柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法

文档序号:7041402阅读:122来源:国知局
柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法
【专利摘要】公开了一种柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法。所述用于制造柔性显示装置的方法包括:通过下列步骤在基板上制造柔性基板:在基板上形成第一有机层;去除在第一有机层上形成的外来颗粒,并且在第一有机层中形成凹陷的第一修复槽;在第一有机层上形成第一无机层;在第一无机层上形成第二有机层;并且在第二有机层上形成第二无机层;在柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及从第一有机层去除基板。
【专利说明】柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法
【技术领域】
[0001]本发明总地涉及柔性基板、用于制造柔性基板的方法、柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法。
【背景技术】
[0002]显示装置是显示图像的装置,并且近来,包括有机发光二极管的显示装置已备受关注。
[0003]由于与液晶显示装置不同,有机发光二极管具有自发光特性并且不需要独立的光源,因此整个显示装置的厚度和重量可减小。此外,有机发光二极管具有诸如低功耗、高亮度以及高响应速度的高质量特性。
[0004]在此【背景技术】部分中公开的上述信息仅仅是为了增强对本发明背景的理解,因此上述信息可包含不构成在本国为本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

【发明内容】

[0005]本发明致力于提供一种用于控制缺陷的产生的柔性基板、一种用于制造柔性基板的方法、一种柔性显示装置以及一种用于制造柔性显示装置的方法。
[0006]本发明的示例性实施例提供一种用于制造柔性基板的方法,所述方法包括:在基板上形成第一有机层;去除在所述第一有机层上形成的外来颗粒,并且在所述第一有机层中形成凹陷的第一修复槽;在所述第一有机层上形成第一无机层;在所述第一无机层上形成第二有机层;以及在所述第二有机层上形成第二无机层。
[0007]去除所述外来颗粒可以是通过将激光束照射在所述第一有机层上来执行的。
[0008]在所述基板上形成所述第一有机层可以是通过在所述基板上涂覆有机材料来执行的。
[0009]在所述第一有机层上形成所述第一无机层可以是通过在所述第一有机层上沉积无机材料来执行的。
[0010]所述方法进一步包括用修复材料填充所述第一修复槽。
[0011]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性显示装置的方法,所述方法包括:通过利用所述用于制造柔性基板的方法制造柔性基板;在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及从所述第一有机层去除所述基板。
[0012]形成所述显示器可以是通过在所述柔性基板上形成有机发光二极管来执行的。
[0013]本发明的另一实施例提供一种柔性基板,所述柔性基板包括:包括凹陷的第一修复槽的第一有机层;被提供在所述第一有机层上的第一无机层;被提供在所述第一无机层上的第二有机层;以及被提供在所述第二有机层上的第二无机层。
[0014]所述第一无机层和所述第二有机层中每一个的一部分可以被提供在所述第一修复槽内部。
[0015]所述第一有机层和所述第二有机层分别包括有机材料。[0016]所述第一无机层和所述第二无机层分别包括无机材料。
[0017]所述柔性基板进一步包括用于填充所述第一修复槽的修复材料。
[0018]本发明的另一实施例提供一种柔性显示装置,所述装置包括:所述柔性基板;和被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
[0019]所述显示器包括有机发光二极管。
[0020]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性基板的方法,所述方法包括:在基板上形成第一有机层;在所述第一有机层上形成第一无机层;通过去除被提供在所述第一无机层上的外来颗粒,而在所述第一有机层中形成凹陷的第一修复槽并且在所述第一无机层中形成用于暴露所述第一修复槽的第一修复孔;在所述第一无机层上形成第二有机层;以及在所述第二有机层上形成第二无机层。
[0021]去除所述外来颗粒可以是通过将激光束照射在所述第一无机层上来执行的。
[0022]所述方法进一步包括用修复材料填充所述第一修复槽。
[0023]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性显示装置的方法,所述方法包括:根据所述用于制造柔性基板的方法制造柔性基板;在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及从所述第一有机层去除所述基板。
[0024]本发明的另一实施例提供一种柔性基板,所述基板包括:包括凹陷的第一修复槽的第一有机层;被提供在所述第一有机层上并且包括用于暴露所述第一修复槽的第一修复孔的第一无机层;被提供在所述第一无机层上的第二有机层;以及被提供在所述第二有机层上的第二无机层。
[0025]所述第二有机层的一部分可以通过所述第一修复孔被提供在所述第一修复槽内部。
[0026]所述柔性基板进一步包括用于填充所述第一修复槽的修复材料。
[0027]本发明的另一实施例提供一种柔性显示装置,所述装置包括:所述柔性基板;和被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
[0028]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性基板的方法,所述方法包括:在基板上形成第一有机层;在所述第一有机层上形成第一无机层;在所述第一无机层上形成第二有机层;在所述第二有机层上形成第二无机层;并且通过去除在所述第二无机层上形成的气泡,在所述第二有机层中形成凹陷的第二修复槽并且在所述第二无机层中形成用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔。
[0029]去除所述气泡可以是通过将激光束照射在所述第二无机层上来执行的。
[0030]所述方法进一步包括用修复材料填充所述第二修复槽。
[0031]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性显示装置的方法,所述包括:根据所述用于制造柔性基板的方法制造柔性基板;在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及从所述第一有机层去除所述基板。
[0032]本发明的另一实施例提供一种柔性基板,所述基板包括:第一有机层;被提供在所述第一有机层上的第一无机层;被提供在所述第一无机层上并且包括凹陷的第二修复槽的第二有机层;以及被提供在所述第二有机层上并且包括用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔的第二无机层。
[0033]所述柔性基板进一步包括用于填充所述第二修复槽的修复材料。[0034]本发明的另一实施例提供一种柔性显示装置,所述装置包括:所述柔性基板;和被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
[0035]本发明的另一实施例提供一种用于制造柔性显示装置的方法,所述方法包括:在基板上形成第一有机层;在所述第一有机层上形成第一无机层;在所述第一无机层上形成第二有机层;在所述第二有机层上形成第二无机层;在所述第二无机层上形成多晶硅层;去除在所述多晶硅层上形成的气泡,并且在所述第二有机层中形成凹陷的第二修复槽、在所述第二无机层中形成用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔、以及在所述多晶硅层中形成用于暴露所述第二修复槽的第三修复孔;通过图案化所述多晶硅层形成有源层;形成连接至所述有源层的有机发光二极管;以及从所述第一有机层去除所述基板。
[0036]去除所述气泡可以是通过将激光束照射在所述多晶硅层上来执行的。
[0037]所述方法进一步包括用修复材料填充所述第二修复槽。
[0038]本发明的另一实施例提供一种柔性显示装置,所述装置包括:柔性基板,所述柔性基板包括第一有机层、被提供在所述第一有机层上的第一无机层、被提供在所述第一无机层上并且包括凹陷的第二修复槽的第二有机层以及被提供在所述第二有机层上并且包括用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔的第二无机层;被提供在所述柔性基板上并且包括多晶硅层的有源层;以及连接至所述有源层的有机发光二极管。
[0039]所述柔性显示装置进一步包括用于填充所述第二修复槽的修复材料。
[0040]根据本发明的实施例,提供了用于控制缺陷的产生的柔性基板、用于制造柔性基板的方法、柔性显示装置以及用于制造柔性显示装置的方法。
【专利附图】

【附图说明】
[0041]通过参照下面结合附图所考虑的详细描述,本发明的更完整理解以及本发明的许多附加优点将容易明白,同时本发明变得更好理解,附图中相同的附图标记表示相同或相似的部件,其中:
[0042]图1示出根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0043]图2至图5示出根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0044]图6示出根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置。
[0045]图7示出根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0046]图8和图9示出根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0047]图10示出根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置。
