1.一种图案化目标膜层的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
在衬底基板上形成图案化的光刻胶层，其中，所述光刻胶层的图案为与所述目标膜层的图案互补的图案；
在所述光刻胶层上形成目标层薄膜；
去除图案化的所述光刻胶层，并同时去除与所述光刻胶层的图案相对应区域的目标层薄膜，形成目标膜层的图案。
2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述目标膜层为薄膜晶体管的源漏极膜层和/或栅极膜层；
所述在所述光刻胶层上形成目标层薄膜，具体包括：在所述光刻胶层上形成至少一层金属层薄膜。
3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述光刻胶层上形成至少一层金属层薄膜，具体包括：
在所述光刻胶层上依次形成银薄膜和铜薄膜。
4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在所述光刻胶层上依次形成银薄膜和铜薄膜，具体包括：
通过银镜反应，在所述光刻胶层上形成银薄膜；
通过铜镜反应，在所述银薄膜上形成铜薄膜。
5.如权利要求1-4任一项所述的制作方法，其特征在于，所述去除图案化的所述光刻胶层，并同时去除与所述光刻胶层的图案相对应的区域的目标层薄膜，形成目标膜层的图案，具体包括：
采用丙酮溶液或无水乙醇溶液对所述光刻胶层进行剥离，以去除图案化的所述光刻胶层，并同时去除与所述光刻胶层的图案相对应的区域的目标层薄膜，形成目标膜层的图案。
6.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，包括：形成栅极、有源层、源漏极的图形；
其中，采用如权利要求2-5任一项所述的制作方法形成所述栅极和/或源漏极的图形。
7.一种图案化的目标膜层，其特征在于，采用如权利要求1-5任一项所述的制作方法制作。
8.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括如权利要求7所述的目标膜层，所述目标膜层为源漏极和/或栅极。
9.一种阵列基板，其特征在于，包括如权利要求8所述的薄膜晶体管。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的阵列基板。