1.一种成像装置，包括：
相差像素，该相差像素包括：
微型透镜；
第一光电转换结构，配置来通过所述微型透镜接收光；
第二光电转换结构，配置来通过所述微型透镜接收光；
第一转换晶体管，对应于所述第一光电转换结构；
第二转换晶体管，对应于所述第二光电转换结构；
其中，绝缘的光屏蔽膜埋设在所述第一光电转换结构和所述第二光电转换结构之间的区域中，并且所述绝缘的光屏蔽膜埋设其中的所述区域根据光瞳位置移动。
2.根据权利要求1所述的成像装置，
其中所述微型透镜与所述第一光电转换结构和所述第二光电转换结构重叠。
3.根据权利要求1所述的成像装置，
其中，对应于所述相差像素设置白色滤色器。
4.根据权利要求1所述的成像装置，
其中所述相差像素还包括第三光电转换结构和第四光电转换结构。
5.一种成像装置，包括：
相差像素，该相差像素包括：
微型透镜；
第一光电转换结构，配置来通过所述微型透镜接收光；
第二光电转换结构，配置来通过所述微型透镜接收光；
金属膜；
其中，所述金属膜埋设在所述第一光电转换结构和所述第二光电转换结构之间的区域中，并且所述金属膜埋设其中的所述区域根据光瞳位置移动。
6.根据权利要求5所述的成像装置，
其中所述微型透镜与所述第一光电转换结构和所述第二光电转换结构重叠。
7.根据权利要求5所述的成像装置，
其中，对应于所述相差像素设置白色滤色器。
8.根据权利要求5所述的成像装置，
其中所述相差像素还包括第三光电转换结构和第四光电转换结构。
9.一种成像装置，包括：
像素阵列单元，该像素阵列单元包括第一像素；以及
列处理单元；
其中所述第一像素包括：
微型透镜；
第一转换晶体管；
第二转换晶体管；
浮置扩散区域；
第一光电转换元件，配置来通过所述微型透镜接收光并且通过所述第一转换晶体管与所述浮置扩散区域连接；
第二光电转换元件，配置来通过所述微型透镜接收光并且通过所述第二转换晶体管与所述浮置扩散区域连接；以及
设置在所述第一光电转换元件和所述第二光电转换元件之间的沟槽区域，其中绝缘的光屏蔽埋设在该沟槽区域，所述第一像素布置在离所述像素阵列单元中心的一定距离，并且所述沟槽区域根据光瞳的位置从所述第一像素的中心移动。
10.根据权利要求9所述的成像装置，还包括形成在所述第一光电转换元件和所述第二光电转换元件上的固定电荷膜，其中所述固定电荷膜埋设在所述沟槽区域。
11.根据权利要求9所述的成像装置，还包括形成在所述第一光电转换元件和所述第二光电转换元件上的绝缘膜，其中所述绝缘膜埋设在所述沟槽区域。
12.根据权利要求10所述的成像装置，还包括形成雕刻的光屏蔽膜和阻挡金属的金属材料，所述阻挡金属形成在雕刻的光屏蔽膜和在所述沟槽区域中的固定电荷膜之间。
13.根据权利要求9所述的成像装置，其中所述第一像素的所述沟槽区域从平面图看形成为“十字”的形状。
14.根据权利要求9所述的成像装置，其中所述第一像素的所述沟槽区域从平面图看形成为“中心上具有十字的正方形”的形状。
15.根据权利要求9所述的成像装置，其中所述像素阵列单元还包括邻近所述第一像素的第二像素，并且其中沟槽区域设置在所述第一像素和所述第二像素之间。
16.根据权利要求15所述的成像装置，其中所述第二像素不包含沟槽区域。
17.根据权利要求9所述的成像装置，其中所述第一像素中的所述第二光电转换元件的光接收区域大于所述第一光电转换元件的光接收区域。