一种新型单面发光LED的制造方法与流程

文档序号:20036079发布日期:2020-02-28 11:12阅读:371来源:国知局
一种新型单面发光LED的制造方法与流程

本发明涉及led封装技术领域,特别是一种新型单面发光led的制造方法。



背景技术:

现有单面发光led器件多采用先在芯片正面贴pig或pis,然后在芯片四个侧边点白胶,以达到遮挡侧面出光、从而实现单面发光的目的。但此种制造方法,存在以下缺点:点白胶效率较低,胶量不易控制,白胶胶面不平整,pig/pis上容易出现爬白胶的情况。



技术实现要素:

为解决上述问题,本发明的目的是提供一种新型单面发光led的制造方法,实现白胶涂抹均匀,胶面平整。

本发明实施例中采用以下方案实现:提供一种新型单面发光led的制造方法,按照以下步骤实现:

步骤s1:将led芯片安装在基板上完成共晶半成品材料的制备,并配备好白胶;

步骤s2:通过层压白胶工艺或涂覆白胶工艺,将白胶粘贴或是涂覆在共晶半成品上,完成led芯片四个侧面的出光遮挡;

步骤s3:通过研磨制程,使白胶与led芯片高度齐平,漏出led芯片的正面,以达到实现单面出光的目的;

步骤s4:在led芯片的正面贴pig/pis;增加扩散层或是lens;

步骤s5:通过切割等方式将材料分割成单颗led。

本发明一实施例中,所述步骤s1中的白胶为钛白粉、胶水与溶剂制成。

本发明一实施例中,所述步骤s2中

所述层压白胶工艺:使用刮膜机将配备好的白胶制成白胶胶膜,将白胶胶膜烤干,贴在共晶半成品上;

涂覆白胶工艺:使用刮膜机直接将配备好的白胶涂覆在共晶半成品上,并烤干。

本发明一实施例中,所述步骤s2中,需要控制白胶的厚度高于共晶半成平成品的芯片高度10~20um,既能保证研磨的芯片。

本发明一实施例中,所述步骤s4中,在led芯片的正面贴pig/pis,该工艺过程在制作白光的led时需要,其他颜色的不需要该工艺过程。

本发明的有益效果:本发明提供一种新型单面发光led的制造方法,可有效避免传统点胶方式,提升产能白胶胶面平整,产品出光一致性好。pig/pis上不会出现爬白胶的情况,能有效提升产品良率。有效滤掉芯片侧面杂光,利于二次光学配光。

附图说明

图1是一种新型单面发光led的制造方法流程图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步说明。

请参阅图1至,本发明提供一种新型单面发光led的制造方法,按照以下步骤实现:

步骤s1:将led芯片2安装在基板1上完成共晶半成品材料的制备,并配备好白胶3,白胶为钛白粉等+胶水+溶剂配置而成;

步骤s2:通过层压白胶3工艺或涂覆白胶3工艺,将白胶3粘贴或是涂覆在共晶半成品上,完成led芯片2四个侧面的出光遮挡;

步骤s3:通过研磨制程,使白胶3与led芯片2高度齐平,漏出led芯片2的正面,以达到实现单面出光的目的;

步骤s4:在led芯片2的正面贴pig/pis4;增加扩散或是lens;

步骤s5:通过切割等方式将材料分割成单颗led,方便应用于灯具上。

本发明一实施例中,所述步骤s1中的白胶3为钛白粉、胶水与溶剂制成。

本发明一实施例中,所述步骤s2中

所述层压白胶3工艺:使用刮膜机将配备好的白胶3制成白胶胶膜,将白胶胶膜烤干,贴在共晶半成品上;

涂覆白胶3工艺:使用刮膜机直接将配备好的白胶3涂覆在共晶半成品上,并烤干,刮膜机为现有设备这里不进行详细介绍。

本发明一实施例中,所述步骤s2中,需要控制白胶3的厚度高于共晶半成平成品的led芯片2高度10~20um,在保证能够实现出光遮挡的同时,后续研磨制程能够较快的完成,保证生产效率。

本发明一实施例中,所述步骤s4中,在led芯片2的正面贴pig/pis4,该工艺过程在制作白光的led时需要,其他颜色的不需要该工艺过程。

本发明具有以下工作原理:

现在一整面上涂抹上白胶,降低了点胶的难度,更好的控制点胶量,涂抹均匀,通过研磨可将胶面磨平,产品的平面度好,实现出光均匀,从而实现产品的出光一致性好,有白胶均匀包括led芯片的四周,有效避免了led芯片四周漏光的情况。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,不能理解为对本申请的限制,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

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