技术总结
本申请实施例提供一种图案化目标膜层、薄膜晶体管、阵列基板及制作方法，以简化图案化目标膜层的制作工艺，降低图案化目标膜层的制作成本。所述制作方法包括：在衬底基板上形成图案化的光刻胶层，其中，所述光刻胶层的图案为与所述目标膜层的图案互补的图案；在所述光刻胶层上形成目标层薄膜；去除图案化的所述光刻胶层，并同时去除与所述光刻胶层的图案相对应区域的目标层薄膜，形成目标膜层的图案。
技术研发人员：张慧文;占建英;王志鹏;于凯;李铁朋
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
文档号码：201710166641
技术研发日：2017.03.20
技术公布日：2017.06.20