专利名称：阀体、闸阀和基板处理系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及隔开两个腔室的阀体、闸阀和基板处理系统。
背景技术：
在基板处理系统中，包括内置有输送基板的臂的传递室、和配置在该传递室周围的多个处理室，在各处理室对基板实施规定的处理，例如等离子体处理。在传递室和处理室之间配置有隔开这些腔室的闸阀。图9是示意地表示现有闸阀的结构的截面图。在图9中，闸阀90配置在传递室和处理室之间，包括在两侧面设有开口 91a、91b 的阀箱92和配置在阀箱92的内部并通过杆(阀棒)94与致动器93连接的阀体95。该闸阀90，在隔开传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95紧贴阀箱92的内壁面堵塞开口 91a，在连通传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95从阀箱92的内壁面离开并被拉升到上方。在隔开传递室和处理室时，阀体95隔着开口 91a与处理室的内部相对，因此，在处理室中对基板实施会产生沉积物(7*° )的处理(以下称为“沉积物性处理”)时，有时会在阀体95的表面也附着沉积物。在闸阀90中，为了易于进行附着在阀体95表面的沉积物的除去作业，能够通过开放构成阀箱92下部的自由开闭的阀盖凸缘96而容易地拆下阀体95 (例如，参照专利文献I)。并通过喷流等对取出的阀体95的表面进行清洗。在先技术文献专利文献专利文献I :日本特开平11-108243号公报
发明内容
发明要解决的问题但是，在图9的闸阀中，为了清洗阀体95需要开放阀盖法兰96，因此，传递室的内部通过开口 91b与外部连通，在传递室的内部不能输送基板，结果，存在基板处理系统实质上停止的问题。本发明的目的在于，提供在清洗阀体时无需使基板处理系统实质上停止的阀体、闸阀和基板处理系统。用于解决问题的方法为了达到上述目的，本发明技术方案I记载的阀体，其在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，该阀体的特征在于，包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。技术方案2记载的阀体，其特征在于在技术方案I记载的阀体的基础上，所述覆盖部件通过安装部件安装到所述主体。技术方案3记载的阀体，其特征在于在技术方案I记载的阀体的基础上，所述覆盖部件包括板状部件。技术方案4记载的阀体，其特征在于在技术方案3记载的阀体的基础上，所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。技术方案5记载的阀体，其特征在于在技术方案4记载的阀体的基础上，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被遮住而不能被看到。技术方案6记载的阀体，其特征在于在技术方案4或5记载的阀体的基础上，在沿着经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体的方向的截面中，所述框体和所述相对部件的间隙呈曲折结构。技术方案7记载的阀体，其特征在于在技术方案4或5记载的阀体的基础上，所述相对部件构成为能够分割。技术方案8记载的阀体，其特征在于在技术方案I至5的任意一项记载的阀体的基础上，所述连通口包括在壁部件开口的孔，该孔的侧面由保护部件覆盖。技术方案9记载的阀体，其特征在于在技术方案8记载的阀体的基础上，所述保护部件遮住覆盖部件的一部分。为了达到上述目的，技术方案10记载的闸阀具有阀体，所述阀体在包括对基 板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，所述闸阀的特征在于所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件,所述相对部件安装于该主体,并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。技术方案11记载的闸阀，其特征在于在技术方案10记载的闸阀的基础上，所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。技术方案12记载的闸阀，其特征在于在技术方案10或11记载的闸阀的基础上，在所述阀体关闭所述连通口时，通过所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被挡住而不能视认。为了达到上述目的，技术方案13记载的基板处理系统，包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室，该基板处理系统的特征在于具有开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口的阀体，所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整。
