1.一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：
把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是10um～15um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。
2.按照权利要求1所述的OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的黑色低电阻导电膜，膜层厚度150nm～250nm。
3.按照权利要求1所述的OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的第二层黑色低电阻导电膜层，膜层厚度150nm～250nm。