放电灯22的输出增加，但也可以预先凭经验取得成为那样的状况的时机，并每隔规定时间执行放电灯22的输出增加。关于灯的输出增加，通过测量装置确认测量光量是否达到了目标光量，但也可以使输入功率增加预先设定的恒定值。
[0143]关于使用了 DMD 32的光量调节中的使用的镜片的比例、即使用率，可以在满足曝光条件中的任意一个要素的范围内进行设定。使用率的范围取决于DMD的尺寸、像素间距、分辨率、DMD倾斜角度、光致抗蚀剂等感光体的多重曝光极限次数等。例如，可以在20%?100 %的范围内进行设定。
[0144]关于使用的镜片的使用率，可以不是连续地设定，而根据要求的光量精度阶段性(例如每隔5% )地设定。此外，也可以构成为预先根据使用率生成调光过滤数据，存储到存储器中，并根据测量出的光量与目标光量之比，选择对应的调光过滤数据。
[0145]接下来，使用图16，对第6实施方式进行说明。在第6实施方式中，自灯点亮起动开始，在一定期间内，如第5实施方式那样，使DMD作为掩模工作，使功率增加。进而，在经过一定期间后，与第I实施方式同样地进行恒定照度点亮控制。
[0146]图16是示出第6实施方式的DMD使用率以及灯功率的变化的图。
[0147]如图16所示那样，自灯起动开始起，在一定期间(功率增强期间)内，为了使灯功率增加，将DMD的使用率Dl设定为提供比不产生闪烁的初始极限功率大的功率。使用率Dl比现有那样使放电灯同轴配置的情况下的使用率D2小，投影光大幅减少。在功率增强期间中，DMD的使用率Dl不变化而为恒定。
[0148]另一方面，在使用具有多个放电灯、即设置有多个灯部的多灯式光源装置的情况下，将使用率Dl设定为提供比最大的初始极限功率值大的功率。
[0149]为了进行恒定照度控制，灯功率在灯起动刚开始后被设定为较大的值，随着时间经过，电弧辉点靠近反射镜中心轴，因此，与现有的放电灯相比，功率上升率被抑制。在图16中，以实践线K4表示本实施方式的功率变化，以虚线K3表示现有的放电灯中的功率变化。
[0150]这样，使用DMD来减少投影光量，相应地，能够实现恒定照度点亮控制的功率增加，能够在维持恒定照度的情况下实现功率增强。
[0151]在经过了使功率增强的一定期间后，将DMD使用率设定为100%。由此，功率与DMD使用率变更同时地减少，而一定期间中的功率增加幅度较小，因此，功率减少幅度与以往相比减小。由此，能够防止急剧的功率减少导致的恒定照度点亮控制的不稳定、闪烁产生。在经过一定期间后，进行第1、第2实施方式相同的恒定照度点亮控制。
[0152]这样，根据第6实施方式，在曝光装置中，在自灯起动开始起预先设定的功率增强期间内，决定DMD的使用率Dl，使DMD作为掩模/滤光器发挥作用，该曝光装置设置有光源装置，该光源装置具有沿水平方向配置的放电灯22、和反射面为旋转抛物面的反射镜21，放电灯22被配置在反射镜21的中心部、且灯中心轴E以从反射镜中心轴T起沿着铅直方向隔开距离d的方式平行地配置。进而，使功率增加，以成为恒定照度。
[0153]另外，关于灯起动刚开始之后的功率值，可以与第5实施方式同样地，基于检测出的使用率100%时的投影光的光量与目标光量来决定。
[0154]也可以替代步进重复，而应用连续的扫描方式。此外，也可以替代多重曝光方式，而采用进行单一的投射曝光的方式。此外，也可以使用DMD以外的光调制元件阵列，还能够应用放电灯以外的光源。此外，在使用掩模、中间掩模的曝光装置中，也可以另外装备DMD等光调制元件阵列作为专用滤光器件。
[0155]关于本发明，在不脱离由所附权利要求定义的本发明的主旨以及范围的情况下，能够进行各种变更、置换、替代。此外，在本发明中，无意限定于说明书所述的特定实施方式的处理、装置、制造、结构体、手段、方法以及步骤。如果是本区域技术人员，则应该认识到，能够从本发明的公开导出起到与这里所述的实施方式发挥的功能实质相同的功能或者实质发挥同等作用、效果的装置、手段、方法。因此，所附权利要求的范围希望包含在那样的装置、手段、方法的范围中。
[0156]本申请以日本申请(日本特愿2013-081666号、日本特愿2013-081663号、日本特愿2013-081670号、2013年4月9日申请)为基础申请，要求优先权，包含基础申请的说明书、附图以及权利要求的公开内容通过参照而被引用到本申请整体中。
[0157]标号说明
