用于衬底对准的装置及方法_3

文档序号:9529331阅读:来源:国知局
实施例中,在根据本发明的实施例中已经彼此对准的衬底通过在所参考的专 利PCT/EP2013/056620中述及的方法而彼此夹紧。夹紧方法使用小磁铁主体来迅速、有效 且容易地固定进入接触且彼此对准的两个衬底。该两个衬底也可经由分子力而经预固定。 该夹紧也可完全以机械方式发生。
[0060] 在此处揭示装置特征的程度上,且在图的以下阐述中,该装置特征也应被视为揭 示为方法特征,且反之亦然。
【附图说明】
[0061] 本发明的其它优点、特征及细节将自使用图式对优选例示性实施例的以下阐述而 变得显而易见,该图式展示示意性视图: 图la展示根据本发明的装置的一实施例的示意性外部透视, 图lb展示根据图la的实施例的示意性剖面, 图2a展示在第一校准步骤中具有经装载校准衬底的根据图la的实施例的示意性剖 面, 图2b展示在第二校准步骤中具有经装载校准衬底的根据图la的实施例的示意性剖 面, 图2c展示在根据图2b的校准步骤中的三个可能校准情景的示意放大, 图2d展示在第三校准步骤中具有经装载校准衬底的根据图la的实施例的示意性剖 面, 图2e展示在根据图2d的校准步骤中的三个可能校准情景的示意放大, 图3a展示在根据本发明的方法的第一方法步骤中具有两个经装载衬底的根据图la的 实施例的示意性剖面, 图3b展示在根据本发明的方法的第二方法步骤中具有两个经装载衬底的根据图la的 实施例的示意性剖面, 图3c展示在根据本发明的方法的第三方法步骤中具有两个经装载衬底的根据图la的 实施例的示意性剖面, 图3d展示在根据本发明的方法的第四方法步骤中具有两个经装载衬底的根据图la的 实施例的示意性剖面, 图4a展示检测构件在第一检测单元的第一校准步骤中的视场的示意性视图, 图4b展示检测构件在第一检测单元的第二校准步骤中的视场的示意性视图, 图4c展示检测构件在第一检测单元的第三校准步骤中的视场的示意性视图, 图4d展示检测构件在第二检测单元的第一校准步骤中的视场的示意性视图, 图4e展示检测构件在第二检测单元的第二校准步骤中的视场的示意性视图, 图4f展示检测构件在第二检测单元的第三校准步骤中的视场的示意性视图。
[0062] 在附图中,用根据本发明的实施例识别本发明的优点及特征的组件符号标识该优 点及特征,用相同组件符号标识具有相同功能的组件及特征和/或具有相同动作的功能。
【具体实施方式】
[0063] 图1展示根据本发明的装置的一实施例。执行根据本发明的方法所必需的组件优 选地布置在真空密封的壳体1中,壳体1可自一侧通过盖2敞开及真空密封地关闭。待彼 此对准的第一衬底15与第二衬底15'的装载与卸载优选地透过闸门10而发生。闸门10 是真空密封的且使由壳体1及盖2形成的内部空间16与周围大气分离。
[0064] 若内部空间16与周围大气之间的不同压力条件应是支配性的,则可在闸门10的 上游和/或下游连接闸(未展示)。
[0065] 盖2优选地用于容易地接达内部空间16。在特定实施例中,可代替经由闸门10而 经由盖2来装载与卸载衬底15、15',其中可省略闸门10。
[0066] 在壳体1的中心中,存在具有第一调整单元4及第二调整单元4'的对准单元3。 在第一调整单元4上附接有可通过于第一调整单元4移动的第一座架9。由控制单元控制 该移动。第一调整单元4固定于壳体1的底部上。在第二调整单元4'上附接有可通过于 第二调整单元4'移动的第二座架9'。同样地由控制单元控制该移动。第二调整单元4'固 定于盖2上。
[0067] 第一座架9的第一安装表面9〇与第二座架9'的第二安装表面9〇'相对地布置, 且第二安装表面9〇'可与第一安装表面9〇平行对准。第一座架9用于将第一衬底15安装 并固定于第一接触表面9〇上且第二座架9'用于将第二衬底15'安装并固定于第二接触表 面9〇'上。第一接触表面9〇界定第一接触平面且第二接触表面9〇'界定第二接触平面。在 平行对准中,接触表面9〇、9〇'界定具有X方向及Y方向的X-Y平面以及正交于该X-Y平面 延续的Z方向。
[0068] 在对准单元3的两个相对侧上存在第一检测单元11及第二检测单元11'。每一检 测单元11、11'由第一固定件平移单元5及第二固定件平移单元5'以及安装于其上的第一 光学器件固定件6及第二光学器件固定件6'组成。
[0069] 光学器件固定件6、6'形成为U形,其中支脚6u、6o、6u'、6〇'各自在对准单元3的 方向上自底部6b、6b'对准或能够对准,尤其平行于X-Y平面而布置或能够平行于X-Y平面 而布置。
