等离子体处理方法与流程

文档序号:11235571阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种等离子体处理方法,在对保持在运输载体的基板进行等离子体处理时,使产品的成品率提高。保持在运输载体的基板的等离子体处理方法包括:准备工序,准备运输载体,所述运输载体具备保持片和配置在该保持片的外周部的框架;基板保持工序,将基板粘接到保持片,使运输载体保持基板;以及张力增加工序,使保持片的张力增加。还包括:载置工序,在基板保持工序之后,将所述运输载体载置在所述载置台,使基板隔着所述保持片与所述载置台接触;以及等离子体处理工序,在该载置工序之后,对基板实施等离子体处理。此外,张力增加工序包括使保持片收缩的收缩步骤,收缩步骤在准备工序与等离子体处理工序之间进行。

技术研发人员:置田尚吾;针贝笃史
受保护的技术使用者:松下知识产权经营株式会社
技术研发日:2017.02.20
技术公布日:2017.09.12
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