分光棱镜(4),在分光棱镜(4)和激光器(1)之间设置有空间滤波器(2);在所述分光棱镜(4)半透射方向设置有一块参考光面平面反射镜(5),在分光棱镜(4)半反射方向设置有一块物光平面反射镜(6);物光平面反射镜(6)的反射光路上设有待检ITO薄膜(7),参考光面平面反射镜(5)的反射光束与物光平面反射镜(6)的反射光束汇聚处设有汇聚分光棱镜(8),光束经汇聚分光棱镜汇聚;并在CCD/CMOS图像传感器(9)表面发生干涉,CCD/CMOS图像传感器(9)与计算机(10)连接,对所述CCD/CMOS图像传感器(9)采集到的干涉图像进行去噪、解包裹相位、三维重建得到ITO薄膜(7)电极图案的三维轮廓信息,对电极图案的缺陷进行定量检测与分析。

2.根据权利要求1所述的一种ITO电极三维图案检测光路系统,其特征在于,所述数字全息光路上空间滤波器(2)包括显微物镜和设在显微物镜上的针孔,空间滤波器(2)的出射光路上设有一个准直镜头(3)。

3.根据权利要求1所述的一种ITO电极三维图案检测光路系统,其特征在于,所述参考光面平面反射镜(5)和物光平面反射镜(6)与出射激光束成倾斜角度设置,倾斜角度为45°。

4.根据权利要求1所述的一种ITO电极三维图案检测光路系统,其特征在于,所述汇聚分光棱镜(8)与参考光面平面反射镜(5)和物光平面反射镜(6)呈倾斜角度设置,光束经汇聚分光棱镜(8)汇聚后以离轴光束在CCD/CMOS图像传感器(9)表面发生干涉,以实现离轴数字全息光路对ITO薄膜电极图案进行检测。

5.根据权利要求1所述的一种ITO电极三维图案检测光路系统,其特征在于,所述汇聚分光棱镜(8)与参考光面平面反射镜(5)和物光平面反射镜(6)平行设置,光束经汇聚分光棱镜(8)汇聚后以同轴光束在CCD/CMOS图像传感器(9)表面发生干涉,以实现同轴数字全息光路对ITO薄膜电极图案进行检测。

6.根据权利要求1所述的一种ITO电极三维图案检测光路系统,其特征在于,所述数字全息光路采用马赫-曾德Mach-Zender式干涉光路。

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