[0038]本发明实施例三提供了一种阵列基板如图5所示，与实施例二不同的是，在实施例三中，所述触控电极走线图形中的触控电极走线41形成在所述阵列基板的数据线图形中的数据线21所对应的区域之外。相类似的，通过将触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形所对应的区域之外，也能够避免触控电极图形和数据线图形之间形成垂直交叠电容，提高触控电极图形的响应速度。
[0039]进一步的，如图5所示，该阵列基板还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形，所述屏蔽线图形由图中所示的屏蔽线91组成，屏蔽线图形中的屏蔽线91形成在所述数据线图形的中的数据线21所对应的区域(如图4所示，屏蔽线91形成在数据线21的正上方)，用于屏蔽所述数据线21产生的电场。
[0040]通过形成屏蔽线图形以屏蔽数据线图形所产生的电场，能够进一步降低触控电极图形和数据线图形之间的电容，提高触控电极图形的响应速度。在具体实施时，这里的屏蔽线图形中的屏蔽线的走向与数据线以及触控电极走线的走向一致。需要指出的是，这里所指的屏蔽线91形成在所述数据线图形的中的数据线21所对应的区域并不是限定屏蔽线91位于数据线21的正上方，比如也可以将屏蔽线91形成在数据线21上方偏向触控电极走线41的一侧，这样同样也能达到较好的屏蔽效果，相应的方案也应该落入本发明的保护范围。
[0041]需要指出的是，不将触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所对应的区域之外而单独形成触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形所对应的区域或者单独形成屏蔽线图形以屏蔽数据线图形所产生的电场也都能降低触控电极图形和数据线图形之间的电容，提高触控电极走线的响应速度。
[0042]需要指出的是，虽然在上述的各个实施例中，示出的是触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间的情形。但是在实际应用中，将触控电极走线图形形成在其他位置也能够实现降低相应的触控显示装置的厚度，并降低制作难度的目的，相应的技术方案也应该落入本发明的保护范围。
[0043]实施例四
[0044]本发明还提供了一种制作阵列基板的方法，该方法可以用于制作上述任一实施例中的阵列基板，如图6所示，该方法包括:
[0045]步骤SI，通过第一次图案化工艺在基底上形成栅电极图形；
[0046]步骤S2，通过第二次图案化工艺形成有源层图形；
[0047]步骤S3，通过第三次图案化工艺形成像素电极图形和数据线图形；
[0048]步骤S4，通过第四次图案化工艺形成绝缘层图形；
[0049]步骤S5，通过第五次图案化工艺形成触控电极走线图形；
[0050]步骤S6，通过第六次图案化工艺形成钝化层图形；
[0051]步骤S7，通过第七次图案化工艺形成公共电极图形。
[0052]各个图案化工艺可以是指在形成各个层结构之后，在相应的层结构上涂覆光刻胶，之后使用掩膜板对光刻胶进行曝光显影，之后利用曝光显影之后的光刻胶作为保护层对对应的层结构进行刻蚀形成对应的图形。通过这种方式，具体到步骤S7中，可以沉积透明电极材料(比如氧化铟锡等)形成公共电极层，之后对公共电极层进行曝光、显影、刻蚀将公共电极层刻蚀为多个块状电极，该多个块状电极构成公共电极层图形。
[0053]具体的，在上述的步骤S7中，还可以将公共电极层中对应于触控电极走线上方的公共电极刻蚀掉，此时该制作方法能够用于形成实施例二所述的阵列基板。
[0054]具体的，在上述的步骤S5中，还可以在数据线图形所对应的区域同层同时形成屏蔽线图形。此时该制作方法还能够用以制作实施例三所述的阵列基板。
[0055]需要指出的是，虽然实施例四中示出的是通过七次图案化工艺制作阵列基板的情况，但是在实际应用中，阵列基板的制作过程并不仅限于此，只要能够:在基底上形成触控电极走线图形和公共电极图形，且所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极，其对应的技术方案所制作的阵列基板均能够解决本发明所提出的技术问题，相应的技术方案也应该落入本发明的保护范围。
[0056]本发明还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任一实施例所述的阵列基板。
[0057]这里的显示装置可以为:电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0058]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但是，本发明的保护范围不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替代，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形；其中，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在像素开口区域之外。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线图形在所述触控电极走线图形垂直对应的区域具有空隙。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形垂直对应的区域之外。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形，所述屏蔽线图形形成在所述数据线图形所对应的区域，用于屏蔽所述数据线图形产生的电场。
6.如权利要求1-5其中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括形成在所述公共电极图形所在的层结构与所述数据线图形所在的层结构之间的绝缘结构，所述触控电极走线图形形成在所述绝缘结构中。
8.一种制作阵列基板的方法，其特征在于，包括:在基底上形成触控电极走线图形，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线；形成公共电极图形，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极；其中，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，形成公共电极图形包括: 沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形； 其中，对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形包括刻蚀掉所述触控电极走线图形上方垂直对应的公共电极层。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，在基底上形成触控电极走线图形包括:在形成数据线图形之后，在形成所述公共电极图形之前，形成触控电极走线图形。
11.如权利要求8所述的方法，其特征在于，该方法还包括形成所述触控电极走线图形时，在数据线图形所对应的区域同层形成屏蔽线图形。
12.—种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的阵列基板。
【专利摘要】本发明提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置，该阵列基板包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形；其中，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。与现有技术中单独形成一层触控电极的方式相比，能够有效降低触控显示装置的厚度以及制作难度。
【IPC分类】G02F1-1343, G02F1-1333, G06F3-044
【公开号】CN104536633
【申请号】CN201510038766
【发明人】杨盛际, 董学, 王海生, 薛海林, 赵卫杰, 许睿, 包智颖, 李月, 李彦辰, 吕振华, 陈希
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2015年1月26日