压印用模具和压印方法

专利名称：压印用模具和压印方法
技术领域：
本发明涉及压印用模具和压印方法。
背景技术：
压印技术可以以低成本形成精细的图案，因此期望在磁盘、半导
体、装置(激光器、光波导路等)、MEMS (微电子机械系统)、NEMS (纳 米电子机械系统)等的精细加工部件、新一代记录盘等中得以应用。
压印技术是在被转印基板上涂布树脂材料，在该树脂层上按压形 成有凹凸图案的模具，通过UV处理或加热冷却处理使树脂层固化，将 模具从树脂层上剥离，在树脂层上形成图案。压印技术之一的软光刻 法中，使用PDMS (聚二甲基硅氧烷)等弹性体作为软质模具代替石英、 硅等硬质模具。
上述压印技术中，由于形成了图案的面是平坦的，因此，在基板 上的树脂层上按压模具时接触面积增大，基板与模具之间有可能混入 气泡，排除该影响对于正常进行压印来说非常重要。
以往的压塑成型装置中，是通过将成型模的周围抽真空、减压、 形成消泡环境来解决转印不良的(参照专利文献l)，必须有真空装置的 设备。
为了形成高精度的图案，在专利文献2中，将形成有凸部的塑性 介质固定在另外的曲面状弹性体表面上，通过施加机械外力使介质追 随弹性体的变形而弯曲变形，控制被转印基板与介质的接触时机。但 是，这必须制作形成有凸部的介质、并将其进一步固定在曲面状弹性 体表面，需要繁杂的步骤。
专利文献3中公开为了高精度且容易地进行从被转印基板上剥 离模具的步骤，使用弯曲的模具，这样，贴合时相对于模具的形状为
翘曲的基板在剥离时恢复原状，容易剥离。但是，这样的构成中，为 了使模具弯曲，必须使单独平坦的模具与弯曲的基板贴合，并且所转 印的凹凸图案不是平坦模具的图案，而变成弯曲模具的图案，难以进 行精细且高精度的转印。
专利文献l:日本特开2003-48728号公报 专利文献2:日本特开2004-17409号公报 专利文献3:日本特开2004-288845号公报(段落0031-0033)

发明内容
在本发明要解决的课题中，上述问题是一个例子。 本发明的目的在于提供防止气泡混入转印面的压印用模具和压 印方法。
本发明的压印用模具如权利要求l所述，是将在具有弹性的模具 的表面形成的图案按压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压 印用模具，其特征在于在上述模具的内部设置比重不同的区域，使 图案形成面弹性变形，从而在按压于上述被转印层上时，上述图案形 成面由其面内的规定部位起依次接触_。
本发明的压印方法如权利要求5所述，是将在具有弹性的表面形 成有图案的模具按压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压印
方法，其特征在于在上述模具的内部设置比重不同的区域，使图案
形成面弹性变形，使图案形成面从其面内的规定部位起依次接触地进 行按压。
附图简述
图l是本发明的实施方案l的软模具的示意图，(a)是截面图，(b) 是正面图。
图2(a)-(c)是说明使用图l所示的软模具的压印步骤的图。 图3 (a)-(e)是说明图l所示软模具的制作方法的图。 图4是用于说明

图1所示的软模'具'的变形的图。
图5是用于说明图1所示软模具的基板与被转印基板的起伏幅度 的图。
图6是本发明的实施方案2的软模具的示意图，(a)是截面图，(b) 是正面图。
图7是本发明的实施方案3的软模具的示意图，(a)是截面图，(b) 是正面图。
图8是表示磁盘用图案的一个例子的图。 图9 (a)-(e)是用于说明制备磁盘的步骤的图。 图10 (f)-(l)是用于说明制备磁盘的步骤的图。 图ll是制备磁盘的步骤的流程。
符号说明 1模具 2基板 3重锤式部件 4被转印基板 5树月旨层 6母模具 7模框
n伺服图案部分
12形成图案的数据磁道部分
100基板保持体
102模具保持体
105被转印层(树脂层)
106硬质掩模层
107记录膜层
108记录介质用基板
109非磁性材料110润滑层
111保护层
实施发明的最佳方式
