技术特征：
1.一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，包括转轴(1)，其特征在于：所述的转轴(1)上部转动安装有卡盘(2)，该卡盘(2)上端中部设置有向上凸起的圆台(4)，所述的转轴(1)上端位于圆台(4)的上方设置有圆板部(3)，该圆板部(3)下端沿着边缘布置有一圈环形凸缘(5)，所述的环形凸缘(5)罩住圆台(4)。2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，其特征在于：所述的转轴(1)和圆板部(3)采用一体成型。3.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，其特征在于：所述的转轴(1)内部沿轴向竖直开设有一通孔(6)，该通孔(6)上端贯穿圆板部(3)的上端面。4.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，其特征在于：所述的卡盘(2)沿着边缘均匀开设有多个装配口(7)。5.根据权利要求1所述的一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，其特征在于：所述的卡盘(2)上端开设有圆形凹槽(8)，该卡盘(2)上端围绕着圆形凹槽(8)均匀布置有多个排水通道(9)，所述的排水通道(9)一端与圆形凹槽(8)连通，该排水通道(9)另一端贯穿卡盘(2)的外侧壁，所述的圆台(4)设置在圆形凹槽(8)底面的中部。
技术总结
本实用新型涉及一种应用于半导体清洗设备的防漏液旋转结构，包括转轴，所述的转轴上部转动安装有卡盘，该卡盘上端中部设置有向上凸起的圆台，所述的转轴上端位于圆台的上方设置有圆板部，该圆板部下端沿着边缘布置有一圈环形凸缘，所述的环形凸缘罩住圆台。本实用新型通过环形凸缘和圆台配合遮挡住卡盘内孔与转轴之间的间隙，极大程度的减少冲洗液进入到该间隙内，且整体结构不影响转轴与卡盘之间的旋转动作，也不影响其它装配关系，对半导体清洗工艺也没有影响。洗工艺也没有影响。洗工艺也没有影响。
技术研发人员：刘亮荣 刘建刚 卢锋
受保护的技术使用者：浙江金瑞泓科技股份有限公司
技术研发日：2022.09.21
技术公布日：2023/2/23