[0048]图11示出根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0049]图12至图15示出根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0050]图16示出根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置。
[0051]图17示出根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。[0052]图18示出根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0053]图19示出根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置。
[0054]图20示出根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0055]图21至图24示出根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0056]图25示出根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置。
[0057]图26示出根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0058]图27示出根 据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0059]图28示出根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置。
[0060]图29示出根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0061]图30至图33示出根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0062]图34示出根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置。
[0063]图35示出根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。
[0064]图36示出根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0065]图37示出根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置。
【具体实施方式】
[0066]在下文中,将参照其中示出本发明示例性实施例的附图更充分地描述本发明。如本领域技术人员所认识到的,在不脱离本发明的精神或范围的所有情况下,可以以各种不同的方式修改所描述的实施例。
[0067]图和描述被视为在本质上是例示性的而非限制性的,并且相同的附图标记在整个说明书中始终表示相同的元件。
[0068]将利用附图标记在第一示例性实施例中代表性地说明元件,并且在其余实施例中,将说明不同于第一示例性实施例的元件。
[0069]为了更好的理解以及易于描述,图中每个元件的尺寸和厚度是随机样品,并且本发明并不限于此。
[0070]在图中,为了清楚起见,层、膜、面板、区域等的厚度被扩大。为了更好的理解以及易于描述,层、膜、面板、区域等的厚度在图中被放大。应理解,当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称为在另一元件“上”时,该元件可以直接在另一元件上,或者中间元件也可以存在。
[0071]另外,除非另有相反的明确描述,否则词语“包括”及诸如“包含”或“具有”之类的变体将被理解为暗含包括所论述的元件,但不排除任意其它元件。应当理解,在整篇说明书中,词语“在……上”及其类似词语在一般意义上被使用,并且不必与重力基准相关。
[0072]一般而言,有机发光二极管(OLED)显示器包括基板、提供在基板上的有机发光二极管以及用于与基板一起封装有机发光二极管的封装器,其中有机发光二极管位于基板与封装器之间。
[0073]在OLED显示器中采用的基板可以是使显示器可弯曲的柔性基板。然而,当在柔性基板上出现缺陷时,湿气可通过缺陷产生部分渗入有机发光二极管内,从而缩短有机发光二极管(OLED)显示器的使用寿命。
[0074]参照图1至图5,现在将描述根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0075]图1示出根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图2至图5示出根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0076]如图1和图2中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (SllO)0
[0077]详细地说,第一有机层(OLl)可以通过根据诸如旋转涂覆、狭缝式涂覆或喷墨涂覆之类的涂覆工艺在由玻璃、金属或陶瓷制成的基板(SU)上涂覆有机材料来形成。第一有机层(OLl)可以由聚合物制成,并且其可以是包括作为有机材料的聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层。在这种情况下,诸如不期望的颗粒之类的外来颗粒(PA)可能提供在第一有机层(OLl)的表面上或其内部。
[0078]如图3和图4中所示,可以通过从第一有机层(OLl)中去除外来颗粒(PA),而在第一有机层(OLl)上形成凹陷的第一修复槽(RGl) (S120)。
[0079]详细地说,可以利用包括CXD的外来颗粒测试装置对第一有机层(OLl)进行测试,以测试在第一有机层(0L1)上是否有外来颗粒(PA),并且当在第一有机层(0L1)上发现外来颗粒(PA)时,将激光束(LA)照射在第一有机层(OLl)的提供有外来颗粒(PA)的一部分上,由此从第一有机层(OLl)中去除外来颗粒(PA)。因此,在第一有机层(OLl)的提供有外来颗粒(PA)的那部分上形成凹陷的第一修复槽(RG1)。
[0080]如图5中所示,可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S130)。
[0081]详细地说,可以通过利用诸如溅射法或化学气相沉积法之类的沉积工艺,在其中可以形成有第一修复槽(RGl)的第一有机层(OLl)上将无机材料沉积为层,由此形成第一无机层(CL1)。第一无机层(CLl)可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或多层。详细地说,第一无机层(CLl)包括SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种。第一无机层(CLl)比第一有机层(OLl)薄,因此第一无机层(CLl)的对应于第一修复槽(RGl)的一部分具有对应于第一修复槽(RGl)的凹陷形状。
[0082]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2) (S140)o
[0083]详细地说,可以通过利用诸如旋转涂覆、狭缝式涂覆或喷墨涂覆之类的涂覆工艺,在第一无机层(CLl)上将有机材料涂覆为层,由此形成第二有机层(0L2)。第二有机层(0L2)可以由聚合物制成,并且其可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层。第二有机层(0L2)可以比第一无机层(CLl)厚,因此可以利用第二有机层(0L2)填充凹陷的第一无机层(CLl)的对应于第一修复槽(RGl)的一部分。
[0084]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S150)。
[0085]详细地说,可以通过利用诸如溅射法或化学气相沉积法之类的沉积工艺在第二有机层(0L2)上将无机材料沉积为层,由此形成第二无机层(CL2)。第二无机层(CL2)可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或多层。详细地说,第二无机层(CL2)包括SiNx、Al203、SiO2和TiO2中的至少一种。凹陷的第一无机层(CLl)的对应于第一修复槽(RGl)的一部分可以被第二有机层(0L2)填充,因此第二无机层(CL2)在第二有机层(0L2)上可以是平坦的。
[0086]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0087]可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S160)。
[0088]详细地说,可以将用于形成薄膜晶体管的工艺应用于柔性基板(FS)的第二无机层(CL2),以形成包括源区(SA)、沟道区(CA)和漏区(DA)的有源层(AC)以及包括栅电极(GA)、源电极(SO)和漏电极(DR)的多个薄膜晶体管(TFT),然后可以形成包括第一电极(E1)、有机发光层(EL)和第二电极(E2)的、连接至薄膜晶体管(TFT)的有机发光二极管(0LED),并且可以形成用于封装有机发光二极管(OLED)的薄膜封装器(EN),从而形成用于显示图像的显不器(DP)。
[0089]在本发明第一示例性实施例中,显示器(DP)可以配置有多个薄膜晶体管(TFT)、有机发光二极管(OLED)以及薄膜封装器(EN),而在本发明另一示例性实施例中,显示器可以由本领域技术人员以各种方式来配置。
[0090]同时,可以在基板(SU)上形成多个显示器(DP)。多个显示器(DP)可以通过用于切割基板的工艺被分成单个显示器(DP)。结果,显示器面板可以包括布置在切割基板上的单个显示器(DP)。
[0091]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S170)。
