显示面板和显示装置的制作方法

本公开的实施例涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术：

随着移动支付和移动信息交流的快速发展，对于适用于显示器件的便捷、有效的安防技术的需求也日益增长。指纹识别技术、掌纹识别技术和虹膜识别技术等人体生物识别技术逐渐被移动电子设备采用。如果通过引入单独的成像模块来使得触控显示器件具有指纹识别或掌纹识别等人体生物识别功能，这将增加触控显示器件的体积、重量、成本和功耗，与当前消费者对于电子产品尤其是消费类电子产品的要求、期待相违背。

技术实现要素：

本公开的至少一个实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括成像层、小孔遮光层、显示阵列层和触控层。所述成像层、所述显示阵列层和所述触控层依次设置；所述小孔遮光层设置在所述成像层和所述触控层之间且包括遮光区以及对应于所述成像层的至少一个孔状透光区；所述显示阵列层的出射光线朝向远离所述成像层的一侧；以及所述触控层包括由导电线形成的触控网格图案，至少一个所述触控网格图案包括对应于所述孔状透光区的第一网格以及所述第一网格之外的第二网格，所述第一网格的尺寸大于所述第二网格的尺寸。

本公开的至少一个实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本公开任一实施例提供的显示面板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1A是一种显示面板的剖面示意图；

图1B是图1A示出的显示面板的平面示意图；

图2A是本公开一个实施例提供的一种显示面板的剖面示意图；

图2B是本公开一个实施例提供的一种触控网格图案和显示像素的平面示意图；

图2C是本公开一个实施例提供的一种显示像素排布方式的示意图；

图2D是本公开一个实施例提供的一种成像层的平面示意图；

图2E是本公开一个实施例提供的另一种成像层的平面示意图；

图3A是本公开一个实施例提供的一种小孔遮光层的平面示意图；

图3B是本公开一个实施例提供的另一种小孔遮光层的平面示意图；

图3C是本公开一个实施例提供的再一种小孔遮光层的平面示意图；

图4A是本公开一个实施例提供的一种第一网格的平面示意图；

图4B是本公开一个实施例提供的一种第一网格和辅助网格线的平面示意图；

图4C是本公开一个实施例提供的另一种触控网格图案和显示像素的平面示意图；

图4D是本公开一个实施例提供的另一种第一网格的平面示意图；

图4E是本公开一个实施例提供的一种第二网格的平面示意图；

图5A是一种阵列排布的第二网格；

图5B是本公开一个实施例提供的一种触控网格图案；

图6是用于确定第一网格尺寸的示例性原理图；

图7A是本公开一个实施例提供的一种散射点的剖面示意图；

图7B是本公开一个实施例提供的另一种散射点的剖面示意图；

图8是本公开一个实施例提供的再一种触控网格图案和显示像素的平面示意图；

图9A是本公开一个实施例提供的一种触控层的平面示意图；

图9B是本公开一个实施例提供的另一种触控层的平面示意图；

图9C是图9B示出的触控层的剖面示意图；

图10A是本公开一个实施例提供的另一种显示面板的剖面示意图；

图10B是本公开一个实施例提供的再一种显示面板的剖面示意图；

图10C是本公开一个实施例提供的又再一种显示面板的剖面示意图；以及

图11是本公开一个实施例提供的一种显示装置的示例性框图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

有机发光二极管显示面板因具有自发光、响应快、宽视角和可制作在柔性衬底上等特点而越来越多地被应用于显示领域中。例如柔性有机发光二极管显示面板还可以应用在各种可柔绕的异型产品中。指纹识别装置已经广泛应用至例如移动电话、平板电脑等便携式电子装置中。目前，指纹识别装置还是单独设置在显示屏幕的外侧，即采用屏外指纹识别方式，这导致移动电话等的边框较宽。对此，可以考虑将指纹识别装置与显示面板的显示屏结合，以实现屏下指纹识别方式，进而实现显示面板的窄边框设计。此外，将显示与触控结合也是当前的电子装置的发展方向。例如，可以制备包括指纹检测电路和具有触控功能的有机发光二极管显示面板的指纹识别装置，检测电路例如可以设置在有机发光二极管显示面板的下方。

