负压控制装置制造方法

文档序号:7080786阅读:165来源:国知局
负压控制装置制造方法
【专利摘要】一种负压控制装置,其具有:一真空单元;至少二第一阀,各第一阀系耦接该真空单元;至少二第一工作区,各第一工作区系稱接各第一阀;一第二阀,其系耦接该真空单元;一压力控制器,其系耦接该第二阀;以及一第二工作区,其系耦接该压力控制器。第一阀与第二阀依序提供一负压给第一工作区或第二工作区,并透过压力控制器调整负压的真空值,故无须使用多个真空源,仅需单一真空源即可提供多个负压给多个工作区。
【专利说明】负压控制装置

【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种负压控制装置,尤指一种能利用单一真空源,以多个负压给多个装置的控制装置。

【背景技术】
[0002]负压装置,其系广泛地应用于晶圆封装的制程中。常见的负压装置的使用方式,其系提供一负压给一上模具,而使该上模具吸附一膜体。再提供另一负压给一下模具,而使该下模具吸附一晶圆。等待封装制程完成后,负压装置又提通一负压给一取放装置,以将完成封装的晶圆取出下模具。
[0003]或者该负压装置系提供一负压给一下模具,该下模吸附有复数个晶粒,该些晶粒系贴附于一膜体。该负压装置再提供一负压给一上模具,该上模具系对该膜体进行吸附,而使该膜体与该些晶粒相互分离。该负压装置又提通一负压给一取放装置,以将该些晶圆取出下模具。
[0004]如上所述,负压装置系能够应用于晶圆封装的制程中,但上述之负压提供系使用至少两部负压装置,如真空抽取机,或者三部以上。使用多部负压装置的目的在于因上述之上模具、下模具或取放装置所使用的真空负压值皆不相同,所以才使用多部负压装置以提供多种真空负压值之负压给多个装置。使用多部负压装置的结果系造成设备需要较大的设置空间,以及较高成本。


【发明内容】

[0005]本实用新型目的在于提供一种负压控制装置,其系藉由单一真空源,以提供多个负压给多个装置,如此能够节省设备空间,并降低成本。
[0006]为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种负压控制装置,其具有:
[0007]一真空单元;
[0008]至少二第一阀,各第一阀系耦接该真空单元;
[0009]至少二第一工作区,各第一工作区系耦接各第一阀;
[0010]一第二阀,其系耦接所述真空单元;
[0011]一压力控制器,其系耦接所述第二阀;以及
[0012]一第二工作区,其系耦接所述压力控制器。
[0013]上述方案中,还具有一控制单元,该控制单元系分别耦接所述真空单元、所述第一阀、所述第二阀与所述压力控制器。
[0014]上述方案中,所述第一工作区或第二工作区为一模具、一上模、一下模、一载盘、一模腔或一吸取装置。
[0015]上述方案中,所述第一阀与第二阀为一真空电磁阀。
[0016]上述方案中,还具有至少一压力表,各压力表系分别耦接各第一阀与各第一工作区。
[0017]上述方案中,还具有一压力表,该压力表系分别耦接所述压力控制器与所述第二工作区。

【专利附图】

【附图说明】
[0018]图1为本实用新型负压控制装置的示意图;
[0019]图2为本实用新型负压控制装置的动作时序图。
[0020]以上附图中:10、真空单元;11、第一阀;12、压力表;13、第一工作区;14、第二阀;15、压力控制器;16、第二工作区;17、控制单元;18、压力表。