发明效果按照本发明，在阀体关闭连通口时，通过连通口从处理室侧观察阀体时，在连通口内能够看到覆盖部件所具有的相对部件整体，因此，能够在由阀体关闭着连通口的状态下从处理室侧通过连通口拆下相对部件，而且，传递室的内部不会与外部连通。另外，相对部件隔着连通口与处理室相对，因此，在该处理室产生的沉积物主要附着在该相对部件上。其结果，只要拆下相对部件进行清洗，就能够实质上清洗阀体。即，在清洗阀体时传递室的内部不会与外部连通，能够无需实质上停止基板处理系统。
图I是示意地表示本发明的实施方式的基板处理系统的结构的俯视图。图2是示意地表示本实施方式的阀体所适用的闸阀的结构的图，图2 (A)是放大截面图，图2 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图3是示意地表示本实施方式的阀体的第一变形例的结构的图，图3 (A)是放大截面图，图3 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图4是表示图3的阀体的截面形状的变形例的放大截面图。图5是表示图3的阀体中的中央部的变形例的主视图。图6是示意地表示本实施方式的阀体的第二变形例的结构的图，图6 (A)是放大截面图，图6 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图7是表示图6中的侧面罩部件的变形例的截面图，图7 (A)表示侧面罩部件的第一变形例，图7 (B)表示侧面罩部件的第二变形例。图8是示意地表示本实施方式的阀体的第三变形例的结构的截面图。图9是示意地表示现有闸阀的结构的截面图。
具体实施例方式以下，参照
本发明的实施方式。图I是示意地表示本发明的实施方式的基板处理系统的结构的俯视图。在图I中，基板处理系统10包括俯视呈五角形的传递室11、在该传递室11的周围放射状配置且分别通过闸阀12与传递室11连接的4个处理室13、通过闸阀14与传递室11连接的负载锁定室15和与负载锁定室15连接的加载器16。传递室11的内部被减压，且利用在其内部配置的输送臂(未图示)将基板S向各处理室13搬入。各处理室13的内部被减压，且对被搬入的基板S实施等离子体处理，例如干蚀刻处理。负载锁定室15的内部压力能够变更为真空或大气压，暂时保存由传递室11的输送臂或加载器16具有的输送臂17搬入的基板S。另外，在负载锁定室15的内部暂时保存的基板S由传递室11的输送臂或输送臂17搬出。加载器16包括输送臂17和两个缓冲室18a、18b，缓冲室18a载置多个未处理的基板S将其暂时保管，缓冲室18b载置多个已处理的基板S将其暂时保管，输送臂17在负载锁定室15和两个缓冲室18a、18b之间输送基板S。在基板处理系统10中，在对基板S实施干蚀刻处理时，闸阀12隔开处理室13和传递室11，防止在干蚀刻处理中被导入到处理室13内部的处理气体和产生的等离子体进入传递室11的内部。图2是示意地表示本实施方式的阀体所适用的闸阀的结构的图，图2 (A)是放大截面图，图2 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。在图2 (A)中，闸阀12配置在传递室11和处理室13之间，包括在两侧壁开设连通口 19a、19b的阀箱20和配置在阀箱20内部通过杆21与致动器(未图示)连接的阀体22。另外，在阀箱20的连通口 19a侧的侧壁的内面包围连通口 19a设置有O型环27。该闸阀12，在分隔传递室11和处理室13时，利用致动器和杆21使阀体22紧贴在配置于阀箱20内壁的O型环27而关闭连通口 19a，在连通传递室11和处理室13时，利用 致动器和杆21使阀体22从阀箱20的内壁面离开并向下方退出，结果，连通口 19a被开放，传递室11和处理室13经由连通口 19a、19b连通。在隔开传递室11和处理室13时，阀体22隔着连通口 19a与处理室13的内部相对，但是阀体22包括构成基部的主体23、和由安装于该主体23的板状的相对部件40构成的罩部件24 (覆盖部件)，该相对部件40覆盖主体23的隔着连通口 19a与处理室13的内部相对的部分。即，相对部件40隔着连通口 19a与处理室13的内部相对。因此，在处理室13中对基板S实施会产生沉积物的处理(以下称为“沉积物性处理”)时，称积物几乎都附着在相对部件40上。