光学器件衬底、光学器件衬底制造方法及光学器件与流程

技术特征：

技术总结
一种光学器件衬底，包括衬底主体，所述衬底主体具有形成在其上的安装空间；以及层压层，所述层压层形成在衬底主体上。用于连接安装空间和衬底主体的外部的凹槽图案化在层压层中。

技术研发人员：朴胜浩;金文铉;宋台焕
受保护的技术使用者：普因特工程有限公司
技术研发日：2017.11.03
技术公布日：2018.05.11