图1A和图1B示出了一种显示面板500的剖面示意图和平面示意图，图1A示出的剖面示意图是沿图1B所示的A-A’线剖切得到的。例如，如图1A所示，该显示面板500可以包括成像层510、小孔遮光层520、显示阵列层530、封装层550、光学胶560、基材570、触控层540以及盖板等。例如，光学胶560可以为OCA(Optically Clear Adhesive)光学胶560，基材570可以为环烯烃聚合物(Cyclo-olefin polymer，COP)薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，PET)薄膜或透明聚酰亚胺(Colorless Polyimide，CPI)薄膜，但本公开的实施例不限于此。例如，小孔遮光层520可以包括至少一个孔状透光区522。

本公开的发明人注意到，如图1A所示，当该显示面板500执行成像功能(例如，指纹成像)时，成像层510不仅能够接收到待成像物体(例如，手指)反射的光线(例如，图1A中带有箭头的实线)，而且还能够接收到触控层540反射的光线(例如，图1A中带有箭头的虚线)，由此降低了成像层510和显示面板500的成像质量。此外，本公开的发明人还注意到，光学胶560和基材570增加了显示面板500的厚度，并且可能降低显示面板500的亮度。

本公开的实施例提供了一种显示面板和显示装置，该显示面板和显示装置可以提升成像质量。

本公开的至少一个实施例提供了一种显示面板。该显示面板包括成像层、小孔遮光层、显示阵列层和触控层。成像层、显示阵列层和触控层依次设置；小孔遮光层设置在成像层和触控层之间且包括遮光区以及对应于成像层的至少一个孔状透光区；显示阵列层的出射光线朝向远离成像层的一侧；以及触控层包括由导电线形成的触控网格图案，至少一个触控网格图案包括对应于孔状透光区的第一网格以及第一网格之外的第二网格，第一网格的尺寸大于第二网格的尺寸。

本实施例提供的显示面板通过设置包括对应于孔状透光区的第一网格和第二网格的触控网格图案，且使得第一网格的尺寸大于第二网格的尺寸，可以减少入射至成像层上的触控网格图案反射的光线，由此可以提升成像层和显示面板的成像质量。

下面将通过几个示例对本公开的实施例提供的显示面板进行非限制性的说明，如下面所描述的，在不相互抵触的情况下这些具体示例中不同特征可以相互组合，从而得到新的示例，这些新的示例也都属于本公开保护的范围。

例如，图2A和图2B示出了本公开至少一个实施例提供的一种显示面板100的剖面示意图和平面示意图，图2A示出的剖面示意图是沿图2B所示的A-A’线剖切得到的。需要说明的是，为清楚起见，图2B仅示出了的显示面板100所包括的部分层的部分区域。

例如，如图2A所示，该显示面板100可以包括成像层110、小孔遮光层120、显示阵列层130和触控层140，该显示面板可以实现屏下指纹识别功能。例如，如图2A所示，成像层110、显示阵列层130和触控层140依次设置，小孔遮光层120设置在成像层110和触控层140之间。例如，如图2A所示，小孔遮光层120可以设置在成像层110和显示阵列层130之间；又例如，在显示面板100的成像功能仅由显示面板100的部分区域(例如，参见图2D，位于显示面板100的周边区域的成像区180)实现时，小孔遮光层120还可以设置在显示阵列层130和触控层140之间。为清楚起见，下面本公开以小孔遮光层120设置在成像层110和显示阵列层130之间为例对本公开的实施例进行详细阐述，但本公开的实施例不限于此。

例如，如图2A和图2B所示，显示阵列层130可以包括多个显示像素131。例如，显示像素131对从显示侧反射的光线具有一定的透过率(也即，不完全遮挡从显示侧反射的光线)，由此从显示侧反射的光线(例如，手指指纹反射的光线)可以穿过显示阵列层130以及小孔遮光层120的孔状透光区122入射至成像层110上。例如，由于触控层140设置在该显示面板的显示侧，因此，触控层140也可以反射显示像素131发射的光线，触控层140反射的部分光线也可以穿过显示阵列层130以及小孔遮光层120的孔状透光区122入射至成像层110上，该反射光呈杂散状态，因此将降低成像层110的成像质量，对于指纹识别而言，将降低指纹识别的成功率。需要说明的是，本文中的“显示侧”是指位于显示像素131的远离成像层110的一侧。