以下，参照附图对本发明的实施方案进行说明。以下说明中的例 举并不限定本发明。
C实施方案i)
以下，采用图1-图5对本发明的实施方案1进行说明。 图l是本实施方案的模具的示意图，(a)是截面图，(b)是正面图。 图l所示的模具l是具有弹性的软模具，例如由PDMS (聚二甲基硅 氧垸)等构成，在其具有弹性的表面形成有凹凸图案la。模具l通过由 石英或Si (硅)等构成的基板(模具保持部件)2保持其背面。模具1的内部 包藏有比重比模具本体(弹性体)大的重锤式部件3。即，通过内包重锤 式部件3，在模具内部形成比重不同的区域。重锤式部件3为矩形形状， 配置在方形模具l面的中央部分。
详细情况如后所述，模具l的图案形成面是平坦面，该面被调节 成在该平坦的状态下可正确地再现图案的表面不平度。即，将具有弹 性的模具l按压在平坦的基板表面，则其贴合面平坦，因此，在此时 的状态下，图案被调节成预定的线宽/排列。上述构成的模具l中，如 图1所示，使图案形成面为垂直朝下的状态，则具有弹性的模具l承受 重力的作用，通过将重锤式部件3内包在中央部分，中央部分向垂直 方向下方隆起，由该隆起的部分向半径方向外侧弹性变形为缓慢弯曲 的凸状曲面形状。向垂直方向下方隆起的原因被认为是重锤式部件3 的比重比包围该重锤式部件3的、形成模具l的弹性体的比重大，例如 承受重力的作用，重锤式部件3陷入模具1的阳模部件中。该状态下， 如果将模具l按压在基板上的被转印层上，则隆起的中央部分首先接 触，然后向外周方向扩展、依次接触。最终，凸状曲面再现沿被转印 层的表面形状的平坦形状。这里，本实施方案中，为了由图案形成面
的中央部分开始接触，在模具1的中央部分内包重锤式部件3，但是， 如果希望图案形成面由其它部位开始接触，则在相应该部位的位置内 包重锤式部件3。即，重锤式部件3内包在希望与被转印层首先接触的 规定部位对应的位置。
这样，通过内包重锤式部件3、使模具l的图案形成面弹性变形为 凸状曲面，以该状态按压在被转印层上，不是整个面而是由最顶部的 小面积部分开始与平坦的被转印层接触，因此可以防止在接触面夹带 气泡。
图2是说明使用上述软模具的压印步骤的图。图2中，软模具的图 案形状省略。
在作为被转印基板的基板4上涂布树脂材料，形成被转印层5—树 脂层。基板4可以使用硅晶片、石英基板、铝基板或在这些基板上层 合了半导体层、磁性层或强电介质层等的基板等。形成被转印层5的 树脂可使用PMMA (聚甲基丙烯酸甲酯)等热塑性树脂或PAK-Ol (产品 名，东洋合成工业株式会社制备)等UV固化性树脂等。在使模具l的图 案形成面垂直朝下的状态下，将模具1与基板4相对靠近。此时，模具 l由于内包的重锤式部件3而形成由中央部分向半径方向外侧弯曲的 凸状曲面(图2(a))。
因此，模具1的弯曲面的最顶部首先与被转印层5接触，然后向周 边方向依次接触(图2(b))。由此，可防止转印面中混入气泡，按压模具 1 (图2(c))。之后的步骤未图示，在被转印层5为热塑性树脂时，进行 加热冷却处理，使树脂固化。或者，在被转印层5为UV固化性树脂时， 通过UV处理使树脂固化。这样使树脂固化后，将模具1从被转印基板4 上剥离。此时，中央部分内包有重锤式部件3，因此由周边部分向中 央部分依次剥离，可容易且顺畅地剥离。
接着，采用图3对软模具的制作方法进行说明。图3是说明使用 PDMS作为模具材料的软模具的制作方法的图。
对形成有图案的例如含有硅原板的母模具6进行清洗，实施脱模
处理，在母模具6的外周设置包围图案的模框7(图3(a))。该母模具6的 模框7内流入混合有固化剂的PDMS1 (图3(b))。在PDMS1中设置重锤 式部件3 (图3(c))。在该状态下，在PDMS1上放置基板2，在室温下放 置，使PDMSl固化(图3(d))。然后，从母模具4上剥离用PDMS形成的 模具l (图3(e))。
图3(b)中，重锤式部件3设置于图案形成面的中央部分，设置于 PDMS1的厚度方向的中央部分，在该位置使PDMS常温固化，保持重 锤式部件3。然后如图l所示，将模具l的图案形成面垂直朝下，则内 包有重锤式部件3的中央部分隆起，弹性变形为向半径方向的外侧弯 曲的凸状弯曲面。
