半导体器件及其制造方法与流程

文档序号:18460292发布日期:2019-08-17 01:58阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明实施例提供一种半导体器件及其制造方法,包括外延层,具有相对的第一表面和第二表面;基区,由第一表面向外延层内部延伸成型;发射区,由第一表面向基区内部延伸成型;盲孔,形成在外延层内且由第二表面向外延层内部凹陷成型;集电区,围绕盲孔设置在外延层的与盲孔侧壁和底面对应的区域;第二集电极,设置于盲孔的朝向自身中空部的表面;第一集电极,设置于第二表面,第二集电极与第一集电极电连接。本发明实施例提供的半导体器件能够减短关断时间,降低导通压降,提高电导调制效果。

技术研发人员:崔京京;章剑锋
受保护的技术使用者:瑞能半导体科技股份有限公司
技术研发日:2019.06.14
技术公布日:2019.08.16
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