薄膜晶体管制造方法及阵列基板与流程

本发明涉及显示面板制造技术领域，尤其涉及一种应用于显示面板中的阵列基板与薄膜晶体管的制造方法。

背景技术：

在阵列基板的制程中，薄膜晶体管开关的电性与源极和漏极的漏电程度有着直接的关系，在制作氧化物半导体层时，会通过蚀刻方式去除多余的非多晶硅部分，然后在形成源极和漏极，但是源极和漏极与氧化物半导体层之间、特别是氧化物半导体层两侧部分与源极和漏极之间容易发生漏电现象。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种防止源极和漏极发生漏电的薄膜晶体管制造方法。

本申请提供一种薄膜晶体管制造方法，所述方法包括：去除所述薄膜晶体管的氧化物半导体层的两个相对侧面的自然氧化物层，对所述去除自然氧化物层的两个侧面进行氧化以形成氧化物保护层；在形成有形成氧化物保护层的氧化物半导体层上形成源极和漏极。

其中，所述去除所述薄膜晶体管的氧化物半导体层的两个相对侧面的自然氧化物层的步骤中，采用氢氟酸去除自然氧化物层。

其中，所述氢氟酸的浓度为1％。

其中，所述对所述去除自然氧化物层的两个侧面进行氧化以形成氧化物保护层的步骤中，采用臭氧气体进行氧化。

其中，在步骤去除所述薄膜晶体管的氧化物半导体层的两个相对侧面的自然氧化物层之前，包括步骤，在基板上形成栅极；

在所述栅极上形成栅极绝缘层；

在所述绝缘层上形成氧化物半导体层；其中，所述氧化物半导体层远离所述栅极绝缘层的表面具有保护层。

其中，所述在所述绝缘层上形成氧化物半导体层的步骤包括：形成覆盖所述栅极绝缘层及基板的非晶硅基层以及覆盖所述栅极上方的阻挡层，

蚀刻露出所述阻挡层的非晶硅基层形成所述氧化物半导体层，并且所述氧化物半导体层两侧被蚀刻掉露出的面为所述侧面。

其中，所述保护层为自然氧化物层。

其中，在形成所述形成氧化物保护层的步骤后还包括对所述薄膜晶体管进行清洗的步骤。

其中，所述清洗液选用纯水。

其中，所述步骤去除所述薄膜晶体管的氧化物半导体层的两个相对侧面的自然氧化物层、步骤对所述去除自然氧化物层的两个侧面进行氧化以形成氧化物保护层以及对所述薄膜晶体管进行清洗的步骤均是通过自动化依次进行。

本申请还提供一种阵列基板，其包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管由如以上所述的薄膜晶体管制造方法所制成。

本申请所述薄膜晶体管制造方法再制造过程中先将氧化物半导体层两侧被蚀刻后的表面进行去氧化物处理，然后在通过臭氧形成氧化物保护层，保证该氧化物保护层均匀性，防止因氧化不均匀问题导致源漏极发生漏电问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明所述的显示面板的侧面结构示意图。

图2是图1所示阵列基板的布局结构示意图。

图3为图2所示阵列基板的任意像素单元的平面结构示意图。

图4是本发明的阵列基板的部分结构截面示意图。

图5是本发明提供的薄膜晶体管制造方法的流程图。

图6与图7是图5所示的薄膜晶体管制造方法步骤S11制作过程的截面示意图。

图8是图5所示的薄膜晶体管制造方法的步骤S12制作过程的截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。

请参阅图1，其为本发明一实施例中显示面板的侧面结构示意图。

如图1所示，显示面板包括依次层叠设置的阵列基板11、显示介质层13以及彩膜基板15。其中，阵列基板11与彩膜基板15上设置有多个显示元件(图未示)，所示多个显示元件用于产生电场驱动显示介质层13进行图像显示。本实施例中，显示介质层13为液晶分子层，也即是本实施中显示面板10以液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)为例进行说明，当然，可变更地，显示介质层13还以为其他显示介质，例如有机发光材料(Organic Electroluminesence Display,OLED)或者其他显示材料，并不以此为限。

请参阅图2，其为如图1所示阵列基板11的布局结构示意图，如图2所示，阵列基板包括多个呈矩阵排列的像素单元、沿着相互垂直方向间隔且绝缘排布的扫描线111与数据线112，对应地，像素单元110分别设置于相邻的两条数据线112与扫描线111之间，且分别与对应的其中一条数据线以及扫描线电性连接。每一个像素单元110至少包括一个薄膜晶体管开关T与像素电极Px。

具体地，请结合图2一并参阅图3，其中，图3为图2所示任意像素单元110的平面结构示意图。如图2与图3所示，薄膜晶体管开关T包括栅极G、源极S以及漏极D，其中，栅极G电性连接扫描线111，源极S电性连接数据线112，漏极D电性连接像素电极Px。

薄膜晶体管开关T通过栅极G自扫描线111提供的扫描信号驱动下处于导通状态，待显示图像的数据信号自数据线112传输至薄膜晶体管T的源极S，进而通过漏极D传输至像素电极Px，像素电极Px在数据信号驱动下配合参考电压产生电场，从而达成驱动显示介质层12对数据信号进行图像显示。