例如，如图2B所示，每个显示像素131的形状可以为菱形，但本公开的实施例不限于此；根据实际应用需求，多个显示像素131的形状还可以为矩形、三角形和六边形的至少一种。例如，如图2B所示，多个显示像素131可以包括第一显示像素132、第二显示像素133和第三显示像素134，第一显示像素132、第二显示像素133和第三显示像素134的出射光线例如可以分别为红光、绿光和蓝光，但本公开的实施例不限于此，例如还可以包括发白光的显示像素。

例如，如图2B所示，在多个显示像素131包括第一显示像素132、第二显示像素133和第三显示像素134的情况下，多个显示像素131(也即，第一显示像素132、第二显示像素133和第三显示像素134)可以呈Δ排布，但本公开的实施例不限于此；又例如，多个显示像素131还可以呈矩形排布(图中未示出)。再例如，多个显示像素131还可以排布成如图2C示出的图案。

例如，每个显示像素131可以包括自发光元件，该自发光元件例如可以为发光二极管，发光二极管例如可以为有机发光二极管(OLED)或无机发光二极管，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，如图2A所示，发光二极管可以朝向显示侧发光(也即，显示阵列层130的出射光线朝向远离成像层110的一侧)。

例如，成像层110可以包括至少一个成像像素111(例如，可以包括阵列排布的多个成像像素111)。例如，如图2D所示，显示面板100可以具有成像区180(也即，显示面板100的具有成像功能的区域)，所有的成像像素111可以均设置在显示面板100的成像区180，成像区180例如可以设置在显示面板100的显示区域(例如，显示面板100的左下角)，但本公开的实施例不限于此。需要说明的是，本公开的实施例提供的显示面板100不限于仅具有一个成像区，根据实际应用需求，显示面板100还可以具有多个分立的成像区。

又例如，如图2E所示，显示面板100还可以具有全屏成像功能(例如，显示面板100除周边区域外的区域均具有成像功能)，此时，多个成像像素111还可以在整个显示面板100上(例如，显示面板100的除周边区域外的区域中)均匀排布，因此，待成像物体的光线可以经由显示面板100的任何位置入射至成像层110，由此可以实现全屏成像功能(例如，全屏指纹识别功能)。需要说明的是，图2D和图2E示出的成像像素111的个数均为示例，本公开的实施例不限于此。

例如，成像像素111可以采用适当的类型，例如可以包括光电二极管和开关晶体管，光电二极管可以将照射到其上的光信号转换为电信号，开关晶体管可以与光电二极管电连接，以控制光电二极管是否处于采集光信号的状态以及采集光信号的时间。例如，光电二极管的类型和设置方式可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，光电二极管可以是PIN结型光敏二极管或光敏晶体管等，由此可以提升光电二极管的响应速度。

例如，如图2A所示，小孔遮光层120可以包括遮光区121以及对应于成像像素111的至少一个孔状透光区122。例如，如图2A和图2B所示，孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影可以位于相邻的显示像素131之间，例如，在相邻的显示像素131之间具有开口135的情况下，孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影可以位于相邻的显示像素131之间的开口135中，由此可以避免显示像素131出射的光线直接经由孔状透光区122入射至成像层110上；例如，当显示像素131为顶发射型时，孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影可以比位于相邻的显示像素131之间的开口大。例如，如图2A所示，孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影可以位于成像层110的正投影之内，由此可以使得成像层110更好地接收源于待成像物体(例如，手指)的光线。

