本实用新型属于等离子清洗设备领域，特别涉及一种真空等离子设备腔体。
背景技术：
传统的等离子真空处理设备基本上是针对材料设计成水平多层结构或者竖直多层放置的板材，而有少部分电子行业以外的市场，需要处理的产品是长方体的或正方体的，以及镂空盒装薄和小的产品，这样就没有适合的腔体结构来对应了。因此，研究一种适用于方形材料或盒装零件表面处理的真空等离子设备腔体显得尤为重要。
技术实现要素：
有鉴于此，为了解决上述问题，本实用新型提供研究一种适用于方形材料或盒装零件表面处理的真空等离子设备腔体。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种真空等离子设备腔体，包括腔体，所述腔体内设有隔板，所述隔板包括竖直隔板和水平隔板，所述竖直隔板和水平隔板两端分别通过定位槽固定在腔体的内壁，所述竖直隔板和水平隔板将腔体分隔成若干个隔间，所述隔间两侧分布电极。
进一步的，所述定位槽与腔体的内壁可拆卸连接，所述定位槽可调节移动至腔体的内壁任一高度。通过对定位槽的调节实现对隔板的调节，从而可以调节至任意需求大小的隔间。
进一步的，所述定位槽与腔体内壁通过螺栓连接，所述螺栓通过定位槽的凹槽与腔体的内壁固定。
进一步的，所述定位槽与腔体的内壁通过磁性连接，所述定位槽背部设有磁性材料，所述定位槽通过磁性材料吸附在腔体的内壁。定位槽磁性的设计可以使得定位槽任意移动且不留痕迹。
进一步的，所述腔体内设有至少一个水平隔板，所述水平隔板间的高度通过调节水平隔板的定位槽之间的距离调节，所述腔体内设有至少一个竖直隔板，所述竖直隔板通过定位槽固定在水平隔板与腔体的内壁之间或者相邻的水平隔板与水平隔板之间。
进一步的，所述水平隔板与腔体的内壁之间至少设有一个定位槽，相邻的水平隔板与水平隔板之间至少设有一个定位槽。设置一个定位槽可以节省材料，竖直隔板一端滑入定位槽固定，另一端在重力作用下抵在水平隔板上；设置两个定位槽可以进一步确保竖直隔板的稳定。
另外，在本实用新型所述技术方案中，凡未做特别说明的，均可采用本领域中的常规手段来实现本技术方案。
本实用新型具有以下优点：本实用新型的真空等离子设备腔体通过设置可移动的隔板，可以将腔体内部任意分割，以适应客户对方形材料或盒装零件表面处理的需求，并能达到相应的表面清洁效果，适用性好、可灵活调节隔间大小，有着结构简单、能适应各种尺寸零件处理的优点。
附图说明
图1是本实用新型的真空等离子设备腔体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
参见图1，本实用新型采用的技术方案是：一种真空等离子设备腔体，包括腔体1，所述腔体1内设有隔板，所述隔板包括竖直隔板3和水平隔板2，所述竖直隔板3和水平隔板2两端分别通过定位槽4固定在腔体1的内壁，所述竖直隔板3和水平隔板2将腔体分隔成若干个隔间5，所述隔间5两侧分布电极。
本实施例优选的，所述定位槽4与腔体1的内壁可拆卸连接，所述定位槽4可调节移动至腔体1的内壁任一高度。通过对定位槽4的调节实现对隔板的调节，从而可以调节至任意需求大小的隔间5。
本实施例优选的，所述定位槽4与腔体1内壁通过螺栓连接，所述螺栓通过定位槽4的凹槽与腔体1的内壁固定。
本实施例优选的，所述定位槽4与腔体1的内壁通过磁性连接，所述定位槽4背部设有磁性材料，所述定位槽4通过磁性材料吸附在腔体1的内壁。定位槽4磁性的设计可以使得定位槽4任意移动且不留痕迹。
本实施例优选的，所述腔体1内设有至少一个水平隔板2，所述水平隔板2间的高度通过调节水平隔板2的定位槽4之间的距离调节，所述腔体1内设有至少一个竖直隔板3，所述竖直隔板3通过定位槽4固定在水平隔板2与腔体1的内壁之间或者相邻的水平隔板2与水平隔板2之间。
本实施例优选的，所述水平隔板2与腔体1的内壁之间至少设有一个定位槽4，相邻的水平隔板2与水平隔板2之间至少设有一个定位槽4。设置一个定位槽4可以节省材料，竖直隔板3一端滑入定位槽4固定，另一端在重力作用下抵在水平隔板2上；设置两个定位槽4可以本实施例优选确保竖直隔板3的稳定。
本实施例的真空等离子设备腔体通过设置可移动的隔板，可以将腔体内部任意分割，以适应客户对方形材料或盒装零件表面处理的需求，并能达到相应的表面清洁效果，适用性好、可灵活调节隔间大小，有着结构简单、能适应各种尺寸零件处理的优点。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。