0ML、引线WRC、绝缘膜24以及多个像素电极22。并且，如图23以及图24所示，在俯视时，在显示区域Ad的内部，多个像素电极22分别形成在沿X轴方向以及Y轴方向矩阵状排列的多个子像素SPix每一个的内部。另外，在本实施方式2中，引线WRC包括在驱动电极驱动器14中。包括引线WRC的驱动电极驱动器14电连接驱动电极COML和COG19。
[0201]在图23示出的例子中，与在实施方式1中参照图6说明的情况相同地，多个驱动电极C0ML每一个形成在基板21与像素电极22之间。并且，如图24中示意性示出，在俯视时，多个驱动电极C0ML每一个设为与多个像素电极22重叠。而且，多个像素电极22每一个与多个驱动电极C0ML每一个之间施加电压，在设在多个子像素SPix每一个中的液晶元件LC形成电场，从而在显示区域Ad显示图像。
[0202]在本实施方式2中，与实施方式1相同地，由液晶元件LC、多个像素电极22、驱动电极C0ML、多个扫描线GCL、多个信号线SGL形成控制图像的显示的显示控制部。而且，多个驱动电极C0ML与像素电极22的配置、液晶层6以及取向膜也可以与实施方式1相同。
[0203]在本实施方式2中，与实施方式1相同地，如图24所示，沿X轴方向排列的多个子像素SPix(即液晶显示设备20的属于同一行的多个子像素SPix)通过扫描线GCL彼此连接。扫描线GCL连接于栅极驱动器12 (参照图1)，由栅极驱动器12供给扫描信号Vscan (参照图1)。并且，驱动电极C0ML连接于驱动电极驱动器14(参照图1)，由驱动电极驱动器14供给驱动信号Vcom(参照图1)。
[0204]另一方面，在图24示出的例子中，与实施方式1不同，属于同一行的多个子像素SPix共用一个驱动电极C0ML。在显示区域Ad，多个驱动电极C0ML分别沿X轴方向延伸，且在Y轴方向上排列。如上所述，在显示区域Ad，多个扫描线GCL分别沿X轴方向延伸，且在Y轴方向上排列，因此，多个驱动电极C0ML每一个的延伸方向与多个扫描线GCL每一个的延伸方向平行。
[0205]如图22所示，C0G 19设在以显示区域Ad为中心位于Y轴方向的一侧的部分的周边区域As。因此，包括引线WRC的驱动电极驱动器14包括沿Y轴方向延伸的延伸部EX2。包括引线WRC的驱动电极驱动器14包括分别连接延伸部EX2和多个驱动电极C0ML每一个的多个连接部CN2。连接部CN2在例如X轴方向等与延伸部EX2延伸的Y轴方向交叉的方向上延伸。连接部CN2的驱动电极C0ML侧的端部连接于驱动电极C0ML，连接部CN2的C0G19侧的端部连接于延伸部EX2的驱动电极C0ML侧的端部。在周边区域As的内部，延伸部EX2和连接部CN2设在基板21的上表面上。
[0206]另外，根据X轴方向的C0G 19的位置，包括引线WRC的驱动电极驱动器14可以包括连接延伸部EX2和C0G 19的连接部CT2。连接部CT2也设在基板21的上表面上。
[0207]另外，在图22的俯视图和图23的截面图中均未示出在俯视时配置在周边区域As内的、包括引线WRC的驱动电极驱动器14。
[0208]利用本实施方式2的显示装置的液晶显示设备20中的栅极驱动器12、源极驱动器13以及驱动电极驱动器14的显示动作可与实施方式1的显示装置的液晶显示设备20中的显示动作相同。
[0209]与实施方式1的显示装置1中的驱动电极C0ML相同地，本实施方式2的显示装置1中的驱动电极C0ML也是作为液晶显示设备20的驱动电极进行动作，并且，作为触摸检测设备30的驱动电极进行动作。
[0210]在本实施方式2中，与实施方式1相同地，触摸检测设备30具有设在阵列基板2的多个驱动电极COML以及设在相对基板3的多个检测电极TDL。在俯视时，多个检测电极TDL分别向与多个驱动电极COML每一个的延伸方向交叉的方向延伸。而且，产生对应于多个驱动电极COML每一个与多个检测电极TDL每一个之间的静电电容的信号，所产生的信号通过包括引线WRC的驱动电极驱动器14以及引线WRT而被检测，从而检测出输入位置。即，由形成有检测电极TDL的基板31 (参照图23)这样的电极基板、以及驱动电极COML来形成用于检测输入位置的检测部(即输入装置)。
[0211 ] 在实施方式1和本实施方式2中，均通过引线WRC向驱动电极C0ML供给驱动信号，并通过引线WRT检测检测信号。并且，在实施方式1中，例如，在俯视时，在周边区域As内，空间SPsl (参照图6)与引线WRT重叠配置，因此，能够实现防止噪声进入通过引线WRT检测的检测信号中的效果。另一方面，在本实施方式2中，例如，在俯视时，在周边区域As内，空间SPsl (参照图23)与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠配置，因此，可实现防止噪声进入通过引线WRC供给至驱动电极C0ML的驱动信号中的效果。
[0212]本实施方式2的显示装置的触摸检测设备30中的触摸检测动作也可以与实施方式1的显示装置的触摸检测设备30中的触摸检测动作相同。
[0213]如在实施方式1中参照图8说明，在俯视时，彼此交叉的多个驱动电极C0ML和多个检测电极TDL形成矩阵状排列的静电电容式触摸传感器。因此，对触摸检测设备30的整个触摸检测面进行扫描，能够检测手指等接触或者接近的位置。