例如，在所有的成像像素111均设置在显示面板100的成像区180中的情况下(参见图2D)，至少一个孔状透光区122也均设置在显示面板100的成像区180中(参见图3A和图3B)，此时，小孔遮光层120可以包括一个孔状透光区122(参见图3A)，或者可以包括阵列排布的多个孔状透光区122(参见图3B)。又例如，如图2E所示，在多个成像像素111在整个显示面板100上均匀排布的情况下，小孔遮光层120可以包括多个在整个显示面板100上均匀排布的孔状透光区122(参见图3C)。例如，为清楚起见，下面以小孔遮光层120仅具有一个孔状透光区122对本公开的实施例做具体说明，但本公开的实施例不限于此。

例如，孔状透光区122的形状和尺寸可以根据实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，孔状透光区122的形状可以为圆形或方形，孔状透光区122的直径可以为1微米-12微米(例如，3微米-8微米)，但本公开的实施例不限于此。需要说明的是，图3B和图3C中示出的孔状透光区122的个数均为示例，本公开的实施例不限于此。

例如，触控层140可以包括由导电线形成的触控网格图案141。例如，导电线可以采用金属、金属氧化物、石墨烯等导电材料制成。为清楚起见，下面本公开以触控层140包括由金属线142形成的触控网格图案141为例对本公开的实施例进行详细阐述，但本公开的实施例不限于此。

例如，如图2A和2B所示，触控层140包括由金属线142形成的触控网格图案141。例如，金属线142在显示阵列层130上的正投影位于相邻的显示像素131之间，也即，金属线142在显示阵列层130上的正投影与相邻的显示像素131不交叠。例如，在金属线142在显示阵列层130上的正投影位于相邻的显示像素131之间的情况下，可以减少金属线142的宽度(也即，在垂直于金属线142延伸方向上的宽度)，由此可以减少金属线142反射的光线的强度，因此可以提升成像层110的成像质量。例如，金属线142的宽度(也即，在垂直于金属线142延伸方向上的宽度)可以为1微米-6微米(例如，3微米-4微米)，但本公开的实施例不限于此。

例如，如图2B所示，触控网格图案141包括对应于孔状透光区122的第一网格143(局部放大图参见图4A)以及第一网格143之外的第二网格144(局部放大图参见图4E)。例如，如图2B示，第一网格143的密度可以小于第二网格144的密度。需要说明的是，网格(第一网格143或第二网格144)的密度是指单位面积内设置的网孔的个数。

例如，如图2B所示，每个第二网格144在显示阵列层130上的正投影可以包围对应的至少一个显示像素131。例如，如图2B和图4E所示，第二网格144的形状可以为六边形，但本公开的实施例不限于此；又例如，第二网格144的形状还可以为五边形、四边形等多边形；例如，基于显示像素131的排布方式以及触控需求，第二网格144还可以具有其它形状(例如，四边形)。

例如，第二网格144可以通过掩膜工艺直接形成在显示阵列层130的远离成像层110的一侧，但本公开的实施例不限于此；又例如，还可以首先通过其它工艺形成第二网格144，然后将形成后的第二网格144转移到显示阵列层130的远离成像层110的一侧。

例如，可以在形成第二网格144的图案化过程中形成第一网格143，也即，第一网格143和第二网格144可以在同一个图案化过程中形成，此时，用于形成触控网格图案141的掩膜版上既具有对应于第一网格143的掩膜图案，也具有对应于第二网格144的掩膜图案。又例如，还可以先形成阵列排布的第二网格144(参见图5A)，然后通过部分去除对应于第一网格143所在位置的第二网格144的金属线142的方式形成第一网格143，也即，如图4A和图4B所示，第一网格143的形状可以为由多个密集排布的第二网格144形成的网格结构的外轮廓的形状。需要说明的是，图4A和图4B中示出的第一网格143的形状仅为示例，根据实际需求，第一网格143还可以具有其它形状(例如，图4D示出的形状)。

例如，如图2B、图4A和图4B所示，第一网格143的尺寸大于第二网格144的尺寸。需要说明的是，网格(第一网格143或第二网格144)的尺寸是指能够包围网格的圆形的最小半径。因此，在单位面积下，第一网格143中的金属线142的面积小于第二网格144中的金属线142的面积；对应地，第一网格143反射的显示像素131发射的光线强度小于第二网格144反射的显示像素131发射的光线强度。

