1.一种用于显示装置的基底，所述基底包括：
基体基底；
硬涂覆膜，设置在基体基底上方，硬涂覆膜由AlON形成；以及
多层膜，设置在基体基底与硬涂覆膜之间，其中，多层膜包括彼此顺序且重复地堆叠的具有第一折射率的至少一个涂覆膜以及具有第二折射率的至少一个涂覆膜。
2.根据权利要求1所述的基底，其中，具有第一折射率的所述至少一个涂覆膜以及具有第二折射率的所述至少一个涂覆膜彼此顺序且重复地堆叠至少两次。
3.根据权利要求2所述的基底，其中，第一折射率在2.0至2.5的范围内，第二折射率在1.35至1.6的范围内。
4.根据权利要求1所述的基底，其中，多层膜包括：
第一涂覆膜，设置在基体基底上，第一涂覆膜具有第一折射率；
第二涂覆膜，设置在第一涂覆膜上，第二涂覆膜具有第二折射率；
第三涂覆膜，设置在第二涂覆膜上，第三涂覆膜具有第一折射率；以及
第四涂覆膜，设置在第三涂覆膜上，第四涂覆膜具有第二折射率。
5.根据权利要求4所述的基底，其中，第一涂覆膜和第三涂覆膜由折射率在2.0至2.5的范围内的金属氧化物形成，金属氧化物选自于由Nb2O5、TiO2、Ta2O5、Ti2O3、Ti3O5和ZrO2组成的组。
6.根据权利要求4所述的基底，其中，第一涂覆膜和第三涂覆膜的厚度小于第二涂覆膜和第四涂覆膜的厚度。
7.根据权利要求4所述的基底，其中，在第一涂覆膜、第三涂覆膜和硬涂覆膜中，第一涂覆膜的厚度是最小的，硬涂覆膜的厚度是最大的。
8.根据权利要求1所述的基底，其中，硬涂覆膜的厚度是多层膜的厚度的至少10倍。
9.根据权利要求8所述的基底，其中，硬涂覆膜的厚度在1,000nm至3,000nm的范围内。
10.根据权利要求4所述的基底，所述基底还包括设置在硬涂覆膜上的第五涂覆膜，第五涂覆膜由折射率比硬涂覆膜的折射率小的材料形成。
11.根据权利要求10所述的基底，其中，第五涂覆膜的材料与第二涂覆膜和第四涂覆膜的材料相同。