阵列基板及其制备方法、显示装置与流程

技术特征：

技术总结
一种阵列基板及其制备方法、显示装置。通过设置在阵列基板边缘区域的辅助结构，使边缘区域的辅助结构和引线在衬底基板上的正投影覆盖边缘区域的衬底基板，由于切割形成此边缘区域时具有与引线的切割应力相同或相近的辅助结构，从而提高阵列基板边缘区域切割平整度。

技术研发人员：刘庭良;张锴
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
技术研发日：2017.07.06
技术公布日：2017.09.05