[0070] 成对地相对布置或可成对地相对布置且可经由光学器件平移单元7、7'、7〃、7〃' 移动的检测装置8、8'、8〃、8〃'安装于光学器件固定件6、6'上。检测装置8、8'、8〃、8〃'优 选地形成为光学器件。
[0071] 固定件平移单元5、5'用于布置在其上的光学器件固定件6、6'的大范围移动。经 由触发固定件平移单元5、5',已经彼此校准的两个检测装置8、8'以及两个检测装置8〃、 8"'可在不丢失其校准的情况下平移移动。
[0072] 光学器件平移单元7、7'、7〃、7〃'相反地用于尤其为校准检测装置8、8'、8〃、8〃'而 将检测装置8、8'、8〃、8〃'移动至尤其共同聚焦平面的点。聚焦平面经由检测装置8、8'、8〃、 8"'的聚焦而界定,其中该聚焦平面尤其包括聚焦平面走廊。单独地由每一检测单元11、 11'上的两个检测装置8、8'或两个检测装置8〃、8〃'组成的各一个检测装置对(优选地,检 测单元11、11'的所有检测装置8、8'、8"、8"')的聚焦平面被称为共同。优选地,该聚焦平 面平行于第一接触平面和/或第二接触平面和/或X-Y平面。尤其是,聚焦平面在第一接 触平面与第二接触平面之间。
[0073] 在第一校准步骤中,具有布置在相对侧上的顶部12〇上的对准标记13、13'的校准 衬底12安装并固定于第一座架9上。对准标记13、13'优选地布置在周边区域中,在横向 周边轮廓12k上比在校准衬底12的重心处近,尤其至少两倍近,优选地四倍近。校准衬底 12优选地是透明的,使得横向于第一座架布置的检测装置8'、8"'可自底部12u面向顶部 12〇 (图2a)测量对准标记13、13'。
[0074] 在对准位置中,X方向上的第一对准标记13与第一检测单元11的光轴14、14'间 隔距离d,而X方向上的第二对准标记13'与第二检测单元11'的光轴14〃、14〃'间隔对应 于距离d的距离d'。
[0075] 在根据图2b的第二校准步骤中,第一座架9经由第一调整设备4沿着X-Y平面在 X方向上经由对应于距离d的行进路径移动至第一校准位置中,第一对准标记13在第一检 测单元11的两个检测装置8、8'的视场19、19'(参见图4a至图4f)中布置在该第一校准 位置中。
[0076] 在检测装置8、8'的两个光轴14、14'的交叉点不布置在第一对准标记13中的程 度上,通过于光学器件平移单元7、7'移动两个检测装置8、8',直至两个光轴14、14'的交叉 点与校准衬底12的第一对准标记13重合(参见图2c,中间)。在一尤其有利的实施例中, 两个光轴14、14'通过于光学器件平移单元7、7'而彼此在同一条直线上对准(参见图2c, 右侧)。
[0077] 在第三校准步骤中,第一座架9经由第一调整设备4沿着X-Y平面在X方向上经 由对应于距离d'的行进路径移动至与第一校准位置相对的第二校准位置中,以便将第二 对准标记13'带至第二检测单元11'的两个检测装置8〃、8〃'的视场19"、19〃'中(图2d)。
[0078] 在检测装置8〃、8〃'的两个光轴14"、14〃'的交叉点不布置在第二对准标记13'中 的程度上,通过于光学器件平移单元7〃、7〃'移动两个检测装置8〃、8〃',直至两个光轴14〃、 14〃'的交叉点与校准衬底12的第二对准标记13'重合(图2e,中间)。在一尤其有利的 实施例中,两个光轴14、14'通过于光学器件平移单元7〃、7〃'而彼此在同一条直线上对准 (图2e,右侧)。
[0079] 该校准方法也可自具有各别视场19、19'、19〃、19〃'的检测装置8、8'、8〃、8〃'的观 点观察。图4a至图4f展示上文所阐述的校准步骤。在第一校准步骤中,对准标记13、13' 不在视场19、19'、19"、19〃'中,使得该视场是空的(参见图4a、图4d)。
[0080] 在第二校准步骤中,对准标记13移动至两个光学器件8、8'的视场19、19'中(图 4b)。在视场19、19'中的对准标记13成像模糊和/或不在中心的程度上,经由各别检测装 置8、8'的平移和/或旋转设定,经由经指配光学器件平移单元7、7'和/或聚焦而实现高 分辨率和/或置于中心(参见图4c)。这受控制单元控制。
[0081] 类似于第二校准步骤,第三校准步骤通过检测单元11'在相对侧上运行(参见图 4e、图 4f) 〇
[0082] 在该校准方法中判定的数据(尤其聚焦平面的X、Y和/或Z位置以及光轴14、
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