薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示器与流程

文档序号:12806912阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示器,该薄膜晶体管的制作方法,包括:提供基板;在所述基板上形成栅极层、栅绝缘层和有源层;在所述有源层上沉积金属层,采用含氟气体对所述金属层进行等离子体处理,对处理后的金属层进行刻蚀处理,分别形成源极层和所述漏极层,所述源极层和所述漏极层分别为单层结构。本发明提供的薄膜晶体管及其制作方法,提高了源漏电极的抗氧化性,源极层和漏极层由传统的上下各有一层保护层的三层结构,得到简化,减小了源漏电极与沟道的接触电阻,并且源极层和漏极层经过等离子体轰击之后,表面粗糙度得以提高,可以增强源极层和漏极层与光刻胶之间的粘附力,防止光刻胶的剥离,提高工艺的良率。

技术研发人员:温钰
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司
技术研发日:2017.04.25
技术公布日:2017.07.04
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