技术总结
本实用涉及一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其包括密闭的功能腔，功能腔内设置有温度可调节的加热器，加热器具有用于放置晶圆并对其进行加热的加热平台，功能腔位于加热平台上方的内腔壁上设置有可拆卸的铝制挡板，功能腔的下部设置有进气管，功能腔的上部设置有抽气管，抽气管通过管道与真空泵连通。本实用新型的有益效果是：其专用于对晶圆铜膜层上氧化铜进行氨气处理，设置可拆卸的铝制挡板，其价格便宜，更换不会使成本较大增加；功能腔的上部连通有真空泵，铝挡板溅射形成的化合物可被真空泵抽走，不会污染下方的晶圆；同时，该装置也可用于铜膜层上hillock处理时的CVD退火处理，退火过程中有氮气保护，可保证晶圆不受损。
技术研发人员：张明
受保护的技术使用者：武汉新芯集成电路制造有限公司
文档号码：201621356584
技术研发日：2016.12.09
技术公布日：2017.06.20