BASF Japan社制造）：0.6质量份
[0263] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分 10% ) :0.03质量份
[0264] ?甲基异丁基酮（MIBK) :1134. 1质量份
[0265] (高折射率层用组合物1-3)
[0266] ?高折射率微粒分散液（ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液（固体成分：32. 5质量％ )、 产品名"MZ-230X"、住友大阪水泥社制造）：70. 9质量份
[0267] ?季戊四醇三丙烯酸酯（产品名"KAYARAD PET-30"、日本化药社制造）：13. 0质量 份
[0268] ?聚合引发剂（产品名" Irgacure 184"、BASF Japan社制造）：0.6质量份
[0269] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分 10% ) :0.03质量份
[0270] ?甲基异丁基酮（MIBK) :1116. 1质量份
[0271] (高折射率层用组合物1-4)
[0272] ?高折射率微粒分散液（ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液（固体成分：32. 5质量％ )、 产品名"MZ-230X"、住友大阪水泥社制造）：15. 8质量份
[0273] ?季戊四醇三丙烯酸酯（产品名"KAYARAD PET-30"、日本化药社制造）：62. 0质量 份
[0274] ?聚合引发剂（产品名" Irgacure 184"、BASF Japan社制造）：0· 6质量份
[0275] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分 10% ) :0.03质量份
[0276] ?甲基异丁基酮（MIBK) : 200质量份
[0277] (高折射率层用组合物1-5)
[0278] ?高折射率微粒分散液（ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液（固体成分：32· 5质量％ )、 产品名"MZ-230X"、住友大阪水泥社制造）：37. 7质量份
[0279] ?季戊四醇三丙烯酸酯（产品名"KAYARAD PET-30"、日本化药社制造）：23· 8质量 份
[0280] ?聚合引发剂（产品名" Irgacure 184"、BASF Japan社制造）：0.6质量份
[0281] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分 10% ) :0.03质量份
[0282] ?甲基异丁基酮（MIBK) :1138. 6质量份
[0283] (高折射率层用组合物1-6)
[0284] ?高折射率微粒分散液（ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液（固体成分：32. 5质量％ )、 产品名"MZ-230X"、住友大阪水泥社制造）：90. 8质量份
[0285] ?季戊四醇三丙烯酸酯（产品名"KAYARAD PET-30"、日本化药社制造）：6· 5质量 份
[0286] ?聚合引发剂（产品名" Irgacure 184"、BASF Japan社制造）：0.6质量份
[0287] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分 10% ) :0.03质量份
[0288] ?甲基异丁基酮（MIBK) :1102. 7质量份
[0289] 〈低折射率层用组合物的制备〉
[0290] 按如下所示的组成混配各成分，得到低折射率层用组合物。
[0291] (低折射率层用组合物1-1)
[0292] ?低折射率微粒分散液（MIBK-SD (二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液、固体成 分30%分散液（固体成分：30.0质量％ )、产品名"MIBK-SD"、日产化学工业社制造））：15 质量份
[0293] ?季戊四醇三丙烯酸酯（日本化药社制造，KAYARAD-PET-30) :5质量份
[0294] ?光聚合引发剂（BASF社制造 ，Irgacure 184) :1质量份
[0295] ?硅酮系流平剂（大日精化工业社制造，SEIKA-BEAM10-28、固体成分10% ) :0· 2 质量份