[0092]详细地说,激光束被照射在第一有机层(OLl)与基板(SU)之间,并且第一有机层(OLl)可以与基板(SU)分离以从第一有机层(OLl)去除基板(SU),或者基板(SU)可以被蚀刻以从第一有机层(OLl)去除基板(SU)。
[0093]根据上述工艺制造了根据本发明待描述的第二示例性实施例的柔性显示装置。
[0094]当形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一有机层(OLl)并且在第一有机层(OLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从第一有机层(OLl)中去除外来颗粒(PA),以防止由于外来颗粒(PA)而导致在第一有机层(OLl)上产生气泡,或者防止由于第一无机层(CLl)上的裂缝而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷。可以控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0095]换言之,提供了根据本发明第一示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0096]参照图6,现在将描述根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置可以利用根据本发明第一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0097]图6示出根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置。
[0098]如图6中所示,根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置1002是柔性的,并且包括柔性基板(FS )和显示器(DP )。[0099]柔性基板(FS)包括第一有机层(0L1)、第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)。
[0100]第一有机层(OLl)可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树月旨、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层,并且包括凹陷的第一修复槽(RG1)。
[0101]第一无机层(CLl)可以被提供在第一有机层(OLl)上,并且可以是包括作为无机材料的SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种的单层或多层。第一无机层(CLl)可以比第一有机层(OLl)薄,并且第一无机层(CLl)的一部分可以被提供在第一修复槽(RGl)内部。
[0102]第二有机层(0L2)可以被提供在第一无机层(CLl)上,并且其可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层。第二有机层(0L2)可以比第一无机层(CLl)厚,并且第二有机层(0L2)的一部分可以与第一无机层(CLl)的一部分一起被提供在第一修复槽(RGl)内部。第二有机层(0L2)和第一无机层(CLl)被提供在第一修复槽(RGl)中,因此第一有机层(OLl)的第一修复槽(RGl)被第一无机层(CLl)和第二有机层(0L2)填充。
[0103]第二无机层(CL2)可以被提供在第二有机层(0L2)上,并且可以是包括作为无机材料的SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种的单层或多层。第二无机层(CL2)在第二有机层(0L2)上可以是平坦的。
[0104]显示器(DP)可以被提供在柔性基板(FS)上,并且显示图像。显示器(DP)包括:具有源区(SA)、沟道区(CA)和漏区(DA)的有源层(AC);具有栅电极(GA)、源电极(SO)和漏电极(DR)的多个薄膜晶体管(TFT);具有第一电极(E1)、有机发光层(EL)和第二电极(E2)的有机发光二极管(OLED);以及用于与柔性基板(FS) —起密封有机发光二极管(OLED)的薄膜封装器(EN)。显示器(DP)具有本领域技术人员已知的各种类型。
[0105]如上所述,当形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一有机层(OLl)时,如果在第一有机层(OLl)中包括外来颗粒(PA),则根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置1002利用激光束(LA)从第一有机层(OLl)去除外来颗粒(PA),并且第一有机层(0L1)包括第一修复槽(RG1),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。可以控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1002的使用寿命。
[0106]换言之,当外来颗粒(PA)被提供在初始柔性基板(FS)的第一有机层(OLl)上时,提供了根据本发明第二示例性实施例的柔性显示装置1002,其中外来颗粒(PA)从柔性显示装置1002被去除,并且柔性显示装置1002的使用寿命得以提高。
[0107]参照图7至图9,现在将描述根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0108]不同于第一示例性实施例的部分将被描述,并且与第一示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第三示例性实施例中与本发明第一示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0109]图7示出根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图8和图9示出根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0110]如图7和图8中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S310)。[0111]通过去除在第一有机层(OLl)上提供的外来颗粒(PA),可以在第一有机层(OLl)中形成凹陷的第一修复槽(RGl) (S320)。
[0112]可以在第一修复槽(RGl)中填充修复材料(RM) (S330)。
[0113]详细地说,可以通过利用涂覆工艺或沉积工艺在凹陷的第一修复槽(RGl)中填充包括金属、有机材料或无机材料的修复材料(RM)。因此,随后形成在修复材料(RM)上的第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)被形成为平坦的。
[0114]如图9中所示,可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S340)。
[0115]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2 ) (S350 )。
[0116]可以在第二有机层(0L2 )上形成第二无机层(CL2 ) (S360 )。
[0117]根据上述方法形成柔性基板(FS )。
[0118]可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S370)。
[0119]如上所述,多个显示器(DP)可以形成在基板(SU)上。多个显示器(DP)可以通过用于切割基板的工艺被分成单个显示器(DP)。结果,显示器面板可以包括被布置在切割基板上的单个显示器(DP)。
[0120]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S380)。
[0121]通过上述工艺制造了根据本发明待描述的第四示例性实施例的柔性显示装置。
[0122]如上所述,当可以形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一有机层(0L1),并且在第一有机层(OLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法利用激光束(LA)从第一有机层(0L1)中去除外来颗粒(PA),并且利用修复材料(RM)填充可形成在被去除部分中的第一修复槽(RG1),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。可以控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0123]换言之,提供了根据本发明第三示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0124]参照图10,现在将描述根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置可以利用根据本发明第三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0125]不同于第二示例性实施例的部分将被描述,并且与第二示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第四示例性实施例中与本发明第二示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0126]图10示出根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置。
[0127]如图10中所示,根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置1004是柔性的,并且包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。
[0128]柔性基板(FS)包括第一有机层(OLl)、第一无机层(CLl)、第二有机层(0L2)、第二无机层(CL2)以及修复材料(RM)。
[0129]修复材料(RM)填充在第一有机层(OLl)中形成的第一修复槽(RG1),并且其包括金属、有机材料或者无机材料。因此,被提供在修复材料(RM)上的第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)是平坦的。
