1.一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，包括密闭的功能腔(1)，所述功能腔(1)内设置有温度可调节的加热器(2)，所述加热器(2)具有用于放置晶圆并对其进行加热的加热平台，所述功能腔(1)位于加热平台上方的内腔壁上设置有可拆卸的铝制挡板(3)，所述功能腔(1)的下部设置有用于向其内通入气体的进气管(5)，所述功能腔(1)的上部连通设置有抽气管(4)，所述抽气管(4)通过管道与真空泵(6)连通。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述加热器(2)的数量为两个且在水平方向上间隔并排设置。
3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述进气管(5)的数量为两个，一个为氨气进管，另一个为氮气进管。
4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述抽气管(4)的下端内径大于其上端内径，所述抽气管(4)的下端与所述功能腔(1)连通，所述抽气管(4)的上端通过管道与真空泵(6)连通。
5.根据权利要求1所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述铝制挡板(3)与所述功能腔(1)的内腔壁通过螺栓连接。
6.根据权利要求1至5任一项所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述功能腔(1)为长方体状，所述进气管(5)位于所述功能腔(1)的下部中间位置，所述抽气管(4)位于所述功能腔(1)的上部中间位置。
7.根据权利要求1至5任一项所述的一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，所述功能腔(1)的内腔壁上设有碳化钨涂层。