1.一种多边形的激光增益结构，其特征在于，所述多边形的激光增益结构包括n个侧面，所述多边形的激光增益结构包括掺杂区域和非掺杂区域，其中：
所述掺杂区域形成在所述多边形的激光增益结构的m个侧面上，所述掺杂区域上掺杂有激活离子，所述掺杂区域通过泵浦光束泵浦，用于放大及反射激光光束，其中n大于或等于4，m大于或等于3，且m小于或等于n；
所述非掺杂区域设置在所述多边形的激光增益结构上的未设置所述掺杂区域的位置，所述非掺杂区域作为光学介质，其用于传输所述泵浦光束和所述激光光束，并具有入射面和出射面。
2.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，所述掺杂区域的厚度介于30微米至3毫米之间。
3.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，所述激光增益结构至少包括两个所述掺杂区域，两个所述掺杂区域不平行。
4.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，所述各个掺杂区域相对位置分布为环形形状分布，使得所述激光增益结构存在环形的光线传播路径，能够使入射光经过所述入射面依次在各个掺杂区域发生反射并获得增益，并在所述出射面输出。
5.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，所述掺杂区域位于所述入射面和所述出射面光线传播路径之间，所述掺杂区域掺杂有至少一种激活离子。
6.根据权利要求5所述的激光增益结构，其特征在于，不同掺杂区域中的所述激活离子的掺杂浓度能够单独调节，用以实现均匀增益或均匀生热。
7.根据权利要求5所述的激光增益结构，其特征在于，当同一所述掺杂区域掺杂的激活离子为两种及以上数量时，可对同一掺杂区域的不同的所述激活离子的掺杂量进行单独调节。
8.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，所述激活离子设置在基板上，所述基板通过键合、胶合或者透明陶瓷直接烧结制备的方式制备到所述激光增益结构的侧面上。
9.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，在两个所述掺杂区域之间进一步掺杂ASE抑制离子，用于对所述掺杂区域的ASE噪声进行抑制。
10.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，在所述非掺杂区域中设置通孔，用于设置冷却装置，泵浦光的耦合装置或ASE抑制装置。
11.根据权利要求1所述的激光增益结构，其特征在于，在所述非掺杂区域的入射面和/或出射面上设置有至少一种高透膜和/或高反膜。
12.一种激光振荡器，其特征在于，所述激光振荡器包括：
激光谐振腔，具有全反射镜及输出反射镜；
激光增益结构，设置在所述全反射镜及输出反射镜之间，其中，所述激光增益结构包括权利要求1-11任一项所述的多边形的激光增益结构；
泵浦光源，用于向所述激光增益结构提供泵浦光束；
泵浦光耦合系统，用于将所述泵浦光束引导至所述激光增益结构中。
13.一种激光放大器，其特征在于，所述激光放大器包括：
激光增益结构，所述激光增益结构包括权利要求1-11任一项所述的多边形的激光增益结构；
激光源，用于提供被放大的激光光束；
激光光束耦合系统，用于将所述激光光束引导入及引导出所述激光增益结构；
泵浦光源，用于向所述激光增益结构提供泵浦光束；
泵浦光源耦合系统，用于将泵浦光束引导至所述激光增益结构中。