[0130]如上所述,当形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一有机层(0L1),并且在第一有机层(OLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置1004利用激光束(LA)从第一有机层(0L1)中去除外来颗粒(PA),第一有机层(0L1)包括第一修复槽(RG1),并且第一修复槽(RGl)可以利用修复材料(RM)被填充,从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。可以控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1004的使用寿命。
[0131]换言之,提供了根据本发明第四示例性实施例的柔性显示装置1004,其中当外来颗粒(PA)被提供在初始柔性基板(FS)的第一有机层(OLl)上时,外来颗粒(PA)从柔性显示装置1004中被去除,并且柔性显示装置1004的使用寿命得以提高。
[0132]参照图11至图15,现在将描述根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0133]不同于第一不例性实施例的部分将被描述,并且与第一不例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第五示例性实施例中与本发明第一示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0134]图11示出根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图12至图15示出根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0135]如图11和图12中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S510)。
[0136]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S520 )。
[0137]详细地说,可以通过利用诸如溅射法或化学气相沉积法之类的沉积工艺将无机材料沉积为层,来在其中可形成有第一修复槽(RGl)的第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl)0第一无机层(CLl)可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或多层。详细地说,第一无机层(CLl)包括SiNx、Al203、Si02和TiO2中的至少一种。在这种情况下,诸如不期望的颗粒之类的外来颗粒(PA)可能被提供在第一无机层(CLl)的表面上或其内部。
[0138]如图13和图14中所示,凹陷的第一修复槽(RGl)可形成在第一有机层(OLl)中,并且用于暴露第一修复槽(RGl)的第一修复孔(RHl)可通过去除被提供在第一无机层(CLl)上的外来颗粒(PA)而形成在第一无机层(CLl)中(S530)。
[0139]详细地说,通过利用包括CXD的外来颗粒测试装置来测试在第一无机层(CLl)上是否有外来颗粒(PA),并且当在第一无机层(CLl)上发现外来颗粒(PA)时,将激光束(LA)照射在第一无机层(CLl)的被提供有外来颗粒(PA)的一部分上,由此从第一无机层(CLl)中去除外来颗粒(PA)。因此,第一修复孔(RHl)可以形成在第一无机层(CLl)的其上提供有外来颗粒(PA)的一部分中,并且凹陷的第一修复槽(RGl)可以形成在对应于第一修复孔(RHl)的第一有机层(OLl)中。
[0140]如图15中所示,可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2) (S540)。
[0141]详细地说,可以通过利用诸如旋转涂覆、狭缝式涂覆或喷墨涂覆之类的涂覆工艺,在第一无机层(CLl)上将有机材料涂覆为层,由此形成第二有机层(0L2)。第二有机层(0L2)可以由聚合物制成,并且其可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层。第二有机层(0L2)可以比第一无机层(CLl)厚,从而第一无机层(CLl)的第一修复孔(RHl)和第一有机层(OLl)的第一修复槽(RGl)被第二有机层(0L2)填充。
[0142]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S550)。
[0143]详细地说,可以通过利用诸如溅射法或化学气相沉积法之类的沉积工艺将无机材料沉积为层,而在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2)。第二无机层(CL2)可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或多层。详细地说,第二无机层(CL2)包括SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种。第一修复槽(RGl)和第一修复孔(RHl)被第二有机层(0L2)填充,从而第二无机层(CL2 )在第二有机层(0L2 )上可以是平坦的。
[0144]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0145]可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S560)。
[0146]如上所述,可以在基板(SU)上形成多个显示器(DP)。多个显示器(DP)可以通过用于切割基板的工艺被分成单个显示器(DP)。结果,显示器面板可以包括被布置在切割基板上的单个显示器(DP)。
[0147]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S570)。
[0148]根据该工艺,制造了根据本发明待描述的第六示例性实施例的柔性显示装置。
[0149]如上所述,当可以形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一无机层(CL1),并且在第一无机层(CLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从第一无机层(CLl)中去除外来颗粒(PA),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)或第二有机层(0L2)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0150]换言之,提供了根据本发明第五示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0151]参照图16,现在将描述根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置可以通过利用根据本发明第五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0152]不同于第二示例性实施例的部分将被描述,并且与第二示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第六示例性实施例中与本发明第二示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0153]图16示出根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置。
[0154]如图16中所示,根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置1006是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。
[0155]柔性基板(FS)包括第一有机层(0L1)、第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)。
[0156]第一有机层(OLl)可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层,并且其具有凹陷的第一修复槽(RG1)。[0157]第一无机层(CLl)被提供在第一有机层(OLl)上,并且可以是包括作为无机材料的SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种的单层或多层。第一无机层(CLl)比第一有机层(OLl)薄,并且其包括用于使第一修复槽(RGl)暴露的穿透的第一修复孔(RH1)。
[0158]第二有机层(0L2)可以被提供在第一无机层(CLl)上,并且其可以是包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸脂中的至少一种的单层或多层。第二有机层(0L2)可以比第一无机层(CLl)厚,并且第二有机层(0L2)的一部分可以通过第一修复孔(RHl)被提供在第一修复槽(RGl)内,以填充第一修复孔(RHl)和第一修复槽(RG1)。
[0159]第二无机层(CL2)可以被提供在第二有机层(0L2)上,并且可以是包括作为无机材料的SiNx、A1203、SiO2和TiO2中的至少一种的单层或多层。第二无机层(CL2)在第二有机层(0L2)上可以是平坦的。
[0160]如上所述,当可以形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一无机层(CL1),并且在第一无机层(CLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置1006通过利用激光束(LA)从第一无机层(CLl)中去除外来颗粒(PA),并且第一无机层(CLl)和第一有机层(OLl)包括第一修复孔(RHl)和第一修复槽(RG1),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)或第二有机层(0L2 )上产生气泡而导致在柔性基板(FS )上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。可以控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1006的使用寿命。