相对部件40构成为，通过多个螺钉25 (安装零件)安装在主体23上，并能够从主体23拆下。各螺钉25由盖26覆盖而不在阀体22的表面露出。另外，通过连通口 19a从处理室13侧观察阀体22时，如图2 (B)所示，能够看到相对部件40整体。即，相对部件40的大小比连通口 19a的开口面积稍小，例如，相对部件40的外周位于比连通口 19a的开口边缘靠内侧2mnT3mm左右的位置。因此，利用阀体22关闭了连通口 19a时，操作者能够将罩部件24通过连通口 19a从处理室13侧拆下，而不会使构成罩部件24的相对部件40与连通口 19a相干涉。相对部件40的与处理室13的内部相对的面具有能够使一旦附着在相对部件40上的沉积物难以剥落的表面粗糙度，由此，能够防止剥落的沉积物再次附着而污染其它部件。如上所述，相对部件40的大小与连通口 19a的开口的大小对应，连通口 19a的开口的大小与基板S的大小对应,因此,相对部件40的大小尤其是横向宽度与基板S的大小对应，例如，在基板处理系统10对大型的FPD (Flat Panel Display)用的基板S实施干蚀刻处理的情况下，相对部件40的横向宽度为800mm以上。构成阀体22的主体23和罩部件24 (相对部件40)由刚性高的部件例如铝形成，各自的表面由绝缘材料例如氧化铝或氧化钇的喷敷层覆盖。由此，能够防止发生异常放电。利用图2中的阀体22，在阀体22关闭连通口 19a时，通过连通口 19a从处理室13侧观察阀体22时，在连通口 19a内能够看到相对部件40整体，因此，操作者能够在由阀体22关闭着连通口 19a的状态下从处理室13侧通过连通口 19a拆下相对部件40，而且，传递室11的内部不会与外部连通。另外，相对部件40隔着连通口 19a与处理室13相对，因此，在该处理室13产生的沉积物主要附着在该相对部件40上。其结果，只要拆下相对部件40进行清洗，就能够实质上清洗阀体22。即，在清洗阀体22时传递室11的内部不会与外部连通，能够无需实质上停止基板处理系统10。在阀体22中，相对部件40由螺钉25安装在主体23上，因此通过拆掉螺钉25能够将相对部件40从主体23容易地拆下。此外，在阀体22中，相对部件40由板状部件构成，因此容易处理。在上述阀体22中，能够通过连通口 19a看到构成罩部件24的相对部件40整体，因此，在连通口 19a的开口内也能够看到主体23的一部分。即，·多少有沉积物附着在不能从阀体22拆下的主体23上的危险。以下说明图2中的阀体22的第一变形例。本变形例的结构、作用与上述阀体22基本相同，因此，省略对重复的结构、作用的说明，以下对不同的结构、作用进行说明。图3是示意地表示本实施方式的阀体的第一变形例的结构的图，图3 (A)是放大截面图，图3 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。在图3 (A)中，闸阀39包括阀箱20和配置在阀箱20的内部通过杆21与致动器(未图示)连接的阀体28。在隔开传递室11和处理室13时，阀体28隔着连通口 19a与处理室13的内部相对，阀体28包括构成基部的主体29、和安装于该主体29的罩部件30 (覆盖部件)。罩部件30包括安装在主体29中央部的作为板状部件的相对部件31和以包围该相对部件31的方式安装在主体29的框状部件32 (框体)，相对部件31和框状部件32覆盖主体29的隔着连通口 19a与处理室13的内部相对的部分。在本变形例中，通过连通口 19a从处理室13侧观察阀体28时，如图3 (B)所示，能够看到相对部件31整体，并且能够看到包围相对部件31周围的框状部件32，但是，框状部件32的一部分被阀箱20和处理室13的侧壁遮挡而不能被看到。换言之，在连通口 19a的开口内只露出相对部件31和框状部件32，主体29不露出。因此，在处理室13中对基板实施沉积物性处理时，全部沉积物都附着在相对部件31和框状部件32上，不会向主体29附着。此外，在主体29紧贴配置于阀箱20内壁的0型环27而关闭连通口 19a时，相对部件31和框状部件32不会超出0型环27所围的范围。在本变形例中，框状部件32是可分割的。因此，即使框状部件32的一部分不在连通口 19a的开口内露出，操作者也能够在通过连通口 19a从处理室13侧拆下相对部件31之后，分开框状部件32并将各分割片分别通过连通口 19a取出，从而拆下框状部件32。在将相对部件31和框状部件32向主体29安装时，首先，通过将框状部件32的各分割片向主体29嵌入，在主体29的表面形成框状部件32，在该所形成的框状部件32的中央部嵌入相对部件31，然后，利用螺钉25将相对部件31安装到主体29。