一种真空吸笔的制作方法

本实用新型属于半导体制造设备领域，具体涉及一种真空吸笔。

背景技术：

图1，是现有技术中的一种真空吸笔的结构示意图，请参考图1，目前在硅片的抛光工艺制造过程中使用的真空吸笔，其包括气体通道管部1以及与气体通道管部1的一端相连的吸盘2，气体通道管部1的另一端连接真空气源3，气体通道管部1包括一手持部4，所述手持部4上设置有一用于阻断真空的按钮5。

在硅片进行双面抛光时，需要将硅片放入游星轮的卡槽内。由于在机台上片和下片时使用的真空气源设备较大，需要在抛光设备旁边追加真空气源3，且由于真空气源3的位置固定不变，限制了导致作业员的操作区域，对生产效率造成影响。

此外，作业员在使用时需要注意手持部4不能接触硅片，操作费事费力而且可能对硅片造成损伤，降低了生产良率和生产效率。

技术实现要素：

本实用新型的目的之一在于提供一种真空吸笔，以解决现有技术中的真空吸笔导致的生产效率低的问题。

本实用新型的另一目的在于提高抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种真空吸笔，用于吸放硅片，包括手持部和吸盘，所述吸盘密封连接于所述手持部的一个端面上，所述吸盘为软膜材质，所述吸盘远离所述手持部的表面向内凹陷形成一吸气槽，所述吸盘上开设有一与吸气槽相连通的气流通道，所述手持部上开设有一通气孔，所述手持部的内部开设有一连通所述通气孔和所述气流通道的气体通道。

优选地，所述手持部的材质为非金属材质。

优选地，所述手持部的材质为PVC材质。

优选地，所述手持部沿垂直于其长度方向的截面形状为圆形或椭圆形。

优选地，所述吸盘的材质为防静电且不挂尘的软膜材质。

优选地，所述吸盘的材质为硅胶材质。

优选地，所述吸盘的形状为片状或喇叭状。

优选地，所述通气孔位于所述手持部的侧壁上。

优选地，所述通气孔位于所述手持部的另一个端面上。

优选地，所述气流通道的中心线与所述气体通道的中心线共线。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种真空吸笔，用于吸放硅片，包括手持部和吸盘，所述吸盘密封连接于所述手持部的一个端面上，所述吸盘为软膜材质，所述吸盘远离所述手持部的表面向内凹陷形成一吸气槽，所述吸盘上开设有一与吸气槽相连通的气流通道，所述手持部上开设有一通气孔，所述手持部的内部开设有一连通所述通气孔和所述气流通道的气体通道。硅片通过真空吸笔被吸附于吸盘上，软膜材质的吸盘受挤压，吸盘孔内空气排出而形成真空或半真空状态，通过挤压吸盘的吸气槽和松放通气孔来控制吸盘真空，从而达到移取硅片的目的，实现了真空吸笔的小型化，使得作业员可以单手进行操作，提高了生产效率且使用简单方便，不需要额外的真空气源，降低了生产成本。

进一步，所述手持部的材质为非金属材质，避免对硅片造成污染，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述吸盘的材质为防静电且不挂尘的软膜材质，避免了在硅片的表面产生静电、污渍和微尘，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

附图说明

图1是现有技术中的一种真空吸笔的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种真空吸笔的结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的另一种真空吸笔的结构示意图；

其中，1-气体通道管部；2-吸盘；3-真空气源；4-手持部；5-按钮；10-手持部；11-吸盘；12-通气孔；13-气体通道。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的一种真空吸笔作进一步详细说明。根据权利要求书和下面说明，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。附图中相同或相似的附图标记代表相同或相似的部件。

图2，是本实用新型实施例提供的一种真空吸笔的结构示意图。请参考图2，一种真空吸笔，用于吸放硅片，包括手持部10和吸盘11，所述吸盘11密封连接于所述手持部10的一个端面上，所述吸盘11与所述手持部10的一个端面之间的连接方式可以采用胶剂进行胶接，或者，所述吸盘11套接于所述手持部10的一个端面上，所述吸盘11为软膜材质，所述吸盘11远离所述手持部的表面向内凹陷形成一吸气槽，所述吸盘11上开设有一与吸气槽相连通的气流通道，所述手持部10上开设有一通气孔12，所述手持部10的内部开设有一连通所述通气孔12和所述气流通道的气体通道13。硅片通过真空吸笔被吸附于吸盘11上，软膜材质的吸盘11受挤压，吸盘11孔内空气排出而形成真空或半真空状态，通过挤压吸盘11的吸气槽和松放通气孔12来控制吸盘11真空，从而达到移取硅片的目的，实现了真空吸笔的小型化，使得作业员可以单手进行操作，提高了生产效率且使用简单方便，不需要额外的真空气源，降低了生产成本。

进一步，所述手持部10的材质为非金属材质，避免对硅片造成污染，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述手持部10的材质为PVC材质，有效避免了对硅片造成污染，同时采用PVC材质的手持部10的表面光滑，可以有效避免在进行吸附操作时擦伤硅片，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述手持部10沿垂直于其长度方向的截面形状为圆形或椭圆形，圆形和椭圆形比较符合人体工学，从而可以最大程度的契合人体的自然形态，降低作业员的疲劳感，从而提高了生产效率，应该意识到，这样的限定仅用于举例说明所述手持部10沿垂直于其长度方向的截面形状，该截面形状也可以为近圆形等形状。

进一步，所述吸盘11的材质为防静电且不挂尘的软膜材质，软膜材质的吸盘11受挤压，吸盘11孔内空气排出而形成真空或半真空状态，避免了在硅片的表面产生静电、污渍和微尘，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述吸盘11的材质为硅胶材质，避免对硅片造成损伤，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述吸盘11的形状为片状或喇叭状，应该意识到，这样的限定仅用于举例说明所述吸盘11的结构，所述吸盘11的形状也可以为半球状等内部具有可以形成吸气槽的其他结构。

进一步，所述通气孔12位于所述手持部10的侧壁上，便于操作使用，以提高生产效率，应该意识到，这样的限定仅用于举例说明所述真空吸笔的结构，图3，是本实用新型实施例提供的另一种真空吸笔的结构示意图，请参考图3，所述通气孔12也可以位于所述手持部10的另一个端面上。

进一步，所述气流通道的中心线与所述气体通道13的中心线共线，应该意识到，这样的限定仅用于举例说明所述真空吸笔的结构，所述气流通道的中心线与所述气体通道13的中心线也可以设置为不共线。

综上所述，本实用新型提供了一种真空吸笔，用于吸放硅片，包括手持部和吸盘，所述吸盘密封连接于所述手持部的一个端面上，所述吸盘为软膜材质，所述吸盘远离所述手持部的表面向内凹陷形成一吸气槽，所述吸盘上开设有一与吸气槽相连通的气流通道，所述手持部上开设有一通气孔，所述手持部的内部开设有一连通所述通气孔和所述气流通道的气体通道。硅片通过真空吸笔被吸附于吸盘上，软膜材质的吸盘受挤压，吸盘孔内空气排出而形成真空或半真空状态，通过挤压吸盘的吸气槽和松放通气孔来控制吸盘真空，从而达到移取硅片的目的，实现了真空吸笔的小型化，使得作业员可以单手进行操作，提高了生产效率且使用简单方便，不需要额外的真空气源，降低了生产成本。

进一步，所述手持部的材质为非金属材质，避免对硅片造成污染，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

进一步，所述吸盘的材质为防静电且不挂尘的软膜材质，避免了在硅片的表面产生静电、污渍和微尘，提高了抛光工艺制造过程中硅片的生产良率。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。