一种安装工具的制作方法

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种用于安装静电吸盘的安装工具。

背景技术：

随着半导体制造工艺的发展，等离子体处理工艺被广泛应用于半导体元器件的制程中，上述制程，如沉积、刻蚀工艺等一般是在等离子体处理装置内进行。静电吸盘(Electrostatic chuck，简称ESC)是一种适用于大气或真空环境的超洁净薄片承载体、抓取搬运设备的总称，其所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术，在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。

现有一种ESC包括上电极(up ground ring)和分气盘(shower head)，上电极为圆环形，分气盘为圆盘形。由于上电极的内径略大于分气盘的直径，因此，上电极与分气盘之间有缝隙，若缝隙不均匀则会导致刻蚀制程中产生的聚合物(polymer)聚集在上电极与分气盘之间，若聚合物掉落在正在刻蚀的晶圆上，则蚀刻晶圆的过程中容易造成缺陷，影响晶圆的良率。因此，现需一种ESC安装工具，使上电极和分气盘距离均匀，避免腔体(chamber)内的刻蚀制程失败。

技术实现要素：

针对现有技术中存在的上述问题，现提供一种安装工具。

具体技术方案如下：

本实用新型包括一种安装工具，用于静电吸盘的安装，所述安装工具包括：

一环形架，所述环形架上设有多个安装孔，多个所述安装孔沿所述环形架的周向均匀设置；

多个挂钩，均布于所述环形架的周向外侧，所述挂钩包括钩挂部，所述多个挂钩的所述钩挂部朝向所述环形架的同一面；

一环形凸缘，设置于所述环形架的与所述钩挂部同向的一面的外沿。

优选的，所述挂钩包括突出部，所述突出部一端自所述环形架的周向外侧径向伸出，另一端连接所述钩挂部。

优选的，所述钩挂部包括垂直部及水平部；

所述垂直部的一端连接所述突出部，另一端连接所述水平部；

所述水平部一端连接所述垂直部远离所述突出部的一端，并向所述环形架方向延伸。

优选的，所述水平部的长度与所述突出部长度相同。

优选的，所述水平部朝向所述环形架的一端具有第一弧面，所述第一弧面与所述环形架外周面延伸形成的柱面适配；

所述水平部背向所述环形架的一端具有第二弧面。

优选的，所述水平部设置有与所述环形架周向同心的弧形孔。

优选的，所述安装工具用于将所述静电吸盘安装到一腔体，所述弧形孔的位置及尺寸与所述腔体内的定位销位置及尺寸适配。

优选的，所述挂钩设置有三个。

优选的，所述静电吸盘包括分气盘，所述环形凸缘的内径与所述分气盘适配。

优选的，所述静电吸盘包括圆环形的上电极，所述环形凸缘的外径与所述上电极的内径适配。

本实用新型技术方案的有益效果在于：提供一种静电吸盘的安装工具，使上电极和分气盘之间距离均匀，进而改善刻蚀制程的良率。

附图说明

图1为本实用新型实施例中静电吸盘的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中安装工具的正向结构示意图；

