件的旋转接头300。在接头300的旋转期间，护盖342可与基座部分308以及垂直壁309共同作用以在管件弹性弯曲时，限制挠曲管部分306的移动。如前述记载，这样的限制可用来确保挠曲管部分306于可控制的范围内弯曲，因此避免管件不必要的移动，其可于构件使用时造成损坏性的摩擦。护盖342给予挠曲管部分308实体的保护，以避免直接或间接的离子束轰击旋转接头元件，包括避免任何管件、轴承/轴套移动过程中产生粒子，并避免在离子植入制程时，光阻凝结于挠曲管部分上。
[0041]图12示出在一对与图2-3中的装置200 —同使用的旋转接头300的应用。在这个实施例中，其中一个旋转接头300支援低温流体从冷却机供应至冷却平台，而其他旋转接头300支援低温流体排回冷却机中。
[0042]如上所述，揭示的旋转接头300限制挠曲管部分306，以使得其只可以挠曲的方式移动。藉由弯曲限制任何侧向的移动，因此维持禁止挠曲/展开的移动。除此之外，在运转期间，挠曲管部分306是在最高至150镑(psi)的压力下，并且易受在长期运转下所需的挠曲/展开移动变形的影响。没有这样的限制，挠曲管部分可蠕动(squirm)，造成元件不必要的摩擦，并产生不受欢迎的粒子。
[0043]如可被理解的是，揭示的旋转接头300让平台204从装置位置(图2平面处)移动至离子植入位置(举例如图3)，同时加快冷却气体流至平台或是平台后的冷却环。
[0044]应可被理解的是，目前所揭示的实施例可被应用于多种离子植入系统的任何一种，像是等离子体离子植入系统。这些系统可包括射频等离子体掺杂(RF-PLAD)系统，辉光放电等离子体掺杂(GD-PLAD)系统，以及其他类似系统。
[0045]本揭示并不限制于此处特定实施例所揭示的范围。确实，除了此处所揭示的这些实施例以外，其他多种对于本揭示修改的实施例，对于本发明所属领域的技术人员而言，经由参考上述的内容与所伴随的图示后将是显而易见。因此，其他这种实施例与修改都将落于本揭示的保护范围中。同时本发明已在不离开本发明如下所定义的专利发明范围的精神与范围的情形下，参考特定实施例、多种的修改、变化以及改变作揭示。因此，本发明并非是要限制于此所述的实施例，而是具有藉由下述的权利项或与其相等的语言所定义的全部范围。
【主权项】
1.一种旋转平台装置，其特征在于包括: 平台基座； 平台，旋转地连接至所述平台基座；以及 旋转接头，用以提供低温流体来冷却所述平台，所述旋转接头连接于所述平台基座与所述平台之间，所述旋转接头包括挠曲弹性管件，所述挠曲弹性管件具有与所述平台的非旋转位置相关的第一配置结构，以及与所述平台的旋转位置相关的第二配置结构，其中在所述第一配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第一弯曲半径，并且在所述第二配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第二弯曲半径，所述第一弯曲半径与所述第二弯曲半径相异。2.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于还包括与所述挠曲弹性管件的第一端与第二端有关的第一管连接件与第二管连接件，所述第一管连接件用来从低温流体供应源接收所述低温流体，所述第二管连接件用来供应所述低温流体至所述平台。3.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于所述旋转接头还包括在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，用来可控地限制所述挠曲弹性管件移动的夹持构件。4.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于所述旋转接头还包括具有外侧围墙的接头基座元件，所述接头基座元件在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，用来可控地限制所述挠曲弹性管件的移动。5.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于还包括连接于所述挠曲弹性管件与所述第一管连接件之间的驱动区块部分，所述驱动区块部分包括流体通道以让所述低温流体流经所述挠曲弹性管件与所述第一连通管之间。6.