1.一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a、基片清洗；
b、将甲醇和THF以4:1的比例混合均匀作为溶剂；取相同重量的PMMA和PS混合作为溶质，PMMA和PS的平均分子量分别为100000和70000，以质量百分比为4％的比例配置溶液，并搅拌均匀；
c、将激光染料若丹明6G(Rh6G)加入步骤b所得溶液中，并加入1-2ml甲基丙烯酸羟乙酯作为助溶剂，染料浓度控制在5*10-3mol/L左右，磁力搅拌20-30分钟，得到橙色透明溶液；
d、利用旋涂仪将步骤c所得溶液旋涂在硅片上，环境温度控制在20～25℃左右，相对湿度低于40％；
e、将步骤d所得薄膜放入真空干燥箱中，以70℃干燥15分钟，对薄膜进行热固化，即可得到薄膜样品；
f、将步骤e所得的薄膜样品放入环己烷溶液中，并加热到60℃，1分钟后取出，可将样品中的PS去除；再将样品以70℃干燥15分钟，最终获得PMMA和空气孔隙结构的薄膜样品。
2.根据权利要求1所述一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法，其特征在于，所述基片清洗包括去离子水冲洗，浓硫酸去除金属氧化物，丙酮去除油脂，氨水去除残余浓硫酸，双氧水冲洗以及烘干。
3.根据权利要求1所述一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法，其特征在于，所述旋涂过程先以500～700rpm的低速预转，时间为几秒钟，并在预转过程中往硅片上滴入溶液，目的是初步将多余的溶液甩掉；然后进行高速旋转，转速在2000～4000rpm之间选择，持续时间为40秒左右，通过改变转速和持续时间控制薄膜厚度。