这样，通过形成软模具，可以在模具的图案形成面为平坦的状态、 即与被转印基板贴合的状态下，忠实地再现母模板的形状。因此，即 使模具的图案形成面以弯曲的状态按压，也可以按压在被转印层上形 成平坦的状态，可以在该状态下正确地再现要转印的图案。
这里，软模具的制作方法例举了向模框内流入PDMS、常温固化 的模具制作方法的一个例子，也可以使用弹性体前体，采用热固化、 光固化、常温固化等固化方法制备它们。另外，在模具表面形成图案 的方法也可以是在模具固化后通过切削等加工方法加工图案。
接着，对软模具的图案形成面由于重锤式部件导致的弹性变形进 行详细阐述。
软模具必须具有充分保持在其表面形成的图案形状的适度的弹 性，并且，由于通常以平板形状使用，可以认为在不含有重锤式部件、 总体比重均匀时，仅凭软模具本身的彈性不会在厚度方向极端地伸长 /变形。因此，内包重锤式部件的区域(图4的X)和未内包重锤式部件的 区域(图4的Y)的伸长的差、可以以弹性系数的基本公式(1)近似地表示 (参照图4)。
X=PXL/(EXA) (1)P:重锤式部件带来的载荷 L:软模具的厚度 E:软模具的弹性系数 A:重锤式部件的截面积
软模具与被转印基板(严格地讲是被转印层)接触时，考虑到模具-基板之间混入气泡的过程，如果重锤式部件带来的弹性体的伸长的差
X比基板4表面的起伏幅度hw与软模具的背面、即固定软模具的基板2 表面的起伏幅度hc之和(hw+hc)(参照图5)大，则有望防止接触过程中 空气的混入。这里，起伏幅度hw和hc是与转印直接相关的区域、即模
具与被转印基板接触的面积区域内的起伏幅度。
将其用公式表示，则为了使软模具有效地发挥功能，条件是从(l)
式得出下式(2)的关系成立。
PXL/(EXA)〉hw+hc (2)
例如，使用在石英基板上形成的PDMS软模具，在Si晶片上进行 压印时的条件如下。
Si晶片的起伏幅度5[jim]
石英基板的起伏幅度5&m〗
软模具的形状宽10[cm]、厚5[mm]
PDMS的弹性系数2.5[MPa]
此时，根据式(2)，可由下式导出lcn^的载荷(P/A)。
P/A>(hw+hc)XE/L
P[Kgf]/A[cm2]>(0.0005+0.0005)[cm]x0.255[Kg^cm2〗/0.5[cm] =0.0005[Kgf/cm2]=0.5[gf/cm2]
上述条件中，作为一个例子，采用边长为l cm的正方形铁(比重
7.85[g/cmS])作为重锤式部件时，
0.5/7.85[cm]=0.064[cm〗=640[^im]，
因此在l 0112内内包厚度大于640 ^n的铁板即可。
重锤式部件采用边长为l cm的正方形金(比重19.3[g/cm")时， 0.5/19.3[cm]=0,026[cm]=260[pm〗，
因此在l 0112内在软模具中内包厚度大于260 pm的金箔片即可。
同样，采用边长为l cm的正方形石英(比重2.5[g/cm")作为重锤 式部件时，
0.5/2.5[cm]=0.20[cm]=2[mm],
因此在lcm2内内包厚度大于2 mm的石英即可。
如上所述，根据本实施方案，模具的图案形成面形成中央部分隆 起的凸状曲面，将模具与被转印层贴合时，图案形成面由中央部分向 半径方向外侧逐渐接触，因此可以防止转印面中混入气泡。另外，模 具转印时，图案形成面平坦，以与母模具同样的表面不平度形成，因 此可以良好保持转印时模具的图案精度。另外，软模具表面的曲面形 状是由于内包重锤式部件而形成的，因此可以不需要施加外力的机 构。
本发明的模具并不限于上述实施方案，只要是通过在具有弹性的 模具内设置比重不同的区域，使图案形成面弹性变形的模具即可。
模具通过在弹性体内设置比重不同的区域而使图案形成面发生 弹性变形，可以在模具与被转印层开始接触时减小接触面积，可防止 转印面中混入气泡。另外，将模具按压在被转印层上时，模具弹性变 形，沿着被转印层的表面形状进行变形，因此可以正确地调节图案的 表面不平度。