根据权利要求6所述的旋转平台装置，其特征在于还包括连接至所述驱动区块部分的杆，所述杆旋转地连接至所述旋转接头的基座部分，所述基座部分固定至所述平台基座。7.根据权利要求7所述的旋转平台装置，其特征在于还包括相对于所述平台固定的防护构件，所述防护构件连接至所述驱动区块部分，所述防护元件经配置以在所述平台与所述平台基座彼此相对转动时，经由所述旋转接头传送旋转力。8.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于还包括具有外侧围墙的基座构件及连接至所述基座构件的护盖，其中所述基座构件、所述外侧围墙及所述护盖经配置以在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，用来可控地限制所述挠曲弹性管件的移动。9.根据权利要求1所述的旋转平台装置，其特征在于还包括第二旋转接头用来从所述平台排出所述低温流体，所述第二旋转接头连接于所述平台基座与所述平台之间，所述第二旋转接头包括挠曲弹性管件，所述挠性弹性管件具有与所述平台的非旋转位置有关的第一配置结构，以及与所述平台的旋转位置有关的第二配置结构，其中在所述第一配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第一弯曲半径，并且在所述第二配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第二弯曲半径，所述第一弯曲半径与所述第二弯曲半径相异。10.一种旋转弯曲接头，适用于半导体制程，其特征在于所述旋转弯曲接头包括: 基座部分； 杆，旋转地连接至所述基座部分； 驱动区块部分，由第一端连接至所述杆，并且第二端连接至第一管接头；以及 挠曲弹性管件，具有第一端与第二端，所述第一端连接至所述驱动区块部分，所述第二端连接至第二管接头，其中所述挠曲弹性管件具有与所述旋转接头的非旋转位置相关的第一配置结构，及与所述旋转接头的旋转位置相关的第二配置结构，其中在所述第一配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第一弯曲半径，且在所述第二配置结构中，所述挠曲弹性管件具有第二弯曲半径，所述第一弯曲半径与所述第二弯曲半径相异。11.根据权利要求10所述的旋转弯曲接头，其特征在于所述第一管连接件用来接收来自低温流体源的低温流体，所述第二管连接件用来供应所述低温流体至平台。12.根据权利要求10所述的旋转弯曲接头，其特征在于所述旋转接头还包括夹持元件用来在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，可控地限制所述挠曲弹性管件的移动。13.根据权利要求10所述的旋转弯曲接头，其特征在于所述基座部分还具有外侧围墙可用来在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，可控地限制所述挠曲弹性管件的移动。14.根据权利要求10所述的旋转弯曲接头，其特征在于所述驱动区块部分还包括流体通道以让低温流体流经所述挠曲弹性管件与所述第一管连接件之间。15.根据权利要求10所述的旋转弯曲接头，其特征在于所述基座部分具有外侧围墙和连接至所述基座部分的护盖，其中所述基座部分、所述外侧围墙以及所述护盖经配置以在所述挠曲弹性管件于所述第一配置结构与所述第二配置结构之间移动时，可控地限制所述挠曲弹性管件的移动。
【专利摘要】揭示一种用于半导体制程应用的旋转接头。旋转接头包括用来传递低温流体至平台以在离子植入的步骤中冷却平台的挠曲弹性管件。挠曲弹性管件具有与平台的非旋转位置有关的第一配置结构，以及与平台旋转位置有关的第二配置结构。在第一配置结构中，挠曲弹性管件具有第一弯曲半径，并且在第二配置结构中，挠曲弹性管件具有第二弯曲半径，其小于第一弯曲半径。旋转接头还包括具有围墙的基座，其在挠曲弹性管件于第一与第二配置结构之间旋转时，限制挠曲弹性管件的移动。
【IPC分类】H01J37/317
【公开号】CN105190825
【申请号】CN201480013428
【发明人】亚瑟·P·瑞福
【申请人】瓦里安半导体设备公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2014年3月11日
【公告号】US9377048, US20140270905, WO2014164791A1