专利名称：一种电容式触控面板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种电容式触控面板，属触控面板领域。
背景技术：
电容式触控面板一般由IC芯片、柔性线路板、玻璃盖板和传感器等四部分组成。其中传感器是电容式触控面板的核心部件，由驱动电极和感应电极组成。按照传感器基材 可分为玻璃结构和PET膜结构；按照传感器制造工艺可分为黄光工艺和丝网印刷工艺。电容式触控面板的制造需要用到昂贵的氧化铟锡制作视窗区的透明导电线路；用钥铝钥、银或者铜合金制作边框区域线路材料。氧化铟锡中的“铟”是稀土元素，随着国际稀土价格日渐升高，氧化铟锡透明导电膜的制作成本也越来越高；另外由于氧化铟锡需要采用真空磁控溅射的方式均匀镀在PET膜上面，而PET膜不耐高温，因此这种原材料制作难度较大，量产水平的氧化铟锡方阻最小只有100 Ω / 口。无法满足大尺寸产品对方阻的需求。另外，电容式触控面板透明导电线路和边框导电线路是分两次制作完成的，一般先制作视窗区域的透明导电线路，然后再制作边框导电线路，工艺相对复杂。最后，电容式触控面板的主流做法有二种一种是驱动电极和感应电极分开制作，制作完成后用光学胶贴合在一起；另一种是在透明基材的正反两面分别制作驱动电极和感应电极。这两种结构制作工艺都比较复杂。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种厚度薄、性能好、制作工艺简单的电容式触控面板。为解决上述问题，本发明所采取的技术方案是
通过磁控溅镀、蒸镀、电镀或涂布等方式在透明基材单面形成一均匀的导电层。该透明基材可以为玻璃、PET、PC、PMMA等光学性能优异的材料；该导电层为电阻值较低的金、银、铜、铝等金属。然后在该导电层上涂布光阻、用掩膜版对光阻进行曝光，然后经过显影、蚀刻、剥膜，即完成了传感器所有电路图案的布设。根据人眼的生理构造，线条距离72um时，线条间模糊；线条距离40um时，人眼不可分辨。所以本发明利用这种原理，采用的涂胶、曝光，然后显影、蚀刻、剥膜这种黄光工艺，做出精细的电路图案，最细线宽可以做到IOum以下。人眼是无法识别这种线宽IOum左右的网格；同时这种线路网格又有优异的导电性能，根据设计不同，其表面电阻一般小于I Ω / □，有些甚至可以达到O. I Ω / □，这远远低于氧化铟锡的方阻。因此可以将这种网格应用于可视区域，作为透明导电材料使用。尤其适合应用于大尺寸触控面板。该网格的形状没有特别的限定，可以是一条很细的线条弯曲形成各种电路图案，也可以是三角形、四边形、五边形、六边形…甚至圆形等等。由于该导电材料可同时用于透明导电线路和边框导电线路的布设，因此可视区透明导电线路和边框导电线路是同时制作完成的。
由于本发明采用的光阻涂布、曝光，然后显影、蚀刻、剥膜这种黄光工艺，可以加工出非常精细的电路图案，因此可以把触控面板驱动电极和感应电极集中在透明基材的同一面上，驱动电极的通道在与感应电极通道相交处断开，通过细导线将该断开通道导引到FPC热压Pin脚位置。因此本发明所制作的触控面板具有成本低、性能优异、工艺简单等优点。本发明一种电容式触控面板的制造包括如下步骤。步骤一在透明基底一面布设一导电层。该透明基材可以选用光学级的玻璃、PET、PC、PMMA或其光学性能优异的材料。该导电材料可以是电阻值较低的金、银、铜、铝等金属，考虑到后续蚀刻加工制程方便，以及蚀刻后产品抗氧化、抗盐雾试验要求，该导电材料还会添加镍、钛、钥、钯等金属。该不透明导电层可以通过磁控溅镀、蒸镀、电镀或涂布等方式布设。步骤二 在步骤一所述导电层表面涂布光阻。该光阻可以是市售感光干膜，也可以是液态的光阻胶。可以是正性光阻，也可以是负性光阻。步骤三附加掩膜版曝光。掩膜版上绘有电路图案，将掩膜版附在光阻表面，然后对着掩膜版曝光，掩膜版上的图案就转移到光阻上面，形成潜影。该掩膜版可以使铬版、玻璃干版、菲林版等等，考虑到成本及使用效果，优选玻璃干版。步骤四显影。用显影剂将光阻潜影部分溶解，使该处导电层金属裸露；剩余光阻仍然保留，用于保护下方的导电层金属。步骤五蚀刻。用蚀刻剂将上步裸露出的导电金属蚀刻掉，只留下光阻保护下的导电金属，从而形成了需要的电路图案。步骤六剥膜。用剥膜液将光阻从导电层表面剥离。通过上述步骤，就得到了一种电容式触控面板。