模具的图案形成面的表面不平度通过模具的图案形成面与被转 印层贴合时的形状来调节，即使由于比重差而造成模具的图案形成面
变形，在模具与被转印层贴合的状态下也可以正确地再现模具的图 案，因此可以将正确的图案转印在被转印层上。
如以往的模具一样，在图案形成面平坦时，开始接触的面积大， 有气泡容易混入转印面的问题。因此，通过设置比重不同的区域，模 具的图案形成面变形为凸状曲面、或者一端隆起的倾斜面等弯曲的形 状，开始接触时，模具与被转印层以小面积接触，之后逐渐扩大接触 面积，同时与被转印层贴合，可一边由图案形成面的弯曲形状的最顶 部向周围排除气泡一边进行模具与被转印层的贴合。
设置比重不同的区域而形成的图案形成面的变形形状优选相对 于被转印基板面为具有一定程度的接触角的凸状形状，还可以是在与 图案形成面垂直的方向上比模具背面的起伏量和被转印基板表面的 起伏量的总和有更大的隆起，由此可以排除模具与被转印基板的起伏 产生的影响。
构成上述模具的弹性材料并不限于上述构成，可以使用所谓的弹 性体，例如有有机硅树脂、氨基甲酸酯树脂、天然橡胶、SBR (丁
二烯/苯乙烯共聚物)、NBR(丁二烯/丙烯腈共聚物)、CR(聚氯丁烯)、 BR(聚丁二烯)、IR(聚异戊二烯)或氟树脂等，其中优选有机硅树脂和 氮基甲酸酯树脂，特别优选有机硅树脂。并且，从模具制作的容易性 考虑，优选通过固化剂固化的有机硅树脂，上述树脂例如有PDMS。
本发明的模具的外周形状并不限于上述的方形，可以采用形状与 对象产品适合的模具。在例如半导体、装置、MEMS、 NEMS等的制 作中可以采用方形的模具，在例如磁盘、光盘等的制作中可以采用圆 形的模具。
本发明的重锤式部件并不限于上述构成，只要可在模具内形成不 同比重的区域即可。该区域的比重比构成模具的弹性体大时，如果图 案形成面垂直朝下，则该区域的模具形成面隆起；图案形成面垂直朝 上，则该区域的模具形成面凹陷，使图案形成面变形。相反，该区域 的比重比构成模具的弹性体小时，该区域的载荷比只由模具构成的区
域的载荷小，因此，如果图案形成面垂直朝下，则该区域形成比模具 形成面凹陷的凹状形状；图案形成面垂直朝上，则该区域隆起，使图 案形成面变形。模具具有弹性，因此图案形成面从该区域变形的部分 起缓慢变形，形成弯曲形状。
重锤式部件的配置并不限定于模具面的中央部分，可以根据被转 印层或基板的形状、转印工序采用适当的位置。另外，并不限于圆形 /方形的模具，对于形状更为复杂的模具，也可以通过变更重锤式部件 的配置位置来控制被转印层与模具的接触位置。
重锤式部件的形状没有特别限定，除上述矩形形状之外，有球形、 圆形、椭圆形、薄板形状等。
上述重锤式部件只要由比重比模具本身(弹性体)的比重大的材料 形成即可。重锤式部件优选对模具材料没有腐蚀、分解、变质等不良 影响，且不会受来自模具材料的腐蚀、氧化、溶解等不良影响的材料。 例如有石英、铁、金等，但并不限于此。重锤式部件中如果使用石
英等UV透过性材料，则同样可以将UV透过性PDMS模具与石英基板 组合，采取模具整体的UV透过性不会变差的构成，在UV固化式纳米 压印法中提高可靠性。
除重锤式部件之外，作为模具内比重大的区域，例如可通过在模 具内的特定区域分散石英等比重大的粉体来形成上述区域。通过上述 区域，可以更精密地调节模具的图案形成面上的弯曲形状。
(实施方案2)
以下，用图6对本发明的实施方案2进行说明。对于与上述实施方 案l同样的构成采用相同符号，省略其说明。
图6所示的软模具是在上述实施方案1中，变更重锤式部件的配置 和形状的一个例子，在方形的软模具的一边边缘，在图案la的外侧内 包带状的重锤式部件3。
压印时，在软模具l的图案形成面垂直朝下的状态下，通过设置
重锤式部件3，相对于软模具l本身相对地向下侧移动，由此使软模具
l的一端朝下方隆起，形成由一端向另一端缓慢倾斜的形状。在该状 态下，将软模具l由垂直方向上方与被转印层接触，软模具l由一端开 始逐渐接触被转印层，因此可在防止气泡混入的情况下进行压印。之 后，将软模具l抬高，剥离软模具l。