[0214]并且，与实施方式1的触摸检测设备30相同地，作为本实施方式2的触摸检测设备30可以适用自身电容方式的触摸检测设备30。
[0215]在本实施方式2中，与实施方式1相同地，如图22以及图23所示，相对基板3具有基板31、滤色层32、检测电极TDL、引线WRT以及保护膜33。但是，如图22所示，在俯视时，检测电极TDL沿Y轴方向延伸，因此，在图23的截面中，在俯视时，在周边区域As的内部，没有配置引线WRT。
[0216]与实施方式1相同地，在本实施方式2中，如图23所示，作为基板的覆盖板4隔着相对基板3设在与阵列基板2的相反侧。S卩，在显示区域Ad以及周边区域As，覆盖板4设为与相对基板3的上表面相对。
[0217]在本实施方式2中，与实施方式1相同地，在俯视时，在X轴方向排列的多个检测电极TDL每一个可以形成为由多个导电线形成的网状，也可以形成为在俯视时以交替地在反方向上弯曲的状态整体沿Y轴方向延伸的之字状。
[0218]〈保护膜上的绝缘体部的配置〉
[0219]接着，参照图22和图23，说明保护膜上的绝缘体部的配置。
[0220]如图22和图23所示，在显示区域Ad，保护膜33上设有绝缘体部IPd。S卩，绝缘体部IPd设在保护膜33上，并且，在俯视时，与显示区域Ad重叠配置。换言之，绝缘体部IPd隔着保护膜33设在基板31的上表面上，并且，在俯视时，与显示区域Ad重叠配置。
[0221]绝缘体部IPd例如包括偏光板34以及树脂35。偏光板34隔着保护膜33设在基板31的作为主面的上表面上。树脂35设在偏光板34上。覆盖板4设在树脂35上，并且，通过树脂35与偏光板34接合。另外，在后面说明偏光板34的结构。
[0222]如图23所示，在俯视时，在作为周边区域As的内部的与包括驱动电极C0ML的引线WRC的驱动电极驱动器14重叠的部分，在保护膜33上设有与绝缘体部IPd同层的空间SPsl。S卩，空间SPsl设在绝缘体部IPd的侧方，在俯视时，在周边区域As内，与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠配置。空间SPsl的介电常数低于绝缘体部IPd的介电常。从而，如后面参照图25说明那样，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容相对变小。
[0223]或者，如在实施方式1中参照图9说明那样，在俯视时，在作为周边区域As的内部的与包括驱动电极C0ML的引线WRC的驱动电极驱动器14重叠的部分，在保护膜33上设有与绝缘体部IPd同层的绝缘体部IPs，该绝缘体部IPs的介电常数低于绝缘体部IPd的介电常数。即，绝缘体部IPs可以设在绝缘体部IPd的侧方，在俯视时，在周边区域As内，与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠。这时，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容相对变小。
[0224]另外，在本实施方式2中，与实施方式1相同地，在俯视时，绝缘体部IPd可以设在从整个显示区域Ad到周边区域As的一部分的区域。
[0225]并且，如在实施方式1中参照图10说明那样，绝缘体部IPd可以包括偏光板34，偏光板34与覆盖板4之间设有空间SPd。而且，空间SPs2可设在空间SPd的侧方，在俯视时，在周边区域As内，与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠。这时，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容相对变小。
[0226]〈降低周边区域中的噪声〉
[0227]接着，与比较例2对比说明本实施方式2的显示装置中降低周边区域中的噪声的情况。图25是示出比较例2的显示装置中的带触摸检测功能的显示设备的截面图。
[0228]与实施方式2的显示装置相同地，在俯视时，在比较例2的显示装置101的带触摸检测功能的显示设备110中，在显示区域Ad的内部的保护膜33上设有绝缘体部IPd。BP,绝缘体部IPd设在保护膜33上，并且，在俯视时，与显示区域Ad重叠。绝缘体部IPd包括设在保护膜33上的偏光板34以及设在偏光板34上的树脂35。
[0229]但是，在比较例2的显示装置101的带触摸检测功能的显示设备110中，在俯视时，在周边区域As的内部，与包括驱动电极C0ML的引线WRC的驱动电极驱动器14重叠的部分的保护膜33上形成有与绝缘体部IPd同层的绝缘体部IPs 100。绝缘体部IPs 100包括设在保护膜33上的偏光板34s以及设在偏光板34s上的树脂35s。
[0230]偏光板34s形成为与偏光板34同层，并且由与偏光板34的材料相同种类的材料构成。树脂35s形成为与树脂35同层，并且由与树脂35的材料相同种类的材料构成。SP，在比较例2中，绝缘体部IPs 100由与绝缘体部IPd的材料相同种类的材料构成，绝缘体部IPs 100的介电常数不低于绝缘体部IPd的介电常数。