例如，如图2B所示，孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影可以位于第一网格143在显示阵列层130上的正投影之内。由于第一网格143反射的显示像素131发射的光线强度小于第二网格144反射的显示像素131发射的光线强度，因此，相比于图1A示出的触控网格图案141，图2B示出的触控网格图案141可以减少经由孔状透光区122入射至成像层110上的反射光线(触控网格图案141反射的光线)，由此可以提升本公开实施例提供的成像层110和显示面板100的成像质量。

例如，根据实际应用需求，可以使得孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影的中心位于第一网格143在显示阵列层130上的正投影的对称轴上。又例如，根据实际应用需求，还可以使得孔状透光区122在显示阵列层130上的正投影的中心与第一网格143在显示阵列层130上的正投影的中心(也即，能够包围第一网格143的圆形的圆心在显示阵列层130上的正投影)重合，因此可以进一步地减少经由孔状透光区122入射至成像层110上的反射光线(触控网格图案141反射的光线)，由此可以进一步地提升本公开实施例提供的成像层110和显示面板100的成像质量。

例如，第一网格143的尺寸可以基于显示面板100的具体结构以及实际应用需求进行设定，本公开的实施例对此不做具体限定。例如，下面将结合图6对第一网格143的尺寸的设定方法做示例性的说明。

例如，如图6所示，第一网格143的尺寸S可以满足如下关系，也即，S＝2H×tanθ+D，这里的H为触控层140(例如，触控层140的远离成像层110一侧的表面)与小孔遮光层120(例如，小孔遮光层120的远离成像层110一侧的表面)之间的间距；D为孔状透光区122的直径；θ为显示像素131出射光线的发散角的一半。例如，θ可以为0-85度；H可以为1-15微米；第一网格143的尺寸S可以为10-100微米(例如，20-40微米)，但本公开的实施例不限于此。

例如，如图4B和图4C所示，触控网格图案141还可以包括设置在第一网格143之内的辅助网格线145，辅助网格线145的一端可以与形成第一网格143的金属线142相连接，辅助网格线145的另一端可以悬空。例如，相比于图2B示出的触控网格图案141，图4C示出的触控网格图案141可以对环境光线产生相对均匀的反射，因此，可以提升用户观察到触控网格图案141反射的光线的均匀度，由此可以在提升显示面板100的成像质量的同时保证显示面板100的图像显示质量。

例如，金属线142的靠近成像层110的一侧的表面可以为平面，并且该平面可以平行于成像层110。又例如，根据实际应用需求，金属线142的靠近成像层110的一侧的表面还可以包括多个散射点147，散射点147从靠近成像层110的一侧的表面凸出(参见图7B)或凹入(参见图7A)。例如，如图7A所示，散射点147可以对入射其上的光线产生散射，也即，可以使得从任意一个方向入射的光线朝向多个方向传输，因此可以进一步地减少入射至成像层110上的反射光线，由此可以进一步地提升本公开实施例提供的成像层110和显示面板100的成像质量。例如，散射点147的形状可以为半球形，散射点147的尺寸可以为5纳米-70纳米，但本公开的实施例不限于此。

例如，在小孔遮光层120具有多个孔状透光区122的情况下，如图8所示，触控网格图案141可以包括多个第一网格143，需要说明的是，图8中示出的小孔遮光层120所包括的孔状透光区122的个数均为示例，本公开的实施例不限于此。例如，多个第一网格143可以与多个孔状透光区122一一对应，但本公开的实施例不限于此。

触控层140可以为电容型触控结构，其包括表面电容型和透射电容型，透射电容型还可以进一步划分为自电容型和互电容型。自电容型触控结构例如包括布置在同一层上的多个自电容电极，每个自电容电极与相应的引线电连接，引线连接到触控处理电路；互电容型触控结构例如包括布置在同一层或不同层上的多个彼此交叉的驱动电极和感应电极，驱动电极与触控处理电路电连接以施加驱动信号，感应电极与触控处理电路电连接以接收感应信号。

