技术特征：
技术总结
本发明提供能够抑制污点的产生的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备具有多个顶板(11a)的处理室(10)。各顶板(11a)设置为，层叠成瓦状并倾斜，在倾斜方向上邻接的两个顶板(11a)中的、高位置的顶板(11a)的低侧的端部(B1)覆盖低位置的顶板(11a)的高侧的端部(B2)，在低侧的端部(B1)与高侧的端部(B2)之间产生间隙。
技术研发人员：坂下健司;矶明典
受保护的技术使用者：芝浦机械电子株式会社
技术研发日：2017.01.20
技术公布日：2017.08.01