图3为本实用新型实施例中安装工具的背向结构示意图；

图4为本实用新型实施例中安装工具的装配示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。

本实用新型包括一种静电吸盘的安装工具，用于静电吸盘的安装，如图2与图3所示，安装工具包括：

一环形架1，环形架上设有多个安装孔10，多个安装孔10沿环形架1的周向均匀设置；

多个挂钩2，均布于环形架1的周向外侧，挂钩包括钩挂部，多个挂钩的钩挂部朝向环形架1的同一面；

一环形凸缘3，设置于环形架1的与钩挂部同向的一面的外沿；

挂钩包括突出部20，突出部20一端自环形架1的周向外侧径向伸出，另一端连接钩挂部；

钩挂部包括垂直部21及水平部22；

垂直部21的一端连接突出部20，另一端连接水平部22；

水平部22一端连接垂直部21远离突出部20的一端，并向环形架1方向延伸；

水平部22设置有与环形架1周向同心的弧形孔220；

安装工具用于将静电吸盘安装于一腔体，弧形孔220的位置及尺寸与腔体内的定位销位置及尺寸适配，以使定位销能在弧形孔220内滑动，进一步可以使安装工具旋转。

具体地，由于腔体(chamber)内设有三个定位销，三个定位销分别设置于腔体的四点钟方向、八点钟方向及十二点钟方向，因此，三个挂钩2均匀地设置于环形架1的侧面，以便于三个挂钩2与腔体内设置的三个定位销一一对应。在安装上电极(up ground ring)时，首先将上电极40卡入其中任意一个挂钩2内并使上电极40紧靠该挂钩2的垂直部21，再将上电极40卡入另外两个挂钩2内，并将上电极40的内侧对准环形凸缘3，以使上电极40卡合于环形凸缘的外侧。再将三个挂钩2设有弧形孔220的一面对准三个定位销，三个弧形孔220与三个定位销一一对应，通过三个弧形孔220将安装工具挂在三个定位销上，然后旋转安装工具，使安装工具上的多个安装孔10与上电极40的螺丝孔径向对齐，向腔体内部推入安装工具，参照安装孔10将螺丝锁入上电极的螺丝孔，使上电极40与安装工具的圆心重合。

具体地，如图2与图4所示，在安装分气盘41时，首先将分气盘41卡合于环形凸缘3的内侧，再将三个挂钩2设有弧形孔220的一面对准三个定位销，三个弧形孔220与三个定位销一一对应，通过三个弧形孔220将安装工具挂在三个定位销上，然后旋转安装工具，使安装工具上的多个安装孔10与分气盘41的螺丝孔对齐，向腔体内部推入安装工具，通过安装孔10将螺丝锁入分气盘41的螺丝孔，使分气盘41与安装工具的圆心重合。

具体地，环形架1的周向设有多个安装孔10，安装孔10的数量应与分气盘41的螺丝孔的数量适配，安装孔10的孔径应大于分气盘41的螺丝孔，以便于螺丝穿过安装孔10进入分气盘41的螺丝孔。

进一步地，如图1所示，分气盘41与上电极40的圆心重合，使分气盘41与上电极40之间的距离均匀，避免分气盘41与上电极40之间缝隙过大导致聚合物聚集在缝隙内(图1所示的阴影部分为分气盘41与上电极40之间的缝隙)，不便于清理，进一步地避免聚合物在刻蚀的过程中掉落在正在接受刻蚀的晶圆上而导致晶圆刻蚀失败，进一步地提高了晶圆的良率。

在一种较优的实施例中，如图2所示，水平部22的长度与突出部20的长度相同；

水平部22朝向环形架1的一端具有第一弧面，第一弧面与环形架1外周面延伸形成的柱面适配。

具体地，如图2所示，水平部22背向环形架1的一端具有第二弧面，且第二弧面的尺寸大于第一弧面。上电极40呈圆环形，由于上电极40的内径大于分气盘41的直径，通常两者的差值在0.2mm至0.3mm之间，若上电极40与分气盘41之间的距离不均匀势必会导致两者之间某一侧的缝隙过大，进而导致聚合物聚集在缝隙内，若在刻蚀的过程中，聚合物掉落在晶圆上，则会导致晶圆缺陷，进一步地影响晶圆的良率。

具体地，如图3所示，在安装静电吸盘的过程中，将上电极40的内侧卡合于环形凸缘3的外侧，同时，通过三个挂钩2的突出部20支撑上电极40，以使上电极40卡合于安装工具内。进一步地，使用安装工具可以使上电极40与分气盘41在安装过程中处于同一圆心上，进而使上电极40与分气盘41之间的距离均匀，防止聚合物聚集于缝隙内，进一步提高晶圆的良率。

在一种较优的实施例中，环形凸缘3的内径与静电吸盘的分气盘41适配；

环形凸缘3的外径与静电吸盘的上电极40的内径适配。

具体地，如图4所示，在安装过程中，由于分气盘41卡合于环形凸缘3的内侧，因此，环形凸缘3的内径与分气盘41的直径适配；而上电极40应卡合于环形凸缘3的外侧，因此，环形凸缘3的外径与上电极40的内径适配。

本实用新型技术方案的有益效果在于：提供一种静电吸盘的安装工具，使上电极和分气盘之间距离均匀，避免聚合物聚集在缝隙内而影响刻蚀制程的良率。

以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。