[0296] ?甲基异丁基酮：1000质量份
[0297] (低折射率层用组合物1-2)
[0298] ?季戊四醇三丙烯酸酯（PETA) : 30质量份
[0299] ?聚合引发剂（产品名"Irgacure 184"、BASF Japan社制造）：1· 5质量份?娃酮 系流平剂（大日精化工业社制造，产品名"SEIKA-BEAM10-28"、固体成分10% ) :0. 05质量 份
[0300] ?甲基异丁基酮：1000质量份
[0301] 〈实施例 1_1>
[0302] 准备厚度为125 μm的聚对苯二甲酸乙二醇醋基材（产品名"Cosmoshine "、东洋 纺纱社制造）作为透光性基材，在聚对苯二甲酸乙二醇酯基材的单面上涂布高折射率层用 组合物1-1，形成涂膜。接下来，使所形成的涂膜于40°C干燥1分钟后，在氮气气氛（氧浓 度200ppm以下）下以累积光量为lOOmJ/cm 2的方式进行紫外线照射，使涂膜固化，由此形成 折射率为1. 60和膜厚为60nm的高折射率层。接下来，在高频溅射装置中，向电极施加频率 13. 56MHz、电力5kW的高频电力，使其在腔室内放电，在高折射率层上形成由靶材物质（二 氧化硅）构成的折射率为1. 46和膜厚为25nm的低折射率层。接下来，利用溅射法在低折 射率层上形成锡掺杂氧化铟（ITO)层，在150°C的加热烘箱中进行30分钟加热处理，使之 结晶化。然后利用照相平版印刷法将所形成的ITO层图案化，形成折射率为1. 98和膜厚为 25nm的经图案化的透明导电层，由此制作出实施例1的导电性膜。
[0303] 〈实施例 1_2>
[0304] 准备厚度为125 μm的聚对苯二甲酸乙二醇醋基材（产品名"Cosmoshine "、东洋 纺纱社制造）作为透光性基材，在聚对苯二甲酸乙二醇酯基材的单面上涂布底涂层用组合 物，形成涂膜。接下来，对着所形成的涂膜以0. 2m/s的流速流通50°C的干燥空气15秒后， 进一步以10m/S的流速流通70°C的干燥空气30秒，使之干燥，由此使涂膜中的溶剂蒸发，在 氮气气氛（氧浓度200ppm以下）下以累积光量为lOOmJ/cm 2的方式照射紫外线，使涂膜固 化，由此形成折射率为1. 52和膜厚为2. 0 μ m的底涂层。接下来，在底涂层上涂布高折射率 层用组合物1-1，形成涂膜。然后，将所形成的涂膜在40°C干燥1分钟后，于氮气气氛（氧浓 度200ppm以下）下以lOOmJ/cm 2的累积光量进行紫外线照射，使之固化，形成折射率为1. 60 和膜厚为60nm的高折射率层。接下来，在高频溅射装置中，向电极施加频率13. 56MHz、电力 5kW的高频电力，由此使其在腔室内放电，在高折射率层上形成由靶材物质（二氧化硅）构 成的折射率为1. 46和膜厚为25nm的低折射率层。接下来，利用溅射法在低折射率层上形 成锡掺杂氧化铟（ITO)层，在150°C的加热烘箱中进行30分钟加热处理，使之结晶化。然后 利用照相平版印刷法将所形成的ITO层图案化，形成折射率为1. 98和膜厚为25nm的经图 案化的透明导电层，由此制作出实施例2的导电性膜。
[0305] 〈实施例 1_3>
[0306] 实施例1-3中，除了使高折射率层的膜厚为30nm、低折射率层的膜厚为IOnm以外， 与实施例1-1同样地实施，制作出导电性膜。
[0307] 〈实施例 1_4>
[0308] 实施例1-4中，除了使高折射率层的膜厚为30nm、低折射率层的膜厚为40nm以 外，与实施例1-1同样地实施，制作出导电性膜。
[0309] 〈实施例 1_5>
[0310] 实施例1-5中，除了低折射率层的组成和形成方法以外，与实施例1-1同样地实 施，制作出导电性膜。实施例1-5中，在高折射率层上涂布低折射率层用组合物1-1形成涂 膜，将所形成的涂膜于40°C干燥1分钟后，在氮气气氛（氧浓度200ppm以下）下以IOOmJ/ cm2的累积光量进行紫外线照射，使之固化，形成折射率为1. 49和膜厚为25nm的低折射率 层。
[0311] 〈实施例 1_6>
[0312] 实施例1-6中，除了使透明导电层的膜厚为40nm以外，与实施例1-5同样地实施， 制作出导电性膜。
[0313] 〈实施例 1_7>
[0314] 实施例1-7中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物1-2， 使低折射率层的膜厚为40nm，除此以外，与实施例1-5同样地实施，制作出导电性膜。实施 例1-7的导电性膜的高折射率层的折射率为1. 57。
