技术特征：
技术总结
本发明涉及一种层叠布线膜及其制造方法以及Mo合金溅射靶材，提供可以对应使高清晰的平面显示元件的显示品质提高所必要的、电极或布线膜的低反射的要求的层叠布线膜及其制造方法、以及用于形成担负低反射的中间膜的Mo合金膜的Mo合金溅射靶材。一种层叠布线膜和用于形成中间膜的Mo合金溅射靶材，所述层叠布线膜具有在透明基板上或在形成了透明膜的透明基板上以膜厚30～70nm形成由Mo合金形成的中间膜、在该中间膜正上方形成比电阻为15μΩ·cm以下的导电膜的层叠结构，从前述透明基板侧测定的可见光反射率为15％以下。
技术研发人员：村田英夫
受保护的技术使用者：日立金属株式会社
技术研发日：2017.12.27
技术公布日：2018.07.03