可实现集束晶圆级老化的芯片、晶圆的制作方法

文档序号:15769847发布日期:2018-10-26 20:56阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种可实现集束晶圆级老化的芯片,包括芯片(1),其特征在于:

还包含两根引线(2),两根引线(2)分别从芯片(1)的Vdd端和Vss端引出至芯片边缘。

2.一种可实现集束晶圆级老化的晶圆,包括晶圆本体(3)和阵列在晶圆本体(3)上的多个芯片(1),其特征在于:

所述晶圆本体(3)上还设有测试区(4);测试区(4)包括Vdd端和Vss端;

所有芯片(1)还包含两根引线(2),两根引线(2)分别从芯片(1)的Vdd端和Vss端引出至芯片边缘;所有芯片(1)的Vdd端通过引线(2)与测试区(4)的Vdd端连接,所有芯片(1)的Vss端通过引线(2)与测试区(4)的Vss端连接。

3.根据权利要求2所述的一种可实现集束晶圆级老化的晶圆,其特征在于:所述晶圆本体(3)上设有划片槽(5),所有引线(2)布置在划片槽(5)内。

4.根据权利要求2或3所述的一种可实现集束晶圆级老化的晶圆,其特征在于:所述晶圆本体(3)划分有多个芯片集束群(6),每个芯片集束群(6)包括多个芯片(1);每个芯片集束群(6)对应一个测试区(4),或多个芯片集束群(6)对应一个测试区(4),或所有芯片集束群(6)对应一个测试区(4)。

5.根据权利要求4所述的一种可实现集束晶圆级老化的晶圆,其特征在于:所述测试区(4)设有1~4个Vdd端口以及相应数量的Vss端口。

6.根据权利要求5所述的一种可实现集束晶圆级老化的晶圆,其特征在于:所述测试区(4)设有2个或4个Vdd端口。

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