[0158]10:曝光装置；20:光源装置；21:反射镜；22:放电灯；50:控制器(光量调节部、照明控制部)。
【主权项】
1.一种光源装置，其特征在于，所述光源装置具有: 至少I个放电灯，所述至少I个放电灯具有以使电极轴与灯中心轴一致的方式在放电管内相对配置的电极对；以及 至少I个反射镜，所述至少I个反射镜具备具有焦点的凹形反射面，将来自所述放电灯的光导向一个方向， 所述放电灯沿着反射镜中心轴被配置， 并且所述放电灯使所述放电灯起动时的电弧辉点从与所述反射镜的焦点对应的基准位置起，沿着与反射镜中心轴垂直的方向隔开规定的距离间隔。2.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于， 所述放电灯沿着水平方向被配置， 灯中心轴位于反射镜中心轴的铅直下方。3.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于， 支承所述电极对的电极支承棒的直径处于0.3mm?0.6mm的范围内， 灯中心轴从反射镜中心轴隔开电极支承棒直径的5%?45%的距离间隔。4.根据权利要求3所述的光源装置，其特征在于， 灯中心轴从反射镜中心轴隔开电极支承棒直径的20%?25%的距离间隔。5.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于， 所述放电灯包含0.2mg/mm3以上的水银。6.根据权利要求1?5中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光源装置还具有照明控制部，该照明控制部通过调节所述放电灯的功率，进行恒定照度点亮控制， 所述照明控制部在灯初始起动时，以比初始极限功率值大规定量的功率值来驱动所述放电灯，所述初始极限功率值与不产生闪烁的初始极限光量对应。7.根据权利要求6所述的光源装置，其特征在于， 所述光源装置是具有多个放电灯和多个反射镜的多灯式光源装置， 所述照明控制部在灯初始起动时，以比多个放电灯各自的初始极限功率值中的最大初始极限功率值大的功率值来驱动所述放电灯。8.—种曝光装置，其具有权利要求1?5中的任意一项所述的光源装置，所述曝光装置的特征在于，具有: 光量测量部，其测量向曝光对象区照射的投影光的光量； 光调制元件阵列，其具有二维地排列的多个光调制元件，将来自所述光源装置的照明光投影到被描绘体的曝光对象区；以及 光量调节部，其能够通过对所述放电灯的供给功率的控制，执行投影光的恒定照度点亮控制，并控制所述多个光调制元件，调节投影光的光量， 所述光量调节部通过从灯初始起动起，在规定期间内，设定不使用的光调制元件，使投影光的光量减少。9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于， 所述光量调节部以在灯点亮起动时，提供比不产生闪烁的所述放电灯的最小极限功率大的功率的方式，设定不使用的光调制元件。10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于， 所述光源装置是具有多个放电灯和多个反射镜的多灯式光源装置， 所述光量调节部在灯点亮起动时，以比多个放电灯各自的初始极限功率值中的最大初始极限功率值大的功率值来驱动所述放电灯。11.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于， 所述光量调节部将不使用的光调制元件设定为:相对于光调制元件排列区域为大致均匀的分布且为不规则的分布。
【专利摘要】本发明的放电灯为具有沿水平方向配置的放电灯(22)和反射面为旋转抛物面的反射镜(21)的光源装置，在该光源装置中，放电灯(22)被配置在反射镜(21)的中心部，另一方面，灯中心轴(E)以从反射镜中心轴(T)起沿着铅直方向隔开距离(d)的方式平行地配置。
【IPC分类】F21S2/00, H01L21/027, F21V13/02, H01J61/20, F21Y101/00, H01J61/88, H05B41/24
【公开号】CN105144340
【申请号】CN201480020370
【发明人】金井信夫, 本多友彦, 藤原和正
【申请人】株式会社Orc制作所
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年4月9日
【公告号】WO2014167406A1