[0161]换言之,当外来颗粒(PA)被提供在初始柔性基板(FS)的第一无机层(CLl)上时,提供了根据本发明第六示例性实施例的柔性显示装置1006,其中外来颗粒(PA)从柔性显示装置1006中被去除,并且柔性显示装置1006的使用寿命得以提高。
[0162]参照图17和图18,现在将描述根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0163]不同于第五示例性实施例的部分将被描述,并且与第五示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第七示例性实施例中与本发明第五示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0164]图17示出根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图18示出根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0165]如图17和图18中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S710)。
[0166]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S720 )。
[0167]去除被提供在第一无机层(CLl)上的外来颗粒(PA),以在第一有机层(OLl)中形成凹陷的第一修复槽(RGl)和在第一无机层(CLl)中形成用于暴露第一修复槽(RGl)的第一修复孔(RHl) (S730)。
[0168]利用修复材料(RM)填充第一修复槽(RGl)和第一修复孔(RHl) (S740)。
[0169]详细地说,可以利用涂覆工艺或沉积工艺通过打开的第一修复孔(RHl)向凹陷的第一修复槽(RGl)填充包括金属、有机材料或无机材料的修复材料(RM)。因此,第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)随后在修复材料(RM)上将被形成为平坦的。
[0170]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2 ) (S750 )。[0171]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S760)。
[0172]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0173]可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S770)。
[0174]如上所述,可以在基板(SU)上形成多个显示器(DP)。多个显示器(DP)可以通过用于切割基板的工艺被分成单个显示器(DP)。结果,显示器面板可以包括被布置在切割基板上的单个显示器(DP)。
[0175]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S780)。
[0176]根据上述工艺,制造了根据本发明待描述的第八示例性实施例的柔性显示装置。
[0177]如上所述,当形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一无机层(CL1),并且在第一无机层(CLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从第一无机层(CLl)中去除外来颗粒(PA),并且在形成于被去除部分中的第一修复孔(RHl)和第一修复槽(RGl)中填充修复材料(RM),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)或第二有机层(0L2)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0178]换言之,提供了根据本发明第七示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0179]参照图19,现在将描述根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置可以通过利用根据本发明第七示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0180]不同于第六示例性实施例的部分将被描述,并且与第六示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第八示例性实施例中与本发明第六示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0181]图19示出根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置。
[0182]如图19中所示,根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置1008是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。
[0183]柔性基板(FS)包括第一有机层(OLl)、第一无机层(CLl)、第二有机层(0L2)、第二无机层(CL2)以及修复材料(RM)。
[0184]修复材料(RM)填充在第一有机层(OLl)中形成的第一修复槽(RGl)和在第一无机层(CLl)中形成的第一修复孔(RH1),并且其包括金属、有机材料或者无机材料。因此,被提供在修复材料(RM)上的第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)是平坦的。
[0185]如上所述,当可以形成被包括在初始柔性基板(FS)中的第一无机层(CL1),并且在第一无机层(CLl)中包括外来颗粒(PA)时,根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置1008通过利用激光束(LA)从第一无机层(CLl)中去除外来颗粒(PA),第一无机层(CLl)和第一有机层(OLl)包括第一修复孔(RHl)和第一修复槽(RG1),并且第一修复孔(RHl)和第一修复槽(RGl)被填充有修复材料(RM),从而防止由于外来颗粒(PA)在第一有机层(OLl)或第二有机层(0L2)上产生气泡而导致在柔性基板(FS)上产生缺陷,或者防止在第一无机层(CLl)上产生裂缝。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1008的使用寿命。
[0186]换言之,当外来颗粒(PA)被提供在初始柔性基板(FS)的第一无机层(CLl)上时,提供了根据本发明第八示例性实施例的柔性显示装置1008,其中外来颗粒(PA)从柔性显示装置1008中被去除,并且柔性显示装置1008的使用寿命得以提高。
[0187]参照图20至图24,现在将描述根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0188]不同于第一示例性实施例的部分将被描述,并且与第一示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第九示例性实施例中与本发明第一示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0189]图20示出根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图21至图24示出根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0190]如图20和图21中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S910)。
[0191]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S920 )。
[0192]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2 ) (S930 )。
[0193]可以在第二有机层(0L2 )上形成第二无机层(CL2 ) (S940 )。
[0194]当在上述工艺期间在第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)中的至少一个上提供不期望的外来颗粒时,可能由于在用于形成第二无机层(CL2)的沉积工艺或者用于固化第二有机层(0L2)的固化工艺期间产生的热而在第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)上产生气泡(BU)。
[0195]如图22和图23中所示,去除被形成在第二无机层(CL2)上的气泡(BU),以在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)以及在第二无机层(CL2)上形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第二修复孔(RH2) (S950)。
[0196]详细地说,通过利用包括CXD的气泡测试装置来测试在第二无机层(CL2)上是否形成有气泡(BU),并且当在第二无机层(CL2)上形成有不期望的气泡(BU)时,将激光束(LA)照射至第二无机层(CL2)的其上提供有气泡(BU)的一部分,从而从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU)。因此,可以在第二无机层(CL2)的该部分中形成第二修复孔(RH2),并且可以对应于第二修复孔(RH2)在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)。