(实施方案3)
以下，用图7对本发明的实施方案3进行说明。对于与上述实施方
案l同样的构成采用相同符号，省略其说明。
图7所示的软模具是在图案形成面保持垂直朝上的状态下，由上 方按压被转印基板的构成，在方形的软模具l的外周边，在图案la的外 侧四周都内包有重锤式部件3。由此，模具的外周边向下方倾斜，软 模具l的中央部分相对隆起，朝向其半径方向外侧形成缓慢弯曲的凸 状曲面形状。
在该状态下使被转印基板与软模具相对地靠近，则软模具由中央 的最顶部与被转印层接触，然后朝向半径方向外侧逐渐接触，因此可 防止被转印面中气泡的混入。
上述构成可以在工艺中固定软模具一侧，因此，可以通过简单的 构成由软模具一侧进行UV处理或加热冷却处理。
如以上说明，本发明的压印用模具是将在具有弹性的模具的表面 形成的图案按压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压印用模 具，通过在上述模具的内部设置比重不同的区域，使图案形成面发生 弹性变形，从而在按压于上述被转印层上时，上述图案形成面由面内 规定部位依次接触，在转印时模具由小面积开始与被转印部件接触， 因此可以防止气泡混入转印面中。
本发明的压印方法是将在具有弹性的表面形成有图案的模具按 压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压印方法，在上述模具内 部设置比重不同的区域，使图案形成面弹性变形，使图案形成面由其面内规定的部位起依次接触地进行按压，在转印时模具由小面积开始 与被转印部件接触，因此可以防止气泡混入转印面中。
最后，参照图8-图11，对使用图l所示的模具l制备磁盘的手法进 行说明。
首先，图8表示磁盘制备用模具中形成的图案形状的一个例子。 如图8所示，模具l的图案形成面形成有对应于形成图案的数据磁道部 分ll、伺服图案部分12的凹凸。特别是对应于形成图案的数据磁道部 分11的图案是以一定的间隔在整个面上形成的约25 nm左右的微细的 图案。近年来，日益高容量化的磁盘对于形成相当于密度为500Gbpsi (吉比特演寸2)以上、特别是1-10 Tbpsi左右的极高面记录密度的超精 细图案有效。因此，通过使用形成了约25nm比特间隔的图案的模具， 可以制作记录密度大约为l Tbpsi的高密度图案记录介质。上述微细图 案优选通过可形成高精细图案的电子束描画形成。
接着，使用具有图8中例举的图案的模具1，对制备磁盘的步骤进 行说明。图9和图10是示意性表示各步骤的图，图ll是其流程图。
首先，在步骤S101中，如图9(X)所示，准备由特殊加工的化学强 化玻璃、Si晶片、铝板、其它材料构成的记录介质用基板108(基板108 的准备)。然后，在基板108上通过p尹等进行记录膜层107的成膜(记 录膜层107的形成)。为垂直磁记录介质时，形成软磁性底层、中间层、 强磁性记录层等的层合结构体。接着，通过溅射等在记录膜层107上 形成Ta或Ti等的硬质掩模层106(硬质掩模层106的形成)。再通过悬涂 法等在硬质掩模层106上涂布UV固化性树脂作为转印材料(被转印层 105的形成)。
在步骤S102中，如图9(b)所示，将软模具1安装在模具保持部件102 上(模具向模具保持体上的安装)。之后，再安装在压印装置中，使模 具1的图案形成面与保持在基板保持部件100上的基板的被转印层105 彼此相对(向压印装置上的安装)。此时，进行模具保持体102与基板保 持体100的水平方向的位置调节(位置调节)。
步骤S103中，将基板靠近模具l，将模具l的图案形成面按压在被 转印层105上(图9(c))。从模具l的背面一侧照射UV光(波长300-400 nm)，使UV固化性树脂(被转印层105)固化，然后将基板从模具l上剥 离，由此，图案被转印在被转印层105上(图9(d》。
步骤S104中，对于从压印装置中取出的基板，进行使用02气等的 软灰化等，除去被转印层105的残膜(残膜的除去)。由此，残余的被转 印层105的图案成为用于蚀刻硬质掩模层106的蚀刻掩模(图9(e))。