[0231]因此，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容相对变大。因此，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，来自手指或输入工具的噪声容易传递至包括引线WRC的驱动电极驱动器14。而且，通过包括引线WRC的驱动电极驱动器14输入驱动电极C0ML的信号容易受到噪声的影响，降低信号强度对噪声强度的比(即SN比)。
[0232]另一方面，在实施方式2中，如图23所示，介电常数低于绝缘体部IPd的介电常数的绝缘体部IPs (参照图9)或者空间SPsl设在绝缘体部IPd的侧方，在俯视时，在周边区域As内，绝缘体部IPs或者空间SPsl与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠。绝缘体部IPs的介电常数以及空间SPsl的介电常数均低于绝缘体部IPd的介电常数。因此，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容相对变小。因此，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，来自手指或输入工具的噪声不易传递至包括引线WRC的驱动电极驱动器14。而且，通过包括引线WRC的驱动电极驱动器14输入驱动电极COML的信号不易受到噪声的影响，SN比增大，能够提高输入装置的检测性能。
[0233]而且，在实施方式2中，具有相对高的介电常数的绝缘体部IPd设置为在俯视时与显示区域Ad重叠。因此，在显示区域Ad，当手指或输入工具接近覆盖板4时，检测电极TDL与手指或输入工具之间的静电电容相对变大。因此，能够提高输入装置的检测性能。
[0234]并且，优选地，绝缘体部IPs或者空间SPsl配置为在俯视时除了延伸部EX2之外还与连接部CN2重叠。从而，与绝缘体部IPs或者空间SPsl被配置为在俯视时仅与延伸部EX2重叠的情况相比，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，来自手指或输入工具的噪声更加难以传递至包括引线WRC的驱动电极驱动器14。
[0235]另外，即使是除了引线WRT以及包括引线WRC的驱动电极驱动器14之外的、用于检测输入位置的任何布线配置在周边区域As内时，绝缘体部IPs或者空间SPsl可以配置为在俯视时在周边区域As内与该布线重叠。这时，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，来自手指或输入工具的噪声难以传递至该布线。
[0236]〈背光灯框架的支撑结构〉
[0237]在本实施方式2中，可以适用在实施方式1中参照图12以及图13说明的背光灯框架52的支撑结构。并且，如参照图12说明，还可以由未设置覆盖板4，背光灯框架52的框部54的上端的高度位置高于保护膜33的上表面的高度位置，且空间SPsl设在绝缘体部IPd的侧方，空间SPsl配置为俯视时在周边区域As内与包括引线WRC的驱动电极驱动器14重叠的情况。这时，空间SPsl是设在绝缘体部IPd与背光灯框架52的框部54之间的槽部 TRlo
[0238]即使在这种情况下，与实施方式1相同地，在俯视时，在周边区域As，手指或输入工具接近覆盖板4时，与未设置槽部TR1(即空间Spsl)时相比，能够减少包括引线WRC的驱动电极驱动器14与手指或输入工具之间的静电电容。
[0239]〈偏光板〉
[0240]在本实施方式2中，可以适用在实施方式1中参照图14?图16说明的偏光板的结构。并且，与实施方式1相同地，当偏光板34包括导电层62时，通过在绝缘体部IPd的侧方设置介电常数低于绝缘体部IPd的介电常数的绝缘体部IPs (参照图9)或者空间SPsl，能够增大在周边区域As中难以产生噪声的效果。因此，在周边区域As，当手指或输入工具接近覆盖板4时，来自手指或输入工具的噪声更加难以传递至驱动电极C0ML，由输入装置检测的信号更加不易受到噪声的影响，能够进一步增大SN比。
[0241 ] 并且，在本实施方式2中，与实施方式1相同地，如图9所示，在周边区域As内，在绝缘体部IPd的侧方设有介电常数低于绝缘体部IPd的介电常数的绝缘体部IPs，并且如图14所示，偏光板34包括导电层62时，优选地，绝缘体部IPs不包括导电层。从而，能够防止或抑制显示区域Ad的噪声的影响波及到周边区域As。
[0242]〈保护膜的材料〉
[0243]接着，参照图26和图27说明保护膜的材料。图26和图27是示出实施方式2的显示装置中的带触摸检测功能的显示设备的另一例子的截面图。
[0244]在本实施方式2中，可以适用在实施方式1中参照图17以及图18说明的保护膜的材料。即，优选地，保护膜33由紫外线固化型材料构成，紫外线吸收层71设在隔着液晶层6的与阵列基板2的相反侧，即液晶层6与保护膜33之间。从而，与实施方式1相同地，在形成保护膜33时无需进行热处理，并且，能够防止或抑制液晶层6或者取向膜(未图示)被照射紫外线而分解变质。
[0245]在图26示出的例子中，紫外线吸收层71设在基板31的作为一个主面的上表面上，保护膜33设在紫外线吸收层71上。S卩、紫外线吸收层71配置在保护膜33的正下方。在图