【具体实施方式】
[0021]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
[0022]实施例一:参见图1-图2所示:
[0023]请配合参考图1所示,一种负压控制装置,其具有一真空单元10、至少二第一阀
11、至少一压力表12、18、至少二第一工作区13、一第二阀14、一压力控制器15、一第二工作区16与一控制单元17。
[0024]真空单元10系为一真空泵浦。
[0025]第一阀11系耦接真空单元10。第一阀11为一真空电磁阀。
[0026]各压力表12系I禹接各第一阀11。
[0027]各第一工作区13系稱接各压力表12。第一工作区13为一模具、一上模、一下模、
一载盘、一模腔或一吸取装置。
[0028]第二阀14系耦接真空单元10。第二阀14为一真空电磁阀。
[0029]压力控制器15系耦接第二阀14。
[0030]第二工作区16系稱接压力控制器15。第二工作区15为一模具、一上模、一下模、
一载盘、一模腔或一吸取装置。
[0031]控制单元17系分别耦接真空单元10、第一阀11、第二阀14与压力控制器15。
[0032]压力表18系分别耦接压力控制器15与第二工作区16。
[0033]请配合参考图2所示,其系为一时序控制示意图。直线A为一开始点。直线B为一终点。时序线C至I系表示工作动作时间。
[0034]请再配合参考图1所示,若第一工作区13为一上模,时序线D系表示上模的内圈具有一第一真空值,该第一真空值的开始点系为时序线D邻近直线A的高起位置处,该第一真空值的终止点系为时序线D邻近直线B的高起位置处。同理,时序线C至I亦可为相同的论述。该第一工作区13系为图1之右上角的第一个。
[0035]时序线C系表示一膜或一载盘的定位预备的起终时间。
[0036]时序线E系表不上模的外圈亦具有一第一真空值的起终时间。于图1中其系为右上角之第二个第一工作区13。
[0037]时序线F系表示载盘具有一第一真空值的起终时间。于图1系为右上角之第三个第一工作区13。
[0038]时序线G系表示一模具开合的起终时间。
[0039]时序线H系表示一膜腔具有一第二真空值的起终时间,第二真空值小于第一真空值。于图1系为右下角之第二工作区16。
[0040]时序线I系为一产品取出的起终时间。
[0041]一膜或一载盘已至一预备定位的位置,其系以上述之图2之时序线C表示。如图1所示,控制单元17系给予第一个第一阀11 一开启的指令,第一个第一阀11系开启,真空单元10的负压系能够提供给第一个第一工作区13,如上述之图2之时序线D表示。第一个压力表12系能够读取提供给第一个第一工作区13之第一真空值。
[0042]于一设定时间后,控制单元17系发出指令给第二个第一阀11,以使第二个第一阀11开启,而使真空单元10能够提供一负压给第二个第一工作区13,如上述之图2之时序线E表示。第二个压力表12系能够读取提供给第二个第一工作区13之第一真空值。该设定时间系晚于第一个第一阀11开启的设定时间。
[0043]于一设定时间后,控制单元系发出指令给第三个第一阀11,以使第三个第一阀开启,真空单元10的负压系提供给第三个第一工作区13,如上之图2之时序线F表示。第三一个压力表12系能够读取提供给第三个第一工作区13之第一真空值。该设定时间系晚于第二个第一阀11开启的设定时间。
[0044]若本揭露系应用于一封装制程中,于一设定时间后,控制单元17系发出一指令,以进行一合模的动作,如上述之图2之时序线G表不。该设定时间系晚于第三个第一阀11开启的设定时间。如上所述,该些第一工作区11能够依序为一上模的内圈、一上模的外圈与一载盘。
[0045]于一设定时间后,控制单元17发出一指令,以使第二阀15开启,真空单元10的负压提供给压力控制器15,压力控制器15将该负压调整为具有第二真空值的负压,再提供给第二工作区16,如上述之图2之时序线H表示。该设定时间系晚于合模的设定时间。压力表18系能够读取压力控制器15提供给第二工作区16之第二真空值。如上所述,该第二工作区16能够为一腔室。
[0046]于一设定时间后,控制单元17发出一指令,以使第一个第一阀11与第二个第一阀11关闭。即真空单元10无法提供负压给第一个第一工作区13与第二个第一工作区13。若第一个第一工作区13与第二个第一工作区13分别一上模的内圈与外圈,则该内圈与该外圈未具有真空吸力。如上述之图2的时序线D、E所示。
[0047]于一设定时间后,控制单元17发出一指令,以使第三个第一阀11关闭。真空单元10无法提供负压给第三个第一工作区13。若第三个第一工作区13为一载盘,则该载盘未具有真空吸力。该设定时间系晚于第一个第一阀11与第二个第一阀11关闭的设定时间。如上述之图2的时序线F所示。
[0048]于一设定时间后,模具开启,如上述之图2之时序线G表示。该设定时间系早于第三个第一阀11关闭的设定时间。
[0049]于一设定时间后,控制单元17发出一指令,以使第二阀14关闭。该设定时间系早于模具开启的设定时间。如上述之图2的时序线H所示。
[0050]于一设定时间后,一产品系被取出,该产品能够为已完成封的晶圆。该设定时间系晚于模具开启的设定时间。如上述之图2的时序线I所示。
[0051]综合上述,本实用新型系利用多个真空阀与压力调整单元,而达到使用单一真空源的效果。该真空阀系为上述之第一阀11与第二阀14。该压力调整单元系为上述之压力控制器15。该真空源系为真空单元10。控制单元17系能够使得第一阀11与第二阀14于多个设定时间分别开启,藉此依序提供一负压给第一工作区13或第二工作区16。并透过压力控制器15调整负压的真空值。故无须使用多个真空源,仅需单一真空源即可提供多个负压给多个工作区,藉此缩小设备空间与降低成本。
[0052]上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种负压控制装置,其特征在于:其具有: 一真空单元; 至少二第一阀,各第一阀系耦接该真空单元; 至少二第一工作区,各第一工作区系耦接各第一阀; 一第二阀,其系耦接所述真空单元; 一压力控制器,其系耦接所述第二阀;以及 一第二工作区,其系耦接所述压力控制器。
2.根据权利要求1所述负压控制装置,其特征在于:还具有一控制单元,该控制单元系分别耦接所述真空单元、所述第一阀、所述第二阀与所述压力控制器。
3.根据权利要求1所述负压控制装置,其特征在于:所述第一工作区或第二工作区为一模具、一上模、一下模、一载盘、一模腔或一吸取装置。
4.根据权利要求1所述负压控制装置,其特征在于:所述第一阀与第二阀为一真空电磁阀。
5.根据权利要求1所述负压控制装置,其特征在于:还具有至少一压力表,各压力表系分别耦接各第一阀与各第一工作区。
6.根据权利要求1所述负压控制装置,其特征在于:还具有一压力表,该压力表系分别耦接所述压力控制器与所述第二工作区。
【文档编号】H01L21/683GK204029768SQ201420331881
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2014年6月20日 优先权日:2013年11月29日
【发明者】许鸿铭, 姜智元, 张木庆 申请人:苏州均华精密机械有限公司
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