[0197]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0198]如图24中所示,可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S960)。
[0199]对应于第二修复孔(RH2)和第二修复槽(RG2)被提供在显示器(DP)中的部分可以被提供或不被提供在第二修复槽(RG2)内部。
[0200]例如,当对应于有源层(AC)提供第二修复孔(RH2)和第二修复槽(RG2)时,有源层(AC)可以被提供在第二修复槽(RG2)内部,而当对应于第一电极(El)提供第二修复孔(RH2)和第二修复槽(RG2)时,有源层(AC)不被提供在第二修复槽(RG2)内部。
[0201]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S970)。
[0202]根据上述工艺制造了根据本发明待描述的第十示例性实施例的柔性显示装置。
[0203]如上所述,当由于外来颗粒而在初始柔性基板(FS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU),从而防止在柔性基板(FS)上产生缺陷。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0204]换言之,提供了根据本发明第九示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0205]参照图25,现在将描述根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置可以通过利用根据本发明第九示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0206]不同于第二示例性实施例的部分将被描述,并且与第二示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十示例性实施例中与本发明第二示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0207]图25示出根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置。
[0208]如图25中所示,根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置1010是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。
[0209]柔性基板(FS)包括第一有机层(0L1)、第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)。
[0210]第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)分别包括第二修复槽(RG2)和第二修复孔(RH2)。
[0211]如上所述,当由于外来颗粒而在柔性基板(FS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置1010通过利用激光束(LA)从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU),使得第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)分别包括第二修复槽(RG2)和第二修复孔(RH2),从而防止由于气泡(BU)而在第二无机层(CL2)上产生裂缝,以及防止随后在柔性基板(FS)上产生缺陷。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1010的使用寿命。
[0212]换言之,提供了根据本发明第十示例性实施例的柔性显示装置1010,其中当气泡(BU)被形成在柔性基板(FS)的第二无机层(CL2)上时,气泡(BU)从柔性显示装置1010中被去除,并且柔性显示装置1010的使用寿命得以提高。
[0213]参照图26和图27,现在将描述根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0214]不同于第九示例性实施例的部分将被描述,并且与第九示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十一示例性实施例中与本发明第九示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0215]图26示出根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图27示出根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0216]如图26和图27中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (SlllO)0
[0217]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S1120)。
[0218]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2) (S1130)。
[0219]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S1140)。[0220]当在该工艺期间在第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)中的至少一个上提供不期望的外来颗粒时,由于在用于形成第二无机层(CL2)的沉积工艺或者用于固化第二有机层(0L2)的固化工艺期间产生的热而在第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)上产生气泡(BU)。
[0221]去除在第二无机层(CL2)上形成的气泡(BU),以在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)以及在第二无机层(CL2)上形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第二修复孔(RH2) (S1150)。
[0222]详细地说,通过利用包括CXD的气泡测试装置来测试在第二无机层(CL2)上是否形成有气泡(BU),并且当在第二无机层(CL2)上形成有不期望的气泡(BU)时,将激光束(LA)照射至第二无机层(CL2)的其上提供有气泡(BU)的一部分,从而从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU)。因此,可以在第二无机层(CL2)的该部分中形成第二修复孔(RH2),并且可以对应于第二修复孔(RH2)在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)。
[0223]可以在第二修复槽(RG2)中填充修复材料(RM) (S1160)。
[0224]详细地说,可以通过利用涂覆工艺或沉积工艺,在凹陷的第二修复槽(RG2)中填充包括金属、有机材料或无机材料的修复材料(RM)。因此,形成在修复材料(RM)上的显示器(DP)可以被形成为平坦的。
[0225]根据上述方法形成柔性基板(FS )。
[0226]可以在第二无机层(CL2)上形成显示器(DP) (S1170)。
[0227]如上所述,可以在基板(SU)上形成多个显示器(DP)。多个显示器(DP)可以通过用于切割基板的工艺被分成单个显示器(DP)。结果,显示器面板可以包括被布置在切割基板上的单个显示器(DP)。
[0228]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S1180)。
[0229]根据上述工艺制造了根据本发明待描述的第十二示例性实施例的柔性显示装置。
[0230]如上所述,当由于外来颗粒而在初始柔性基板(FS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU),并且用修复材料(RM)填充被去除部分,从而防止在柔性基板(FS)上产生缺陷。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置的使用寿命。
[0231]换言之,提供了根据本发明第十一示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0232]参照图28,现在将描述根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置可以通过利用根据本发明第十一示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0233]不同于第十示例性实施例的部分将被描述,并且与第十示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十二示例性实施例中与本发明第十示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0234]图28示出根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置。
[0235]如图28中所示,根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置1012是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。[0236]柔性基板(FS)包括第一有机层(OLl)、第一无机层(CLl )、第二有机层(0L2)、第二无机层(CL2)以及修复材料(RM)。
[0237]第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)分别包括第二修复槽(RG2)和第二修复孔(RH2)。
[0238]修复材料(RM)通过第二修复孔(RH2)填充第二修复槽(RG2)。