所述像素电极Px与薄膜晶体管开关T通过半导体工艺形成于基板10上。

请结合图4，具体地，薄膜晶体管T的栅极11形成基板10的表面，栅极绝缘层12覆盖于栅极11表面，有源层13形成于栅极绝缘层12表面，其中，栅极绝缘层12用于针对源极层13与栅极11形成电性绝缘。源极141与漏极142间隔预定距离形成于有源层13表面，其中，所述预定距离即为源极141和漏极142之间的导电沟道。钝化层(图未示)形成于源极141和漏极142上，其中，钝化层对应漏极142的位置包括开口(未标示)，图案化的像素电极Px形成于钝化层上并且通过所述开口于漏极142电性连接。可理解，阵列基板11是利用五次光刻工艺于透明玻璃基板10上形成，其中，基板10有可能为透明的石英基板、玻璃基板或是塑胶基板。像素电极Px可采用氧化铟锡(Indium-Tin-Oxide,ITO)。

较佳地，薄膜晶体管开关T中的有源层13的横截面为梯形，也即是包括相对两个侧边、顶边及底边(图未标)，且顶边间隔预定距离分别接触于源极141与漏极142，底边接触于栅极绝缘层12。对应于，所述绝缘层12用于防止源极141与漏极142在薄膜晶体管开关T具有接面漏电流(Junct ion Leak)。本实施例中，有源层13由非晶硅材料构成，所述绝缘层12为氧化物构成，例如SiOx。

请参阅图5，本申请提供如图4所示薄膜晶体管阵列基板制造方法，所述方法包括：

步骤S11，去除所述薄膜晶体管的氧化物半导体层13的两个相对侧面131的自然氧化物层132；图6所示的薄膜晶体管的氧化物半导体层13的两个相对侧面131是形成有自然的氧化物层132，如SiOx层，图7所示为去除了自然的氧化物层132的示意图，所述自然的氧化物层是指氧化物半导体层暴露于空气中的表面与氧气发生化学反应变化形成的一层氧化物层。

进一步的，在本步骤中，主要采用氢氟酸去除自然氧化物层132。所述氢氟酸的浓度为1％。当然，所述氢氟酸的浓度可以根据设计需要而选择。

步骤S12，对所述去除自然氧化物层132的两个侧面131进行氧化以形成氧化物保护层134；氧化物保护层134均匀的覆盖所述侧面。如图8所示，所述侧面131上的自然氧化物层132如果不去除就制作氧化物保护层134，会产生不均匀的表面而出现某些位置露出氧化物半导体层，那么源极和漏极就会存在漏电的现象，而导致影响薄膜晶体管的电性能，本申请恰好防止了侧面131上氧化物保护层134的不均匀的现象，避免了源极和漏极漏电现象。进一步的，本步骤中，采用臭氧气体对所述侧面131进行氧化而形成氧化物保护层134。

如图4所示，如图4所示，步骤S13，在形成有形成氧化物保护层134的氧化物半导体层13上形成源极141和漏极142。本步骤先在氧化物半导体层13上形成金属层，通过图案化工艺图案化所述金属层形成所述源极141和漏极142。

本申请在上述步骤S11之前，包括步骤在基板10上形成栅极11；

步骤在所述栅极11上形成栅极绝缘层12；

步骤在所述栅极绝缘层12上形成氧化物半导体层13；其中，所述氧化物半导体层13远离所述栅极绝缘层12的表面具有保护层135。所述保护层135为自然氧化物层。

其中，所述在所述栅极绝缘层12上形成氧化物半导体层13的步骤包括：形成覆盖所述栅极绝缘层12及基板10的非晶硅基层以及覆盖所述栅极11上方的阻挡层，

蚀刻露出所述阻挡层的非晶硅基层形成所述氧化物半导体层，并且所述氧化物半导体层两侧被蚀刻掉露出的面为所述侧面。所述蚀刻为湿蚀刻。

进一步的，在所述步骤S12之后还包括对形成氧化物保护层134的所述薄膜晶体管进行清洗的步骤。本步骤中，清洗次数选为3次，所述清洗液选用纯水。

本申请所述的薄膜晶体管制造方法步骤S11、步骤S12期步骤S13采用清洗设备自动运输物料清洗，如图4所示，形成有氧化物半导体层13的阵列基板通过上下传送装置，如机械手，将阵列基板依次运输至第一缓冲腔室、氢氟酸去除区域、臭氧氧化区域、三个纯水清洗区域、干燥区及第二缓冲区后再运输出去。也就是说，步骤S11、步骤S12期步骤S13均是通过自动化依次进行。

本申请还提供一种阵列基板，其包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管由本申请上述实施例所述的薄膜晶体管制造方法所制成。该阵列基板由于氧化物半导体层是经过去除自然氧化物层后在通过臭氧形成的保护层，不会在使用中发生源漏极漏电现象，保证了阵列基板的电性功效。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。