[0315] 〈实施例 1_8>
[0316] 实施例1-8中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物1-3， 作为低折射率层形成由氟化镁构成的层，除此以外，与实施例1-1同样地实施，制作出导电 性膜。实施例1-8的导电性膜的高折射率层的折射率为1. 67,低折射率层的折射率为1. 38。
[0317] 〈实施例 1_9>
[0318] 实施例1-9中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物1-3， 不使用低折射率层用组合物1-1而使用低折射率层用组合物1-2,除此以外，与实施例1-5 同样地实施，制作出导电性膜。实施例1-9的导电性膜的高折射率层的折射率为1. 67,低折 射率层的折射率为1. 52。
[0319] 〈实施例 1-10>
[0320] 实施例1-10中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物4,使 高折射率层的膜厚为1200nm，除此以外，与实施例1-5同样地实施，制作出导电性膜。实施 例1-10的导电性膜的高折射率层的折射率为1. 63。
[0321] 〈实施例 1-11>
[0322] 实施例1-11中，除了使高折射率层的膜厚为80nm以外，与实施例1-5同样地实 施，制作出导电性膜。
[0323] 〈实施例 1-12>
[0324] 实施例1-12中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物1-3， 使高折射率层的膜厚为30nm、低折射率层的膜厚为60nm，除此以外，与实施例1-5同样地实 施，制作出导电性膜。
[0325] 〈比较例 1-1 >
[0326] 比较例1-1中，除了不使用高折射率层用组合物1而使用高折射率层用组合物5 以外，与实施例1-1同样地实施，制作出导电性膜。比较例1-1的导电性膜的高折射率层的 折射率为1. 54。
[0327] 〈比较例 1_2>
[0328] 比较例1-2中，不使用高折射率层用组合物1-1而使用高折射率层用组合物1-6， 除此以外，与实施例1-1同样地实施，制作出导电性膜。比较例1-2的导电性膜的高折射率 层的折射率为1.76。
[0329] 将实施例1-1~1-12以及比较例1-1和1-2中所得到的导电性膜的构成汇总于 表1。
[0330] 【表1】
【主权项】
1. 一种导电性膜，其具有： 透光性基材、 层积于所述透光性基材的单面或两面的高折射率层、 层积于所述高折射率层上且折射率低于所述高折射率层的折射率的低折射率层、 层积于所述低折射率层上且经图案化的透明导电层， 由所述透明导电层的表面侧向所述透明导电层照射光，并设所述导电性膜的表面的法 线方向为0°，在5°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度进行照射，由各自的朝 向镜面反射方向的反射光求出L#aV s色度系统的a #值和b #值时，a #值的波动为3. 5以内， 且1/值的波动为7.0以内。
2. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述高折射率层与所述低折射率层的折射率 差为0. 10以上0. 30以下。
3. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述高折射率层具有20nm以上100nm以下的 膜厚和1. 55以上1. 75以下的折射率，并且所述低折射率层具有3nm以上lOOnm以下的膜 厚和1. 35以上1. 55以下的折射率。
4. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，进一步具有设置在所述透光性基材与所述高 折射率层之间的底涂层。
5. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述高折射率层具有0. 5 y m以上10 y m以下 的膜厚和1. 55以上1. 75以下的折射率，并且所述低折射率层具有3nm以上lOOnm以下的 膜厚和1. 35以上且小于1. 55的折射率。
6. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述透明导电层具有15nm以上50nm以下的膜 厚和1. 85以上2. 30以下的折射率。
7. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述透明导电层为锡掺杂氧化铟层。
8. 如权利要求1所述的导电性膜，其中，所述a #值的波动为1. 5以内。
9. 一种触控面板传感器，其中，所述触控面板传感器具有权利要求1所述的导电性膜。
10. -种硬涂膜，其是在透光性基材上依次层积有底涂层、高折射率层和低折射率层的 硬涂膜，其中， 所述低折射率层在表面具有凹凸形状， 使用扫描型白色干渉显微镜在测定视野0. 12mm □测定的所述低折射率层的凹凸形状 的十点平均粗糙度和算术平均粗糙度值均大于使用扫描型探针显微镜在测定视野5 ym 口 测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点平均粗糙度和算术平均粗糙度的值。
11. 如权利要求10所述的硬涂膜，其中， 使用扫描型白色干渉显微镜在测定视野0. 12mm □测定的所述低折射率层的凹凸形状 的十点平均粗糙度为50~500nm，并且所述低折射率层的凹凸形状的算术平均粗糙度为 0. 5 ~10.0 nm。
12. 如权利要求10所述的硬涂膜，其中， 使用扫描型探针显微镜在测定视野5 ym □测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点 平均粗糙度为50nm以下，并且所述低折射率层的凹凸形状的算术平均粗糙度为3. Onm以 下。
13. 如权利要求10所述的硬涂膜，其中， 所述底涂层含有微粒a，所述高折射率层含有微粒b，所述低折射率层含有微粒c， 所述微粒a的平均粒径为0. 1~3. 0 y m，所述微粒b的平均粒径为15~50nm，并且所 述微粒c的平均粒径为5nm以上且小于30nm。
14. 如权利要求13所述的硬涂膜，其中， 所述底涂层含有的所述微粒a是二氧化硅微粒，所述高折射率层含有的所述微粒b是 氧化锆微粒，并且所述低折射率层含有的所述微粒c是二氧化硅微粒。
15. 如权利要求14所述的硬涂膜，其中， 所述底涂层含有的所述微粒a是球状二氧化硅微粒或胶态二氧化硅微粒，所述高折射 率层含有的所述微粒b是无定形氧化锆微粒，并且所述低折射率层含有的所述微粒c是胶 态二氧化硅微粒。
16. 如权利要求13所述的硬涂膜，其中， 在所述高折射率层与所述低折射率层的界面形成有所述微粒b和所述微粒c均不存在 的区域。
17. 如权利要求10所述的硬涂膜，其中， 所述底涂层的折射率为1. 45~1. 60,所述高折射率层的折射率为1. 55~1. 75,所述 低折射率层的折射率为1. 35~1. 55,并且 所述高折射率层、所述底涂层和所述低折射率层各自的折射率满足下式（2)的关系， 高折射率层的折射率>底涂层的折射率>低折射率层的折射率（2)。
18. 如权利要求10所述的硬涂膜，其中， 在所述低折射率层的与所述高折射率层侧的面相对的一侧的面形成有导电层。
19. 如权利要求18所述的硬涂膜，其中， 进一步具有在所述低折射率层和所述导电层之间形成的无机层。
20. -种触控面板传感器，其中，所述触控面板传感器具有权利要求10所述的硬涂膜。
【专利摘要】本发明提供导电性膜、硬膜和触控面板传感器。以各种角度观看的情况下抑制色调的波动。硬涂膜润滑性优异、且在形成导电层时能够实现该导电层的低电阻值化。经图案化的导电性膜(10)具有：透光性基材(11)、层积于透光性基材(11)的单面或两面上的高折射率层(14)、层积于高折射率层(14)上的低折射率层(15)、层积于低折射率层(15)上且经图案化的透明导电层(16)，透明导电层(16)的表面(16A)形成导电性膜(10)的表面(10A)，由透明导电层(16)的表面(16A)侧向透明导电层(16)照射光，并设导电性膜(10)的表面(10A)的法线方向为0°，在5°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度进行照射，由各自的朝向镜面反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为3.5以内，且b*值的波动为7.0以内。
【IPC分类】G06F3-041
【公开号】CN104656974
【申请号】CN201410662938
【发明人】小川善正, 中川博喜, 芳片邦聪, 大川晃次郎, 黑田刚志
【申请人】大日本印刷株式会社
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2014年11月19日