[0239]显示器(DP)被提供在第二修复槽(RG2)中,并且可以被形成为平坦的。
[0240]如上所述,当由于外来颗粒而在柔性基板(FS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置1012通过利用激光束(LA)从第二无机层(CL2)中去除气泡(BU),因此第二有机层(0L2 )和第二无机层(CL2 )分别包括第二修复槽(RG2 )和第二修复孔(RH2),并且第二修复槽(RG2)可以被填充有修复材料(RM),从而防止由于气泡而在第二无机层(CL2)上产生裂缝,以及防止在柔性基板(FS)上产生缺陷。控制在柔性基板(FS)上产生缺陷,以防止由于在柔性基板(FS)上产生的缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)内,并且提高柔性显示装置1012的使用寿命。
[0241]换言之,当气泡(BU)被形成在柔性基板(FS)的第二无机层(CL2)上时,提供了根据本发明第十二示例性实施例的柔性显示装置1012,其中气泡(BU)从柔性显示装置1012中被去除,并且柔性显示装置1012的使用寿命得以提高。
[0242]参照图29至图33,现在将描述根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0243]不同于第一不例性实施例的部分将被描述,并且与第一不例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十三示例性实施例中与本发明第一示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0244]图29示出根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图30至图33示出根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0245]如图29和图30中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S1310)。
[0246]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S1320)。
[0247]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2) (S1330)。
[0248]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S1340)。
[0249]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0250]可以在第二无机层(CL2)上形成多晶硅层(PS) (S1350)。
[0251]详细地说,可以在第二无机层(CL2)上形成非晶硅层,并且可以通过利用热或激光束使非晶硅层结晶,以从非晶硅层形成多晶硅层(PS)。
[0252]当在第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)中的至少一个上提供不期望的外来颗粒时,由于在用于形成第二无机层(CL2)的沉积工艺、用于固化第二有机层(0L2)的固化工艺或者用于使非晶硅层结晶的结晶工艺期间产生的热而在第二有机层(0L2)、第二无机层(CL2)以及多晶硅层(PS)上产生气泡(BU)。
[0253]如图31和图32中所示,去除被形成在多晶硅层(PS)上的气泡(BU),以在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)、在第二无机层(CL2)中形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第二修复孔(RH2)、以及在多晶硅层(PS)中形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第三修复孔RH3 (S1360)。[0254]详细地说,通过利用包括CXD的气泡测试装置来测试在多晶硅层(PS)上是否形成有气泡(BU),并且当发现气泡(BU)时,将激光束(LA)照射至多晶硅层(PS)的其上提供有气泡(BU)的一部分,以从多晶硅层(PS)中去除气泡(BU)。因此,可以在多晶硅层(PS)的其上提供有气泡(BU)的一部分中形成第三修复孔RH3,可以在第二无机层(CL2)的对应于第三修复孔(RH3)的一部分中形成第二修复孔(RH2),以及可以对应于第二修复孔(RH2)在第二有机层(0L2)中形成凹陷的第二修复槽(RG2)。
[0255]如图33中所示,可以通过图案化多晶硅层(PS)形成有源层(AC) (S1370)。
[0256]详细地说,可以利用光刻工艺来图案化多晶硅层(PS)和形成有源层(AC),并且形成源电极(S0)、漏电极(DR)和栅电极(GA)。在这种情况下,去除多晶硅层(PS)的其中可形成有第三修复孔RH3的一部分。
[0257]当第三修复孔RH3可以形成在多晶硅层(PS)的被形成为有源层(AC)的另一部分上时,有源层(AC)可以包括第三修复孔(RH3)。
[0258]可以形成连接至有源层(AC)的有机发光二极管(OLED) (S1380)。
[0259]详细地说,可以通过形成第一电极El、有机发光层(EL)和第二电极E2来形成有机发光二极管(0LED),并且可以通过形成薄膜封装器(EN)来形成显示器(DP)。
[0260]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S1390)。
[0261]制造了根据本发明待描述的第十四示例性实施例的柔性显示装置。
[0262]如上所述,当由于外来颗粒而在初始柔性基板(FS)上形成气泡(BU),并且在被形成为有源层(AC)的多晶硅层(PS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从多晶硅层(PS)中去除气泡(BU),从而防止在柔性显示装置上产生不期望的缺陷。因此,防止了由于在柔性显示装置中产生的不期望缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)中,从而提高了柔性显示装置的使用寿命。
[0263]换言之,提供了根据本发明第十三示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0264]参照图34,现在将描述根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置可以通过利用根据本发明第十三示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0265]不同于第二示例性实施例的部分将被描述,并且与第二示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十四示例性实施例中与本发明第二示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0266]图34示出根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置。
[0267]如图34中所示,根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置1014是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)和显示器(DP)。
[0268]柔性基板(FS)包括第一有机层(0L1)、第一无机层(CL1)、第二有机层(0L2)以及第二无机层(CL2)。
[0269]第二有机层(0L2)和第二无机层(CL2)分别包括第二修复槽(RG2)和第二修复孔(RH2)。
[0270]如上所述,当在被形成为有源层(AC)的多晶硅层上形成气泡(BU)时,根据本发明第十四示例性实施例的柔性显示装置1014通过利用激光束(LA)从多晶硅层中去除气泡(BU),并且第二有机层(OL2)和第二无机层(CL2)分别包括第二修复槽(RG2)和第二修复孔(RH2),从而防止由于气泡(BU)而在柔性显示装置1014上产生不期望的缺陷。因此,防止了由于在柔性显示装置1014中产生的不期望缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)中,从而提高柔性显示装置1014的使用寿命。
[0271]换言之,根据本发明的第十四示例性实施例,去除了多晶硅层上的气泡(BU),使得可以提高柔性显示装置1014的使用寿命。
[0272]参照图35和图36,现在将描述根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0273]不同于第十三示例性实施例的部分将被描述,并且与第十三示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十五示例性实施例中与本发明第十三示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0274]图35示出根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法的流程图。图36示出根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法。
[0275]如图35和图36中所示,可以在基板(SU)上形成第一有机层(OLl) (S1510)。
[0276]可以在第一有机层(OLl)上形成第一无机层(CLl) (S1520)。
[0277]可以在第一无机层(CLl)上形成第二有机层(0L2) (S1530)。
[0278]可以在第二有机层(0L2)上形成第二无机层(CL2) (S1540)。
[0279]根据上述方法可以形成柔性基板(FS )。
[0280]可以在第二无机层(CL2)上形成多晶硅层(PS) (S1550)。
[0281]去除在多晶硅层(PS)上形成的气泡(BU),以在第二有机层(0L2)上形成凹陷的第二修复槽(RG2)、在第二无机层(CL2)中形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第二修复孔(RH2)、以及在多晶硅层(PS)中形成用于暴露第二修复槽(RG2)的第三修复孔(S1560)。