下面将结合图9A-图9C对触控层140的具体结构做示例性的说明。例如，如图9A所示，触控层140可以包括设置在同一层中的多个阵列排布的触控网格图案141。又例如，如图9B和图9C所示，触控层140还可以包括设置在不同层中的多个触控网格图案141，设置在不同层中的触控网格图案141可以使用绝缘层148隔开。需要说明的是，图9C中示出的触控层140的剖面示意图是沿图9B所示的B-B’线剖切得到的。

例如，第一网格143可以仅设置在对应于成像像素111和孔状透光区122的触控网格图案141上设置，而其它的触控网格图案141上可以仅具有第二网格144。例如，第一网格143可以仅设置在图9A中位于左下角的触控网格上，但本公开的实施例不限于此。

例如，根据实际应用需求，如图10A、图10B和图10C所示，显示面板100还可以包括衬底基板151和驱动电路层152。例如，该驱动电路层152与显示像素131电连接，并用于驱动显示像素131发光。例如，驱动电路层152设置在显示阵列层130和成像层110之间，成像层110设置在衬底基板151的任一侧。例如，下面结合图10A、图10B和图10C对衬底基板151和驱动电路层152的具体设置位置进行示例性的说明，但本公开的实施例不限于此。

例如，如图10A所示，驱动电路层152和衬底基板151可以设置在显示阵列层130和小孔遮光层120之间，此时，小孔遮光层120与驱动电路层152为两个分立的层；此时，驱动电路层152可以包括开口1525，由此，待成像物体反射的光线可以穿过驱动电路层152的开口1525以及小孔遮光层120的孔状透光区122入射至成像层110上。

又例如，如图10B和图10C所示，小孔遮光层120可以由驱动电路层152转用实现，小孔遮光层120的遮光区121的至少部分(例如，小孔遮光层120的全部遮光区121)可以由驱动电路层152中的不透明结构1521(例如，金属膜层)形成；小孔遮光层120的小孔可以由不透明结构中的开口1522形成。例如，如图10B所示，成像层110可以设置在衬底基板151的靠近显示阵列层130的一侧；又例如，如图10C所示，成像层110还可以设置在衬底基板151的远离显示阵列层130的一侧。

例如，如图2A所示，该显示面板100还可以包括设置在触控层140和显示阵列层130之间的封装层150(例如，薄膜封装层150)，由此可以缓解空气中的水汽或氧对发光二极管的氧化问题。例如，封装层150可以与触控层140直接接触，此时，触控层140可以直接沉积在封装层150上，由此可以无需在触控层140和封装层150之间设置基材和光学胶，进而可以降低显示面板100的厚度并且可以提升显示面板100的柔性和/或亮度(在相同的驱动功率下)。

例如，如图2A所示，根据实际应用需求，该显示面板100还可以包括设置在触控层140的远离成像层110(例如，远离封装层150)的一侧的覆盖层160。例如，覆盖层160可以包括偏光层(例如，圆偏振片)，以缓解反射光引起的对比度变差、显示质量降低的问题。例如，覆盖层160还可以包括覆盖膜材(例如盖板)，以保护偏光层和显示面板100。

本公开的实施例还提供一种电子装置，该电子装置例如为具有指纹识别的显示装置，或者为具有指纹识别以及触控功能的显示装置，该电子装置包括上述实施例描述的任一指纹识别装置。

例如，本公开的至少一个实施例还提供了一种显示装置10，该显示装置10包括本公开任一实施例提供的显示面板100。

例如，图11示出了本公开的至少一个实施例提供的一种显示装置10示例性框图。例如，如图11所示，该显示装置10包括本公开任一实施例提供的显示面板100。例如，该显示装置10可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置实现了成像功能。

需要说明的是，对于该显示面板100和显示装置10的其它必不可少的组成部分(例如薄膜晶体管控制装置、图像数据编码/解码装置、行扫描驱动器、列扫描驱动器、时钟电路等)可以采用适用的常规部件，这些是本领域的普通技术人员所应该理解的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

本公开的实施例提供了一种显示面板和显示装置，该显示面板和显示装置可以提升成像质量。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。