根据上述本变形例，罩部件30包括作为板状部件的相对部件31和包围该相对部件31的框状部件32，因此，能够更大地覆盖主体29的表面。另外，框状部件32是可分割的，因此，能够通过将分割了框状部件32的各分割片向主体29嵌入，能够将主体29遮住，直到通过连通口 19a不能看到的部位。其结果，能够可靠地防止沉积物向主体29附着。而且，全部沉积物都附着到相对部件31和框状部件32，因此，只要将相对部件31和框状部件32拆下清洗，就能够实质性地除去全部沉积物。在本变形例中，考虑操作性，在框状部件32和相对部件31之间设置例如0. 2mm的间隙，但也可以是，在沿着通过连通口 19a从处理室13侧观察阀体28的方向的截面上，框状部件32和相对部件31的间隙33如图4所示呈曲折(labyrinth)结构。由此,能够防止沉积物通过框状部件32和相对部件31的间隙向主体29附着。其结果，利用螺钉25安装于主体29的相对部件31将框状部件32向主体29按压，因此，能够防止框状部件32从主体29脱落。另外，也可以在可分割的框状部件32中相邻的两个分割片间的接合部设置曲折结构。也可以使用于将框状部件32安装在主体29的螺钉(未图示)与螺钉25分别设置。在这种情况下，该螺钉优选设置在被相对部件31覆盖而不在阀体28的表面露出的位置。阀体22的相对部件40和阀体28的相对部件31由一种部件形成，但如上所述，例如，在基板处理系统10对大型的FPD用的基板S实施干蚀刻处理的情况下，相对部件40或 相对部件31大型化，操作者进行的处理变得困难。对应于此，也可以将相对部件40或相对部件31形成为可分割的(参照图5)。由此，操作者能够将罩部件24或相对部件31分割拆下，而且，能够使操作者的处理变得容易。以下，说明图2中的阀体22的第二变形例。本变形例的结构、作用与上述阀体22基本相同，因此省略对重复的结构、作用的说明，以下对不同的结构、作用进行说明。图6是示意地表示本实施方式的阀体的第二变形例的结构的图，图6 (A)是放大截面图，图6 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。在图6 (A)中，闸阀34包括阀箱20和配置在阀箱20的内部与致动器(未图示)通过杆21连接的阀体22。在本变形例中，连通口 19a的侧面被例如由硅石或氧化钇等绝缘性材料构成的侧面罩部件35 (保护部件)覆盖，因此，能够防止在连通口 19a附着沉积物。侧面罩部件35由筒状部件构成，能够向连通口 19a嵌入并能够拆下。在将侧面罩部件35嵌入连通口 19a的情况下，且阀体22关闭连通口 19a的情况下，当通过连通口 19a从处理室13侧观察阀体22时，如图6 (B)所示，在侧面罩部件35形成的开口内能够看到相对部件40整体。即，相对部件40的大小比侧面罩部件35的开口面积小。因此，在由阀体22关闭连通口 19a的情况下，操作者无需拆下侧面罩部件35就能经由连通口 19a拆下相对部件40。在本变形例中，在侧面罩部件35的开口内能够看到相对部件40整体，但也可以如图7(A)所示，侧面罩部件35a呈挡住主体23和相对部件40的间隙的形状，例如，在沿经由连通口 19a从处理室13侧观察阀体28的方向的截面上呈L字形。这种情况下，由L字形的底部挡住主体23和相对部件40的间隙。在此，在经由连通口 19a从处理室13侧观察阀体22时，在侧面罩部件35a形成的开口内相对部件40的一部分被挡住而不能看到，因此，在拆下相对部件40时，需要从连通口 19a取出侧面罩部件35a，但由于主体23和相对部件40的的间隙被侧面罩部件35a覆盖，能够防止沉积物通过该间隙向主体23附着。另外，由于侧面罩部件35a挡住相对部件40的一部分，结果，主体23全部被挡住。其结果，能够减少附着于主体23的沉积物。如图7 (B)所示，在阀体28具有罩部件30的情况下，也可以是侧面罩部件35b的沿经由连通口 19a从处理室13侧观察阀体28的方向的截面与侧面罩部件35a同样呈L字形，并覆盖框状部件32和相对部件31的间隙33。这种情况下，在拆下罩部件30时也需要将侧面罩部件35b从连通口 19a取出，但框状部件32和相对部件31的间隙33被侧面罩部件35b覆盖，因此能够防止沉积物通过该间隙33向主体29附着。以上用上述实施方式说明了本发明，但 本发明不限于上述实施方式。在上述实施方式中，以基板处理系统10对FPD用的基板S实施干蚀刻处理为前提，但也可以是基板处理系统10对作为半导体器件用基板的晶片实施干蚀刻处理。在上述实施方式中，阀体主体的处理室13侧的表面的一部分被罩部件覆盖，但也可以如图8所示，阀体36的主体37的处理室13侧的表面全部被可拆下的罩部件38覆盖。