[0282]可以用修复材料(RM)填充第二修复槽(RG2) (S1570)。
[0283]详细地说,凹陷的第二修复槽(RG2)可以通过利用涂覆工艺或沉积工艺,用包括金属、有机材料或无机材料的修复材料(RM)来填充。第二修复孔(RH2)和第三修复孔被填充有修复材料(RM)。因此,形成在修复材料(RM)上的显示器(DP)将被形成为平坦的。
[0284]可以图案化多晶硅层(PS)以形成有源层(AC) (S1580)。
[0285]去除多晶硅层(PS)的其中可形成有第三修复孔的一部分。
[0286]当第三修复孔可以形成在多晶硅层(PS)的被形成为有源层(AC)的另一部分上时,有源层(AC)包括第三修复孔。
[0287]可以形成连接至有源层(AC)的有机发光二极管(OLED) (S1590)。
[0288]可以从第一有机层(OLl)去除基板(SU) (S1595)。
[0289]根据上述工艺制造了根据本发明待描述的第十六示例性实施例的柔性显示装置。
[0290]如上所述,当由于外来颗粒而在初始柔性基板(FS)上形成气泡(BU),并且在被形成为有源层(AC)的多晶硅层(PS)上形成气泡(BU)时,根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法通过利用激光束(LA)从多晶硅层(PS)中去除气泡(BU)并且利用修复材料(RM)填充被去除部分,从而防止在柔性显示装置上产生不期望的缺陷。因此,防止了由于在柔性显示装置中产生的不期望缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)中,从而提高了柔性显示装置的使用寿命。
[0291]换言之,提供了根据本发明第十五示例性实施例的用于制造使用寿命得以提高的柔性显示装置的方法。
[0292]参照图37,现在将描述根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置。根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置可以利用根据本发明第十五示例性实施例的用于制造柔性显示装置的方法来制造。
[0293]不同于第二示例性实施例的部分将被描述,并且与第二示例性实施例相同的部分将被省略。为了更好的理解以及易于描述,在本发明第十六示例性实施例中与本发明第二示例性实施例相同的构成元件将使用相同的附图标记。
[0294]图37示出根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置。
[0295]如图37中所示,根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置1016是柔性的,并且其包括柔性基板(FS)、显示器(DP)以及修复材料(RM)。
[0296]修复材料(RM)通过第二修复孔(RH2)填充第二修复槽(RG2)。换言之,修复材料(咖)填充第二修复孔(冊2)和第二修复槽(1?2)。如上所述,当在被形成为有源层(AC)的多晶硅层上形成气泡(BU)时,根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置1016利用激光束(LA)从多晶硅层中去除气泡(BU),第二有机层(0L2)、第二无机层(CL2)以及有源层(AC)分别包括第二修复槽(RG2)、第二修复孔(RH2)以及第三修复孔(RH3),并且第二修复槽(RG2)被填充有修复材料(RM),从而防止由于气泡(BU)而在柔性显示装置1016上产生不期望的缺陷。因此,防 止了由于在柔性显示装置1016中产生的不期望缺陷而导致外部湿气渗入有机发光二极管(OLED)中,从而提高了柔性显示装置1016的使用寿命。
[0297]换言之,提供了根据本发明第十六示例性实施例的柔性显示装置1016,其中当气泡(BU)被形成在柔性显示装置1016的多晶硅层上时,气泡(BU)从柔性显示装置1016中被去除,并且柔性显示装置1016的使用寿命得以提高。
[0298]虽然关于目前被视为可实施的示例性实施例描述了本发明,但应当理解,本发明不限于所公开的实施例,而是相反,本发明旨在涵盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。
【权利要求】
1.一种用于制造柔性显示装置的方法,包括: 通过下列步骤在基板上制造柔性基板: 在所述基板上形成第一有机层; 去除在所述第一有机层上形成的外来颗粒,并且在所述第一有机层中形成凹陷的第一修复槽; 在所述第一有机层上形成第一无机层; 在所述第一无机层上形成第二有机层;并且 在所述第二有机层上形成第二无机层; 在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及 从所述第一有机层去除所述基板。
2.根据权利要求1所述的方法,其中 形成所述显示器是通过在所述柔性基板上形成有机发光二极管来执行的。
3.根据权利要求1所述的方法,其中 去除所述外来颗粒是通过将激光束照射在所述第一有机层上来执行的。
4.根据权利要求1所述的方法,其中 在所述基板上形成所述第一有机层是通过在所述基板上涂覆有机材料来执行的,并且在所述第一有机层上形成所述第一无机层是通过在所述第一有机层上沉积无机材料来执行的。
5.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:用修复材料填充所述第一修复槽。
6.一种柔性显示装置,包括: 柔性基板,所述柔性基板包括:包括凹陷的第一修复槽的第一有机层、被提供在所述第一有机层上的第一无机层、被提供在所述第一无机层上的第二有机层、和被提供在所述第二有机层上的第二无机层;以及 被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
7.根据权利要求6所述的柔性显示装置,其中 所述显示器包括有机发光二极管。
8.一种用于制造柔性显示装置的方法,包括: 通过下列步骤在基板上制造柔性基板: 在所述基板上形成第一有机层; 在所述第一有机层上形成第一无机层; 通过去除被提供在所述第一无机层上的外来颗粒,而在所述第一有机层中形成凹陷的第一修复槽并且在所述第一无机层中形成用于暴露所述第一修复槽的第一修复孔; 在所述第一无机层上形成第二有机层;并且 在所述第二有机层上形成第二无机层; 在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及 从所述第一有机层去除所述基板。
9.根据权利要求8所述的方法,其中 去除所述外来颗粒是通过将激光束照射在所述第一无机层上来执行的。
10.根据权利要求8所述的方法,进一步包括:用修复材料填充所述第一修复槽。
11.一种柔性显示装置,包括: 柔性基板,所述柔性基板包括:包括凹陷的第一修复槽的第一有机层、被提供在所述第一有机层上并且包括用于暴露所述第一修复槽的第一修复孔的第一无机层、被提供在所述第一无机层上的第二有机层、以及被提供在所述第二有机层上的第二无机层;以及被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
12.一种用于制造柔性显示装置的方法,包括: 通过下列步骤在基板上制造柔性基板: 在所述基板上形成第一有机层; 在所述第一有机层上形成第一无机层; 在所述第一无机层上形成第二有机层; 在所述第二有机层上形成第二无机层;并且 通过去除在所述第二无机层上形成的气泡,而在所述第二有机层中形成凹陷的第二修复槽并且在所述第二无机层中形成用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔; 在所述柔性基板上形成用于显示图像的显示器;以及 从所述第一有机层去除所述基板。
13.根据权利要求12所述的方法,其中 去除所述气泡是通过将激光束照射在所述第二无机层上来执行的。
14.根据权利要求12所述的方法,进一步包括: 用修复材料填充所述第二修复槽。
15.一种柔性显示装置,包括: 柔性基板,所述柔性基板包括:第一有机层、被提供在所述第一有机层上的第一无机层、被提供在所述第一无机层上并且包括凹陷的第二修复槽的第二有机层、和被提供在所述第二有机层上并且包括用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔的第二无机层;以及被提供在所述柔性基板上并且显示图像的显示器。
16.一种用于制造柔性显示装置的方法,包括: 通过下列步骤在基板上制造柔性基板: 在所述基板上形成第一有机层; 在所述第一有机层上形成第一无机层; 在所述第一无机层上形成第二有机层;并且 在所述第二有机层上形成第二无机层; 在所述第二无机层上形成多晶硅层; 去除在所述多晶硅层上形成的气泡,并且在所述第二有机层中形成凹陷的第二修复槽、在所述第二无机层中形成用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔、以及在所述多晶硅层中形成用于暴露所述第二修复槽的第三修复孔; 通过图案化所述多晶硅层形成有源层; 形成连接至所述有源层的有机发光二极管;以及 从所述第一有机层去除所述基板。
17.根据权利要求16所述的方法,其中去除所述气泡是通过将激光束照射在所述多晶硅层上来执行的。
18.根据权利要求16所述的方法,进一步包括: 用修复材料填充所述第二修复槽。
19.一种柔性显示装置,包括: 柔性基板,所述柔性基板包括第一有机层、被提供在所述第一有机层上的第一无机层、被提供在所述第一无机层上并且包括凹陷的第二修复槽的第二有机层、以及被提供在所述第二有机层上并且包括用于暴露所述第二修复槽的第二修复孔的第二无机层; 被提供在所述柔性基板上并且包括多晶硅层的有源层;以及 连接至所述有源层的有机发光二极管。
20.根据权利要求19所述的柔性显示装置,进一步包括: 用于填充所述第二 修复槽的修复材料。
【文档编号】H01L51/56GK103985823SQ201410044840
【公开日】2014年8月13日 申请日期:2014年2月7日 优先权日:2013年2月7日
【发明者】朴容焕, 金容官, 金炫准, 许仁, 金相基 申请人:三星显示有限公司
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