在步骤S105中，如图10(f)所示，使用CHF3气等进行硬质掩模层106 的蚀刻，在硬质掩模层106上形成图案。然后如图10(g)所示，进行湿 法加工或灰化等，除去残存的蚀刻掩模(被转印层105)(在硬质掩模层 106上形成图案)。
在步骤S106中，如图10(h)所示，将形成了图案的硬质掩模层106 作为蚀刻掩模，使用Ar气等进行干蚀刻，在记录膜层107上形成图案(在 记录膜层107上形成图案)。然后如图10(i)所示，进行湿法加工或干蚀 刻，除去残留的硬质掩模层106。
在步骤S107中，如图10(j)所示，通过溅射或涂布，在记录膜层107 的表面的凹部埋入非磁性材料109 (为磁记录介质时，是Si02等非磁性 材料(非磁性材料109的埋入)。
在步骤sio8中，如图io(k)所示，ai过蚀刻或化学抛光等，研磨表
面，使其平坦(平坦化)。由此，记录材料形成被非记录性材料分隔的 结构。
在步骤S109中，如图10(1)所示，进行CVD或溅射，形成碳等的表 面保护层l 11 ，再通过浸渍法等进一步形成润滑层l IO(表面处理)。
如上所述制备具有精细图案结构的磁盘，最后，将其安装在具有 磁盘介质驱动系统(主轴马达、旋转驱动控制电路等)和磁信息读写机 构(磁头、悬挂装置、纠错电路，)的硬盘驱动器中，完成磁记录装置。
本发明的软模具即使在转印如图8所示的约25 nm的精细图案时 也可以防止气泡的混入，同时，在与基板贴合的状态下可以再现预定
的图案，因此可以高精度转印图案。除此之外，按压模具时图案形成 面逐渐接触，并且在脱离时也是逐渐脱离，因此可以防止图案倒置、 脱离等的发生。
以上对本发明的具体实施方案进行了说明，只要不脱离本发明的 范围则可以进行各种变形，这对于本技术领域中具有常识的人员来说 是显而易见的。因此，本发明的技术范围不只限于上述实施方案所限 定的范围，应由权利要求范围以及与其等同的范围来确定。
权利要求
1. 压印用模具，该压印用模具是将在具有弹性的模具的表面形成的图案按压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压印用模具，其特征在于在上述模具的内部设置比重不同的区域，使图案形成面发生弹性变形，从而在按压于上述被转印层上时，上述图案形成面由其面内的规定部位依次接触。
2. 权利要求l所述的压印用模具，其特征在于上述模具的图案 形成面的表面不平度通过上述模具的图案形成面与上述被转印基板 贴合的形状来调节。
3. 权利要求1或2所述的压印用模具，其特征在于上述模具的 图案形成面平坦，通过设置上述区域，该图案形成面发生弯曲。
4. 权利要求l-3中任一项所述的压印用模具，其特征在于上述 区域导致的上述模具单位面积的载荷(P/A)在下式所表示的范围内P/A>(hw+hc)XE/LP:区域带来的载荷A:区域的截面积hw :被转印基板表面的起伏幅度he :模具背面的起伏幅度E:模具的弹性系数L.-模具的厚度。
5. 压印方法，该方法是将在具有弹性的表面形成了图案的模具 按压于在基板上形成的被转印层上进行转印的压印方法，其特征在 于在上述模具的内部设置比重不同^区域，使图案形成面弹性变形， 使上述图案形成面由其面内规定的部位起依次接触地进行按压。
全文摘要
本发明提供压印用模具，该压印用模具是将在具有弹性的模具的表面形成的图案按压于在被转印基板(4)上形成的被转印层(5)上，在上述被转印层(5)上转印图案的压印用模具，通过在具有弹性的模具(1)内的中央部分内包重锤式部件(3)，如果使图案形成面垂直朝下，则图案形成面弹性变形为凸状曲面，转印时，模具(1)由最顶部与被转印基板(4)接触，因此可防止转印面中混入气泡。
文档编号H01L21/027GK101394989SQ20078000736
公开日2009年3月25日 申请日期2007年2月26日 优先权日2006年3月3日
发明者桥本和信 申请人:日本先锋公司