图I :为透明基板布设导电层、涂布光阻后的剖面示意图。图2 :为该透明基板附加掩膜版、曝光的剖面示意图。图3 :为该透明基板显影后的剖面示意图。图4 :为该透明基板蚀刻后的剖面示意图。图5 :为该透明基板剥膜后的剖面示意图。图6 :为加工完成后的触控面板俯视效果图。图7 :为该触控面板局部线路放大示意图。
具体实施例方式下面是本发明的具体实施例来进一步描述。( I)把透明基材I放在溅射镀膜设备内，以真空磁控溅镀的方式，在透明基材I的表面形成导电层2。该透明基材选用光学级的聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称PET)，厚度125微米。该导电材料选择铜镍钛。镀膜以卷到卷的方式进行。(2)把上述溅镀导电材料的柔性透明基材的导电面布设光阻3。该光阻采用正性液态光阻胶。涂布光阻后的材料剖面结构如图I所示。
(3)把(2)所述材料光阻面附加掩膜版4，通过曝光，把掩膜版上的图案转移到光阻上面。该掩膜版采用玻璃干版。掩膜曝光时的材料剖面状态如图2所示，5代表曝光时的平行光线。(4)把(3)所述材料进行显影操作，使部分导电材料裸露、部分导电材料被光阻保护。显影后材料的剖面结构如图3所示。
(5)把(4)所述材料进行蚀刻操作。在40摄氏度温度下使用盐酸蚀刻，去除裸露的导电材料铜镍钛。蚀刻后材料的剖面结构如图4所示。(6)把(5)所述材料进行剥膜操作，去除光阻。这样就得到了我们所需要的触控面板电路图案。图5为该产品剖面结构，其中VA代表该触控面板视窗区域，F代表该触控面板的边框区域；a代表视窗区细网格导电图案；b代表边框区导线图案。(7)图6为该产品俯视图、图7为该产品局部放大图。可以看出视窗区域内的电路图案为镂空网格构成，网格线宽9um，网格大小300um*300um ;边框区域为实心金属导线。本发明虽由上述实施例来描述，但仍可变化其形态与细节，在不脱离本发明的精神下制作。上述为本发明最合理的使用方法，仅为本发明可以具体实施的方式之一，但并不以此为限。本专业技术人员理解，在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都将落入本发明的保护范围内。
权利要求
1.一种电容式触控面板，其特征在于驱动电路和感应电路位于透明基材的同一面。
2.如权利要求I所述的触控面板，其特征还在于驱动路和感应电路都是由视窗区的透明电路图案和边框导线图案组成。
3.一种电容式触控面板，其特征在于视窗区的透明电路图案和边框导线图案是同时被制作出来的。
4.如权利要求3所述的触控面板，其特征还在于视窗区域的透明电路图案是由很细的金属网格组成的。
5.如权利要求3所述的触控面板，其特征还在于视窗区的透明电路图案和边框导线图案是通过曝光蚀刻工艺制作的。
6.如权利要求3所述的触控面板，其特征还在于视窗区的透明电路图案和边框导线图案是由电阻比较小的金、银、铜、铝或者这些金属与其他金属的合金组成，考虑到曝光蚀刻工艺的特点，优选铜、以及铜合金。
全文摘要
本发明公开了一种电容式触控面板及其制造方法。具体过程为在一透明基材单面布设导电层；上述材料经过上光阻、曝光、显影、蚀刻等过程，形成电路图形；所述电路图案包括可视区的细网格图案(a)和边框区的导线图案(b)。此结构触控面板具有厚度薄、性能好、制作工艺简单等优点。
文档编号G06F3/044GK102929462SQ20121041958
公开日2013年2月13日 申请日期2012年10月29日 优先权日2012年10月29日
发明者王科磊, 杨松义, 张记宁, 潘绍明, 杨胜利 申请人:烟台正海科技有限公司