1.一种真空等离子设备腔体，包括腔体(1)，其特征在于：所述腔体(1)内设有隔板，所述隔板包括竖直隔板(3)和水平隔板(2)，所述竖直隔板(3)和水平隔板(2)两端分别通过定位槽(4)固定在腔体(1)的内壁，所述竖直隔板(3)和水平隔板(2)将腔体分隔成若干个隔间(5)，所述隔间(5)两侧分布电极。
2.根据权利要求1所述的真空等离子设备腔体，其特征在于：所述定位槽(4)与腔体(1)的内壁可拆卸连接，所述定位槽(4)可调节移动至腔体(1)的内壁任一高度。
3.根据权利要求1所述的真空等离子设备腔体，其特征在于：所述定位槽(4)与腔体(1)内壁通过螺栓连接，所述螺栓通过定位槽(4)的凹槽与腔体(1)的内壁固定。
4.根据权利要求3所述的真空等离子设备腔体，其特征在于：所述定位槽(4)与腔体(1)的内壁通过磁性连接，所述定位槽(4)背部设有磁性材料，所述定位槽(4)通过磁性材料吸附在腔体(1)的内壁。
5.根据权利要求3所述的真空等离子设备腔体，其特征在于：所述腔体(1)内设有至少一个水平隔板(2)，所述水平隔板(2)间的高度通过调节水平隔板(2)的定位槽(4)之间的距离调节，所述腔体(1)内设有至少一个竖直隔板(3)，所述竖直隔板(3)通过定位槽(4)固定在水平隔板(2)与腔体(1)的内壁之间或者相邻的水平隔板(2)与水平隔板(2)之间。
6.根据权利要求1所述的真空等离子设备腔体，其特征在于：所述水平隔板(2)与腔体(1)的内壁之间至少设有一个定位槽(4)，相邻的水平隔板(2)与水平隔板(2)之间至少设有一个定位槽(4)。