这种情况下，在处理室13产生的沉积物全部附着在罩部件38上，因此，通过拆下罩部件38进行清洗，就能够除去全部沉积物。另外，图8的阀体结构比上述实施方式中的阀体结构简单，但与上述实施方式中的阀体不同，在清洗阀体时不得不停止基板处理系统10，而且，必须开放阀箱20的上部或下部取出从主体37拆下的罩部件38。但是，无需取出阀体36本身，至少阀体37留在阀箱20内，因此，与现有的阀体相比，为了清洗阀体而使基板处理系统10停止的时间较短即可。因此，优先考虑只以需要简单的结构取得这样效果的情况下，图8的阀体是有优势的。附图标记说明10基板处理系统11传递室12 闸阀13处理室19a、19b 连通口22、28、36 阀体23、29、37 主体24、30、38 罩部件25 螺钉31相对部件32框状部件33 间隙35、35a、35b 侧面罩部件
权利要求
1.一种阀体,其在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，该阀体的特征在于，包括 能够移动的主体；和 具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对， 当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。
2.根据权利要求I所述的阀体，其特征在于 所述覆盖部件通过安装部件安装到所述主体。
3.根据权利要求I所述的阀体，其特征在于 所述覆盖部件包括板状部件。
4.根据权利要求3所述的阀体，其特征在于 所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。
5.根据权利要求4所述的阀体，其特征在于 当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被遮住而不能被看到。
6.根据权利要求4或5所述的阀体，其特征在于 在沿着经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体的方向的截面中，所述框体和所述相对部件的间隙呈曲折结构。
7.根据权利要求4或5所述的阀体，其特征在于 所述相对部件构成为能够分割。
8.根据权利要求I至5中的任意一项所述的阀体，其特征在于 所述连通口包括在壁部件开口的孔，该孔的侧面由保护部件覆盖。
9.根据权利要求8所述的阀体，其特征在于 所述保护部件遮住覆盖部件的一部分。
10.一种闸阀，其具有阀体，所述阀体在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，所述闸阀的特征在于 所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对， 当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。
11.根据权利要求10所述的闸阀，其特征在于 所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。
12.根据权利要求10或11所述的闸阀，其特征在于 当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被遮住而不能被看到。
13.—种基板处理系统,包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室，该基板处理系统的特征在于 具有开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口的阀体， 所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对， 当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。
全文摘要
本发明提供一种阀体，能够在清洗阀体时无需实质上停止基板处理系统。基板处理系统10包括对基板S实施干蚀刻处理的处理室13和输送基板S的传递室11，开放或关闭连通处理室13和传递室11的连通口19a的阀体22包括可移动的主体23和罩部件24，罩部件24能够从主体23拆下，由在阀体22关闭连通口19a时隔着连通口19a与处理室13相对的相对部件40构成，在阀体22关闭连通口19a时，通过连通口19a从处理室13侧观察阀体22，在连通口19a内能够视认相对部件40整体。
文档编号H01L21/00GK102954264SQ201210297129
公开日2013年3月6日 申请日期2012年8月20日 优先权日2011年8月19日
发明者本间彻 申请人:东京毅力科创株式会社