技术特征：
技术总结
一种在纳米线之间形成内间隔的方法(100)：提供(110)鳍片，所述鳍片包含交替的牺牲材料(4)的层与纳米线材料(3)的层的堆叠；选择性地除去(130)部分牺牲材料(4)，从而形成凹陷(5)；将电介质材料(10)沉积(140)到凹陷(5)中，形成在凹陷(5)中的电介质材料和在凹陷(5)外的多余的电介质材料，其中在各凹陷(5)中的电介质材料中保持缝隙(11)；使用第一蚀刻剂除去(150)多余的电介质材料；使用第二蚀刻剂扩大(160)缝隙(11)，形成间隙(12)，使得余下的电介质材料仍然覆盖牺牲材料并部分覆盖纳米线材料，使得外端可接近；在外端上生长(170)电极材料，使得从相邻外端生长的电极材料合并，从而覆盖间隙(12)。
技术研发人员：K·沃斯汀;H·梅尔腾斯;L·维特斯;A·西卡维;堀口直人
受保护的技术使用者：IMEC非营利协会
技术研发日：2018.03.02
技术公布日：2018.09.14