技术总结
本实用新型提供一种排气装置、工艺腔和半导体加工设备，所述排气装置包括联锁机构、管道阀门和排气管道，在排除残余气体时，不需要将腔盖完全拿走，只要将腔盖在腔室上升起一条缝隙，即可触发所述联锁机构，进而开启所述管道阀门，通过所述排气管道将所述腔室和一排气系统连通，从而将所述腔室内的残余气体及时抽走，避免了将腔盖替换为定期维护盖子来去除残余气体时由于气体大量泄漏而导致的气体探测器误报警，同时还能够提高腔室的清洁效率和使用效率。本实用新型的工艺腔和半导体加工设备，由于采用了本实用新型的排气装置，能够方便、快速的去除腔室内的残余气体，避免气体探测器误报警，提高腔室的清洁效率和使用效率。
技术研发人员：马风柱;薛荣华;阚保国
受保护的技术使用者：德淮半导体有限公司
技术研发日：2018.03.02
技术公布日：2018.10.26