一种基于光电集成的光控功率晶闸管的制作方法

文档序号:16813873发布日期:2019-02-10 14:04阅读:109来源:国知局

本发明涉及晶闸管,尤其涉及一种基于光电集成的光控功率晶闸管的制作方法。



背景技术:

晶闸管元件(thyristor)是一种用来保护电路(circuitry)的电子元件,其能使电路中的电子元件免于遭受不可预期的电压突波(surge)所干扰或破坏,其中电压突波例如是静电放电、雷电感应以及感应电压。因此,现今晶闸管元件被应用于许多电子装置,例如数据机、通用性串行总线(universalserialbus,usb)、非对称数字用户回路(asymmetricdigitalsubscriberline,adsl)、路由器(router)以及数字视频转换盒(set-topbox,stb)等。

现有的晶闸管制作方法效率较低,使用寿命短。



技术实现要素:

本发明的目的提供一种基于光电集成的光控功率晶闸管,解决上述现有技术问题中的一个或者多个。

根据本发明的一个方面,提供一种基于光电集成的光控功率晶闸管,包括以下制作步骤:

s1、在p-离子的半导体衬底内进行n-离子和p-离子的注入,制作第一p阱、第一n阱;在n-离子的半导体衬底内进行p-离子和n-离子的注入,制作第二p阱、第二n阱;

s2、第一次加热处理进行第一、二p阱与第一、二n阱的结推进;

s3、将第一p阱和第二n阱进行导电粘结,将第二p阱和第一n阱进行导电粘结;

s4、在两个所述p阱与所述n阱中注入n+离子和p+离子;

s5、第二次加热处理激活所述n+离子和所述p+离子;

s6、对半导体衬底进行深槽隔离。

在一些实施方式中:所述第一次加热处理的温度为1050℃,加热时间为20min,之后依次进行慢速退火和快速退火。

在一些实施方式中:所述慢速退火将温度降至600℃,退火时间为7min。

在一些实施方式中:所述快速退火温度降至常温,退火时间为30s。

在一些实施方式中:所述第二次加热处理的温度为850℃,加热时间为10min,之后依次进行快速退火和慢速退火

在一些实施方式中:所述快速退火温度降至500℃,退火时间为20s。

在一些实施方式中:所述慢速退火将温度降至常温,退火时间为5min。

本发明的晶闸管使用寿命长,制作方法简单,制作效率高。

具体实施方式

下面对本发明作进一步详细说明。

一种基于光电集成的光控功率晶闸管,包括以下制作步骤:

s1、在p-离子的半导体衬底内进行n-离子和p-离子的注入,制作第一p阱、第一n阱;在n-离子的半导体衬底内进行p-离子和n-离子的注入,制作第二p阱、第二n阱;

s2、第一次加热处理进行第一、二p阱与第一、二n阱的结推进;

s3、将第一p阱和第二n阱进行导电粘结,将第二p阱和第一n阱进行导电粘结;

s4、在两个所述p阱与所述n阱中注入n+离子和p+离子;

s5、第二次加热处理激活所述n+离子和所述p+离子;

s6、对半导体衬底进行深槽隔离。

第一次加热处理的温度为1050℃,加热时间为20min,之后依次进行慢速退火和快速退火。

慢速退火将温度降至600℃,退火时间为7min。

快速退火温度降至常温,退火时间为30s。

第二次加热处理的温度为850℃,加热时间为10min,之后依次进行快速退火和慢速退火

快速退火温度降至500℃,退火时间为20s。

慢速退火将温度降至常温,退火时间为5min。

综上所述,本发明的晶闸管使用寿命长,制作方法简单,制作效率高。

以上所述仅是本发明的一种实施方式,应当指出,对于本领域普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干相似的变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围之内。



技术特征:

技术总结
本申请公开了一种基于光电集成的光控功率晶闸管,包括以下制作步骤:S1、在P‑离子的半导体衬底内进行N‑离子和P‑离子的注入,制作第一P阱、第一N阱;在N‑离子的半导体衬底内进行P‑离子和N‑离子的注入,制作第二P阱、第二N阱;S2、第一次加热处理进行第一、二P阱与第一、二N阱的结推进;S3、将第一P阱和第二N阱进行导电粘结,将第二P阱和第一N阱进行导电粘结;S4、在两个所述P阱与所述N阱中注入N+离子和P+离子;S5、第二次加热处理激活所述N+离子和所述P+离子;S6、对半导体衬底进行深槽隔离。由此,晶闸管使用寿命长,制作方法简单,制作效率高。

技术研发人员:顾芳
受保护的技术使用者:江苏明芯微电子股份有限公司
技术研发日:2018.11.29
技术公布日:2019.02.05
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